마스크형 안구 내 임플란트 및 렌즈(MASKED INTRAOCULAR IMPLANTS AND LENSES)

(19) 대한민국특허청(KR)
(12) 등록특허공보(B1)
(45) 공고일자 2017년11월10일
(11) 등록번호 10-1796801
(24) 등록일자 2017년11월06일
(51) 국제특허분류(Int. Cl.)
A61F 2/16 (2006.01)
(21) 출원번호 10-2012-7006580
(22) 출원일자(국제) 2010년08월13일
심사청구일자 2015년08월11일
(85) 번역문제출일자 2012년03월13일
(65) 공개번호 10-2012-0093837
(43) 공개일자 2012년08월23일
(86) 국제출원번호 PCT/US2010/045548
(87) 국제공개번호 WO 2011/020078
국제공개일자 2011년02월17일
(30) 우선권주장
61/233,794 2009년08월13일 미국(US)
61/233,804 2009년08월13일 미국(US)
(56) 선행기술조사문헌
US5120120 A*
US04976732 A*
JP2007516019 A*
WO2002039930 A1*
*는 심사관에 의하여 인용된 문헌
(73) 특허권자
아큐포커스, 인크.
미국 캘리포니아주 92618 어빈 스윗트 200 디스커
버리 32
(72) 발명자
크리스티 브루스
미국 캘리포니아주 클레어몬트 카디날 커슁 4472
코스미나인, 알렉세이 엔.
미국 캘리포니아주 어바인 스위트 200 디스커버리
32
(뒷면에 계속)
(74) 대리인
김명신, 김민철, 박지하, 박장규
전체 청구항 수 : 총 75 항 심사관 : 이훈재
(54) 발명의 명칭 마스크형 안구 내 임플란트 및 렌즈
(57) 요 약
본 발명은 안구 내 임플란트 및 안구 내 임플란트의 제조 방법에 관한 것으로서,
안구 내 임플란트는 환자 눈의 초점 심도를 증가시킴으로써 환자의 시력을 향상시킬 수 있으며, 특히 안구 내 임
플란트는 비교적 높은 투과 중심 영역, 예컨대 투명한 렌즈 또는 애퍼처를 둘러싸는 비교적 낮은 가시 광선 투과
율을 갖는 고리형 영역을 갖는 마스크를 포함할 수 있으며, 이러한 구성은 초점 심도를 증가시키기 위해서 망막
을 통과하는 빛에 대한 작은 애퍼처가 있는 고리형 마스크를 제공하기 위해 조정되고, 안구 내 임플란트는 굴절
보정을 위한 광출력을 가질 수 있으며, 안구 내 임플란트는 예를 들면 전방 또는 후방 챔버에 임플란트와 같은
눈에 광학 경로를 따르는 임의의 위치에 이식될 수 있는 것이 특징이다.
대 표 도 - 도2b
등록특허 10-1796801
- 1 -
(72) 발명자
피터슨 에드워드 더블유.
미국 캘리포니아주 코토 드 카자 반 고흐 웨이 47
반 드 폴 코리나
미국 캘리포니아주 오렌지 칼톤 애비뉴 941 이.
등록특허 10-1796801
- 2 -
명 세 서
청구범위
청구항 1
안구 내 장치(intraocular device)에 있어서,
렌즈 바디의 광축을 따라 렌즈 바디의 두께를 감소시키도록 구성된 전이 구역을 구비한 표면을 포함하는 단초점
렌즈 바디; 및
상기 전이 구역을 통과하는 빛에 의해 생성되는 광학수차의 상당 부분을 차단하기 위해 빛의 적어도 일부분이
상기 전이 구역을 통과하는 것을 방지하도록 구성된 마스크를 포함하는, 안구 내 장치.
청구항 2
제 1 항에 있어서,
상기 표면은 상기 렌즈 바디의 후방 표면(posterior surface)인, 안구 내 장치.
청구항 3
제 1 항에 있어서,
상기 표면은 상기 렌즈 바디의 전방 표면(anterior surface)인, 안구 내 장치.
청구항 4
제 1 항에 있어서,
상기 표면의 내측 영역은 볼록하며, 상기 전이 구역은 오목하고, 상기 표면의 외측 영역은 볼록하며, 상기 전이
구역은 상기 내측 영역과 상기 외측 영역에 인접한, 안구 내 장치.
청구항 5
제 1 항에 있어서,
상기 표면의 내측 영역과 외측 영역은 양의 도수(positive optical power)를 가지며, 상기 전이 구역은 상기 내
측 영역과 상기 외측 영역에 인접한, 안구 내 장치.
청구항 6
제 1 항에 있어서,
상기 표면의 내측 영역과 외측 영역은 음의 도수(negative optical power)를 가지며, 상기 전이 구역은 상기 내
측 영역과 상기 외측 영역에 인접한, 안구 내 장치.
청구항 7
제 1 항에 있어서,
상기 표면은 내측 영역과 외측 영역을 포함하며, 상기 내측 영역의 외주는 상기 전이 구역의 내주에 의해 둘러
싸인, 안구 내 장치.
청구항 8
제 7 항에 있어서,
상기 전이 구역의 외주는 상기 외측 영역의 내주에 의해 둘러싸인, 안구 내 장치.
청구항 9
등록특허 10-1796801
- 3 -
제 1 항에 있어서,
상기 표면은 내측 영역과 외측 영역을 포함하며, 상기 내측 영역의 범위에서의 상기 렌즈 바디의 최대 두께는
상기 전이 구역의 범위에서의 상기 렌즈 바디의 최대 두께 미만인, 안구 내 장치.
청구항 10
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 상기 표면에 부착되는, 안구 내 장치.
청구항 11
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 상기 렌즈 바디의 상기 표면과, 상기 렌즈 바디의 제2 표면 사이에 있는, 안구 내 장치.
청구항 12
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 애퍼처(aperture) 및 상기 애퍼처에 인접한 불투명 영역을 포함하는, 안구 내 장치.
청구항 13
제 12 항에 있어서,
상기 애퍼처는 0.85 mm 내지 1.8 mm의 직경을 갖는, 안구 내 장치.
청구항 14
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 3 mm 내지 5 mm의 외경을 갖는, 안구 내 장치.
청구항 15
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 환자의 초점 심도(depth of focus)를 증가시키는, 안구 내 장치.
청구항 16
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
안구 내 장치가 눈 내에 이식된 이후 움직이는 것을 방지하기 위해, 상기 렌즈 바디에 부착된 햅틱(haptic)을
추가로 포함하는, 안구 내 장치.
청구항 17
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 복수의 구멍을 포함하고, 상기 구멍이 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키기 위해 복
수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 하나 이상을 변화시키는 것을 특징으로 하는, 안구 내 장치.
청구항 18
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크에 커플링되고, 상기 마스크로부터 상기 렌즈 바디의 외측 표면까지 연장하는 지지 부재를 더 포함
하는, 안구 내 장치.
청구항 19
제 18 항에 있어서,
등록특허 10-1796801
- 4 -
상기 마스크는 복수의 구멍을 포함하고, 상기 구멍이 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키기 위해 복
수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 하나 이상을 변화시키는 것을 특징으로 하는, 안구 내 장치.
청구항 20
제 19 항에 있어서,
상기 지지 부재는 복수의 구멍을 포함하고, 상기 구멍이 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키기 위해
복수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 하나 이상을 변화시키는 것을 특징으로 하는, 안구 내 장치.
청구항 21
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크에 커플링된 햅틱을 더 포함하는, 안구 내 장치.
청구항 22
안구 내 장치에 있어서,
제1 표면 및 제2 표면을 구비하는 단초점 렌즈 바디로서, 상기 제 1 표면은 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역을
포함하고, 렌즈 바디의 광축이 상기 제 1 영역을 통과하며, 상기 제 2 영역은 상기 제1 영역과 상기 제3 영역의
사이에 위치하는 단초점 렌즈 바디; 및
상기 제2 표면과, 상기 제1 표면의 상기 제2 영역의 사이에 위치하는 마스크를 포함하며,
상기 제2 영역에 이웃하고 있는 상기 제1 영역으로부터 광축에 수직이면서 상기 제2 표면에 접하는 평면까지의
거리는 제1 거리를 가지며, 상기 제2 영역에 이웃하고 있는 상기 제3 영역으로부터 상기 광축에 수직이면서 상
기 제2 표면에 접하는 평면까지의 거리는 상기 제1 거리보다 큰 제2 거리를 갖는, 안구 내 장치.
청구항 23
안구 내 임플란트에 있어서,
후방 표면 및 전방 표면을 포함하는 외측 표면을 포함하는 임플란트 바디;
상기 임플란트 바디의 후방 표면 및 전방 표면 사이에 위치하며, 애퍼처를 포함하는 불투명 마스크; 및
상기 마스크에 커플링되고, 상기 마스크로부터 상기 임플란트 바디의 외측 표면까지 연장하며, 상기 외측 표면
을 넘어 연장되지 않는 지지 부재를 포함하는, 안구 내 임플란트.
청구항 24
제 23 항에 있어서,
상기 지지 부재는 상기 마스크로부터 상기 임플란트 바디의 후방 표면까지 연장되는, 안구 내 임플란트.
청구항 25
제 24 항에 있어서,
상기 마스크에 이웃하고 있는 상기 지지 부재의 제1 영역은 상기 마스크에 평행한 제1 단면적을 가지며, 상기
후방 표면에 이웃하고 있는 상기 지지 부재의 제2 영역은 상기 제1 단면적보다 작은 상기 마스크와 평행한 제2
단면적을 갖는, 안구 내 임플란트.
청구항 26
제 23 항 내지 제 25 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 지지 부재는 상기 안구 내 임플란트로부터 제거가능하도록 구성된, 안구 내 임플란트.
청구항 27
제 23 항 내지 제 25 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
등록특허 10-1796801
- 5 -
상기 지지 부재는 복수의 구멍을 포함하고, 상기 구멍이 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키기 위해
복수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 하나 이상을 변화시키는 것을 특징으로 하는, 안구 내 임플란
트.
청구항 28
안구 내 임플란트의 제조 방법에 있어서,
불투명 마스크로서, 애퍼처 및 상기 마스크에 커플링된 하나 이상의 지지 부재를 포함하는 불투명 마스크를 제
공하는 단계;
몰드 챔버 내에 상기 마스크를 위치시키되, 하나 이상의 지지 부재가 상기 몰드 챔버에 커플링되어 상기 마스크
가 움직이는 것에 저항하도록 위치시키는 단계; 및
상기 몰드 챔버 내로 렌즈 재료를 유입시키되, 상기 마스크의 적어도 일부분이 상기 렌즈 재료내에 매입되도록
상기 몰드 챔버 내로 렌즈 재료를 유입시키는 단계를 포함하는, 방법.
청구항 29
제 28 항에 있어서,
상기 렌즈 재료를 주입한 이후에 하나 이상의 지지 부재의 적어도 일부분을 제거하는 단계를 더 포함하는,
방법.
청구항 30
안구 내 임플란트를 제조하는 방법에 있어서,
몰드 챔버의 표면에 애퍼처를 포함하는 불투명 마스크를 제공하는 단계;
상기 불투명 마스크를 렌즈 재료로 부분적으로 매입시키기 위해 상기 몰드 챔버 내로 상기 렌즈 재료를 유입시
키는 단계; 및
상기 마스크에 커플링된 양면 볼록 광학부(biconvex optic)를 형성하기 위해 상기 렌즈 재료를 경화시키는 단계
를 포함하는, 방법.
청구항 31
안구 내 임플란트를 제조하는 방법에 있어서,
애퍼처 영역의 둘레에 고리형 캐비티를 형성하기 위해 광학부 표면의 일부분을 제거하는 단계;
불투명 재료로 상기 캐비티를 적어도 부분적으로 채우는 단계; 및
상기 광학부의 애퍼처 영역의 두께를 감소시키기 위해 상기 광학부의 중심 영역 및 상기 애퍼처 영역 중 적어도
일부를 제거하는 단계를 포함하며,
상기 불투명 재료의 적어도 일부가 상기 광학부 표면 상에 잔류하여 불투명 마스크를 형성하는, 방법.
청구항 32
안구 내 임플란트를 제조하는 방법에 있어서,
광학부의 전방 표면 안으로 형성되고, 애퍼처 영역을 둘러싸는 고리형 캐비티를 상기 광학부에 제공하는 단계;
및
불투명 재료로 상기 캐비티를 적어도 부분적으로 채우는 단계를 포함하며;
상기 불투명 재료 중 적어도 일부가 상기 광학부의 전방 표면 상에 잔류하여 불투명 마스크를 형성하는, 방법.
청구항 33
안구 내 임플란트를 제조하는 방법에 있어서,
몰드 캐비티 내에, 애퍼처가 있는 불투명 마스크를 위치시키되, 상기 마스크가 상기 몰드 캐비티와 물리적으로
등록특허 10-1796801
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접촉하지 않도록 위치시키는 단계; 및
상기 마스크 주위에 임플란트 바디를 형성하기 위하여, 상기 몰드 캐비티 내로 임플란트 바디 재료를 주입하는
단계를 포함하는, 방법.
청구항 34
제 33 항에 있어서,
상기 마스크는 자기장에 의해 위치시키는, 방법.
청구항 35
제 33 항에 있어서,
상기 마스크는, 상기 마스크로부터 상기 몰드 캐비티의 외측 프레임까지 연장하는 와이어에 의해 위치시키는,
방법.
청구항 36
안구 내 임플란트에 있어서,
바디 재료를 포함하는 임플란트 바디; 및
상기 임플란트 바디 내에 위치하는 애퍼처를 갖는 마스크로서, 상기 마스크의 후방 표면 및 전방 표면 사이에서
연장되는 복수의 구멍을 포함하는 마스크를 포함하며,
상기 바디 재료는 복수의 마스크 구멍을 통해 연장하며, 추가로 상기 복수의 구멍은 상기 구멍이 가시성 회절
패턴을 생성하는 경향을 감소시키기 위해 복수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 하나 이상을 변화시
키는 것을 특징으로 하는, 안구 내 임플란트.
청구항 37
제 36 항에 있어서,
상기 복수의 구멍은 불규칙적인 위치에 배치되는, 안구 내 임플란트.
청구항 38
제 36 항에 있어서,
복수의 구멍은 제1 구멍 크기, 형상 또는 간격을 가지며, 적어도 또 다른 복수의 구멍은 상기 제1 구멍 크기,
형상 또는 간격과는 상이한 제2 구멍 크기, 형상 또는 간격을 갖는, 안구 내 임플란트.
청구항 39
제 36 항에 있어서,
제1 복수의 구멍은 제1 구멍 크기를 가지며, 제2 복수의 구멍은 제1 구멍 크기와는 상이한 제2 구멍 크기를 갖
고, 제3 복수의 구멍은 제1 구멍 크기 및 제2 구멍 크기와는 상이한 제3 구멍 크기를 갖는, 안구 내 임플란트.
청구항 40
제 36 항에 있어서,
안구 내에 이식된 후 안구내 임플란트를 지지하기 위하여 상기 임플란트 바디에 부착된 하나 이상의 햅틱을 추
가로 포함하는, 안구내 임플란트.
청구항 41
제 36 항에 있어서,
상기 마스크는 환자의 초점 심도를 증가시키는, 안구내 임플란트.
등록특허 10-1796801
- 7 -
청구항 42
제 36 항에 있어서,
상기 애퍼처는 환자 눈의 초점 심도를 증가시키도록 구성된 단일 애퍼처를 포함하는, 안구내 임플란트.
청구항 43
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 애퍼처는 0.85 mm 내지 1.8 mm의 직경을 갖는, 안구내 임플란트.
청구항 44
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 3 mm 내지 5 mm의 외경을 갖는, 안구내 임플란트.
청구항 45
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 구멍 각각은 7 마이크론 이상 및 20 마이크론 이하의 직경을 갖는, 안구내 임플란트.
청구항 46
제 45 항에 있어서,
상기 복수의 구멍 중 적어도 일부는 10 마이크론 이상의 직경을 갖는, 안구내 임플란트.
청구항 47
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 구멍은 균일한 밀도로 위치하는, 안구내 임플란트.
청구항 48
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 구멍 각각은 최소 간격으로 이격되는, 안구내 임플란트.
청구항 49
제 36 항 내지 제 42 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 복수의 구멍 중 적어도 일부는 75㎛
2
초과 및 2000㎛
2
미만의 단면적을 갖는, 안구내 임플란트.
청구항 50
제 49 항에 있어서,
상기 복수의 구멍 중 적어도 일부의 각각의 단면적은 320㎛
2
미만인, 안구내 임플란트.
청구항 51
안구 내 임플란트에 있어서,
환자 눈의 열구(sulcus) 영역 내로 이식되도록 구성된 임플란트 바디를 포함하며,
상기 임플란트 바디는:
마스크를 형성하는 불투명 영역에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸인 애퍼처;
상기 마스크의 외주의 방사형 외측에 위치하고, 하나 이상의 외측 구멍 및 하나 이상의 연결 영역을 포함하며,
등록특허 10-1796801
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90% 이상의 입사 가시광선 투과율을 가지는 외측 구멍 영역; 및
상기 하나 이상의 연결 영역에 의해 상기 마스크에 부착된 외측 영역을 포함하는, 안구 내 임플란트.
청구항 52
안구 내 임플란트를 제조하는 방법에 있어서,
환자의 눈의 열구 영역 내로 이식되도록 구성된 임플란트 바디를 제공하는 단계;
상기 임플란트 바디 일부분을 제거함으로써, 상기 임플란트 바디에 애퍼처를 형성하는 단계; 및
상기 임플란트 바디의 외측 가장자리와, 상기 애퍼처에 이웃해 있는 불투명 마스크 영역 사이에 하나 이상의 개
구를 형성하는 단계를 포함하는, 방법.
청구항 53
안과 장치(ophthalmic device)에 있어서,
환자의 초점 심도를 증가시키도록 구성된 중앙 애퍼처를 구비하며, 전방 표면과 후방 표면을 갖고, 불투명을 포
함하는 고리형 마스크 바디; 및
복수의 연결 부재들을 포함하는 상기 안과 장치의 외측 가장자리를 포함하고,
상기 복수의 연결 부재들은:
상기 마스크 바디의 외주로부터 연장되며, 상기 마스크 바디의 외주 상의 제 1 위치로부터 상기 마스크 바디의
외주 상의 상기 제 1 위치에서 원주 방향으로 이격된 제 2 위치까지 고리 형태를 이루고, 단일 개구를 형성하는
제 1 연결 부재;
상기 마스크 바디의 외주로부터 연장되며, 상기 제 1 연결 부재로부터 원주 방향으로 떨어져 있고, 상기 마스크
바디의 외주 상의 제 3 위치로부터 상기 마스크 바디의 외주 상의 상기 제 3 위치에서 원주 방향으로 이격된 제
4 위치까지 고리 형태를 이루며, 단일 개구를 형성하는 제 2 연결 부재; 및
상기 마스크 바디의 외주로부터 연장되며, 상기 제 2 연결 부재로부터 원주 방향으로 떨어져 있고, 상기 마스크
바디의 외주 상의 제 5 위치로부터 상기 마스크 바디의 외주 상의 상기 제 5 위치에서 원주 방향으로 이격된 제
6 위치까지 고리 형태를 이루며, 단일 개구를 형성하는 제 3 연결 부재를 포함하고,
상기 안과 장치의 외측 가장자리는 원형이 아닌, 안과 장치.
청구항 54
제 53 항에 있어서,
상기 마스크 바디는 아크릴을 포함하는, 안과 장치.
청구항 55
제 53 항에 있어서,
상기 중앙 애퍼처는 2mm 미만의 직경을 갖는, 안과 장치.
청구항 56
제 53 항에 있어서,
상기 마스크 바디의 후방에 위치한 렌즈 바디를 추가로 포함하는, 안과 장치.
청구항 57
제 53 항에 있어서,
상기 마스크 바디의 주위에 형성된 렌즈 바디를 추가로 포함하는, 안과 장치.
청구항 58
등록특허 10-1796801
- 9 -
제 53 항에 있어서,
상기 마스크 바디의 후방 표면이 오목한, 안과 장치.
청구항 59
제 53 항에 있어서,
상기 중앙 애퍼처는 도수(optical power)를 갖는, 안과 장치.
청구항 60
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 제 1 연결 부재, 제 2 연결 부재, 및 제 3 연결 부재가 연결되어 통합 구조(unitary structure)를 형성하
는, 안과 장치.
청구항 61
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 제 1 연결 부재, 제 2 연결 부재, 및 제 3 연결 부재는 통합적으로 상기 마스크 바디의 전체 외주를 둘러
싸는, 안과 장치.
청구항 62
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
하나 이상의 햅틱을 추가로 포함하며, 상기 제 1 연결 부재, 제 2 연결 부재, 및 제 3 연결 부재 중 하나 이상
이 상기 하나 이상의 햅틱에 인접하여 위치하는, 안과 장치.
청구항 63
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크 바디 및 상기 연결 부재들은 평면인, 안과 장치.
청구항 64
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크 바디 및 상기 연결 부재들은 동일한 재료를 포함하는, 안과 장치.
청구항 65
제 53 항 내지 제 59 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크 바디 및 상기 연결 부재들은 단일 구조(monolithic structure)를 형성하는, 안과 장치.
청구항 66
안과 장치에 있어서,
환자의 초점 심도를 증가시키도록 구성된 중앙 애퍼처를 구비하며, 전방 표면과 후방 표면을 갖고, 불투명을 포
함하는 고리형 마스크 바디;
상기 고리형 마스크 바디를 둘러싸며, 상기 고리형 마스크 바디 주위에 위치한 하나 이상의 개구를 포함하는 외
측 구멍 영역; 및
상기 고리형 마스크 바디의 외주를 형성하며, 상기 고리형 마스크 바디와 연결되고 상기 하나 이상의 개구를 둘
러싸는 단일 일체형 구조를 포함하는 외측 영역을 포함하는, 안과 장치.
청구항 67
제 66 항에 있어서,
등록특허 10-1796801
- 10 -
상기 중앙 애퍼처는 도수를 갖는, 안과 장치.
청구항 68
제 66항에 있어서,
상기 고리형 마스크 바디는 입사 가시광선의 2% 이하를 투과시키도록 구성된, 안과 장치.
청구항 69
제 66 항에 있어서,
상기 중앙 애퍼처는 굴절 특성을 갖는, 안과 장치.
청구항 70
제 66 항에 있어서,
상기 중앙 애퍼처는 2mm 미만의 직경을 갖는, 안과 장치.
청구항 71
제 66 항 내지 제 70 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
적어도 하나의 햅틱을 추가로 포함하며, 상기 외측 영역이 상기 하나 이상의 햅틱에 인접하는, 안과 장치.
청구항 72
제 66 항 내지 제 70 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크 바디의 후방 표면은 오목한, 안과 장치.
청구항 73
제 66 항 내지 제 70 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 외측 영역은 곡선을 이루는(curved), 안과 장치.
청구항 74
제 66 항 내지 제 70 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 하나 이상의 개구는 원주 방향으로 이격된 3개의 개구를 포함하는, 안과 장치.
청구항 75
제 30 항에 있어서,
불투명 마스크를 제공하는 상기 단계는 단일 불투명 마스크를 제공하는 단계를 포함하는, 방법.
발명의 설명
기 술 분 야
본 출원은 안구 내 장치 분야에 관한 것이다. 특히, 본 출원은 초점 심도를 증가시키기 위해서 애퍼처를 갖는[0001]
안구 내 임플란트 및 렌즈(IOL)(예컨대, "마스크형" 안구 내 렌즈) 및 제조 방법에 관한 것이다.
배 경 기 술
사람의 눈은 각막이라고 불리는 투명한 외측 영역을 통해 빛을 전달하고 초점을 맞추고, 또한 수정체를 통해 이[0002]
미지의 초점을 망막 상에 맞춤으로써 시력을 제공하는 기능을 한다. 초점이 맞추어진 이미지의 품질은, 눈의
크기와 형상, 각막과 수정체의 투명도를 포함한 여러 요인에 따라 좌우된다.
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눈의 시력(optical power)은 각막과 수정체의 도수에 의해서 결정된다. 정상적이고 건강한 눈에서, 멀리 떨어[0003]
져 있는 물체의 선명한 이미지는 망막(정시안)에 형성된다. 다수의 눈에서, 멀리 떨어져 있는 물체의 이미지는
망막의 앞에 형성되거나[눈이 비정상적으로 길거나 또는 각막이 비정상적으로 가파르기 때문임](근시), 또는 망
막 뒤에 형성된다[눈이 비정상적으로 짧거나 또는 각막이 비정상적으로 평평하기 때문임](원시). 각막은 또한
비대칭이거나 또는 원환체 (toric)일 수 있으므로, 각막 난시(corneal astigmatism)라고 하는 보정되지 않는 원
통형 굴절 오류가 발생한다.
정상적으로 기능하는 사람의 눈은, 원근 조절(accommodation)이라고 알려져 있는 방법을 통해서, 가깝거나 또는[0004]
멀리 있는 물체에 선택적으로 초점을 맞출 수 있다. 원근 조절은 눈 안쪽에 있는 렌즈(이를 수정체라고 함)에
변형을 유도함으로써 이루어진다. 이러한 변형은 모양체근(ciliary muscles)이라고 불리는 근육에 의해서 유도
된다. 대부분의 사람에서, 원근 조절에 대한 역량은 나이와 함께 감소하고, 이러한 사람은 시력 교정없이는 가
까운 것을 볼 수 없다. 만약 원거리 시력도 불완전하다면, 이러한 사람에게는 통상 이중초점 렌즈(bifocal
lenses)가 처방되었다.
발명의 내용
해결하려는 과제
본 출원은 환자의 눈의 초점 심도를 증가시킴으로써 환자의 시력을 향상시키기 위한 안구 내 임플란트에 관한[0005]
것이다. 안구 내 임플란트에는 투명한 렌즈 또는 애퍼처와 같은 상대적으로 높은 투과율의 중심 영역
(transmission central portion)을 둘러싸는, 비교적 낮은 가시 광선 투과율의 환형 영역을 갖는 마스크를 포함
할 수 있다. 이러한 구조는 때로 본 명세서에서 핀-구멍 이미징(pin-hole imaging) 또는 핀-구멍 시력 교정
(pin-hole vision correction)이라 하는, 초점 심도를 증가시켜 망막까지 빛을 도달하도록 하는 작은 애퍼처를
구비한 고리형 마스크를 제공하기에 적합하다. 안구 내 임플란트는 굴절 교정을 위한 도수를 가질 수 있다.
예를 들면, 마스크는 안구내 렌즈 내에 구현되거나, 또는 안구 내 렌즈(IOL)와 결합하여 구현될 수 있다. 안구
내 임플란트는 안구의 전방(anterior chamber) 또는 후방(posterior chamber) 내의 임플란트와 같이, 눈에서의
광학 경로를 따른 어떠한 위치에도 이식될 수 있다.
IOL는 백내장(cataract)에 대해 안전하고 효과적인 수술 솔루션을 제공하도록 개발되었다. 이러한 렌즈는 백내[0006]
장에 걸린 눈의 본래 수정체를 제거한 후에 수술적으로 이식되어, 투명함(clarity)을 회복하고, 사라진 시력에
대한 대체물을 제공한다. 성공적인 IOL 임플란트에 의해 환자는 이후에 정상적인 눈이 되며, 이는 자신의 눈으
로 거리에 대해 초점을 맞춘다는 것을 의미한다. 그러나, 종래의 IOL는 서로 다른 거리에 대해서는 초점을 맞
출 수 없어, 환자는 일반적으로 가까운 물체를 명확하게 보기 위한 추가의 교정(예컨대, 독서 안경)을 필요로
하였다. 본 명세서에 기술된 안구 내 임플란트는, 초점 심도를 향상시키는 애퍼처 형태의 "마스크"를 포함함으
로써, 현재 이용가능한 IOL 이상으로 개선되었다.
과제의 해결 수단
특정 실시양태에서, 안구 내 장치는 렌즈 바디를 포함한다. 렌즈 바디는 전방 및 후방 표면을 포함한다. 후방[0007]
표면은 제1 볼록부, 제2 오목부 및 제3 볼록부를 포함한다. 제2 오목부는 제1 볼록부와 제3 볼록부와
인접한다. 제3 볼록부는 고리형이고 제2 오목부를 둘러싸며, 제2 오목부는 고리형이고, 제1 볼록부를
둘러싼다. 제1 볼록부와 전방 표면 사이의 도수는 양의 수(positive)이며, 제3 볼록부와 전방 표면 사이의 도
수도 양의 수이다. 렌즈 바디가 제2 오목부와 전방 표면 사이에 위치한 마스크를 더 포함한다.
특정 실시양태에서, 안구 내 장치의 렌즈 바디는 제1 표면과 제2 표면을 포함한다. 제1 표면의 제1 영역은 볼[0008]
록하고, 제1 표면의 제2 영역은 오목하며, 제1 표면의 제3 영역은 볼록하다. 제2 영역은 제1 영역과 제3 영역
에 인접한다. 렌즈 바디는 제1 표면의 제2 영역을 통해 빛을 통과시킴으로써 형성되는 광학수차(optical
aberrations)의 상당 부분을 차단하는 위치에 마스크를 더 포함한다.
특정 실시양태에서, 안구 내 장치는 양의 도수를 갖는 렌즈 바디를 포함한다. 상기 렌즈 바디는 외측 영역과[0009]
오목한 중심 영역을 포함한다. 오목한 중심 영역의 적어도 일부는, 외측 영역의 적어도 일부보다 두께가 더 얇
다. 렌즈 바디는 외측 영역과 오목한 중심 영역 사이의 곡선 전이 영역과 결합된 마스크를 더 포함한다.
특정 실시양태에서, 안구 내 장치를 제조하는 방법은 렌즈 바디에 제1 표면과 제2 표면을 제공하는 단계를 포함[0010]
한다. 상기 방법은 제1 표면의 제1 영역에 볼록부, 제1 표면의 제2 영역에 오목부, 및 제1 표면의 제3 영역에
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볼록부를 형성하는 단계를 더 포함한다. 제2 영역은 제1 영역과 제3 영역에 인접한다. 상기 방법은 또한 제1
표면의 제2 영역을 통과한 빛의 상당 부분을 차단하는 렌즈 바디 위치에, 마스크를 부착시키는 단계를
포함한다.
특정 실시양태에서, 안구 내 장치를 제조하는 방법은 로드(rod)의 길이를 따라서 광학적으로 투명한 내측 영역[0011]
을 갖고, 로드의 길이를 따라서 광학적으로 투명한 외측 영역을 갖고, 내측 영역과 외측 영역 사이에서 로드의
길이를 따라서 실질적으로 광학적 불투명 영역을 갖는 로드를 형성하는 단계를 포함한다. 실질적으로 불투명한
영역은 하기에 토의되는 바와 같이 중간 영역일 수 있다. 상기 방법은 또한 제1 표면과 제2 표면을 갖는 렌즈
바디를 형성하기 위해서, 로드의 길이에 대해 평행인 축에 대하여 실질적으로 수직인 평면을 따라 로드를 절단
(sectioning)하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 제1 표면의 제1 영역에 볼록면을 형성하는 단계를 포함
한다. 제1 영역은 절단된 로드의 내측 영역에 해당될 수 있다. 상기 방법은 제1 표면의 제2 영역에 오목면을
형성하는 단계를 포함한다. 제2 영역은 불투명 영역에 해당할 수 있다. 상기 방법은 제1 표면의 제3 영역에
볼록면을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 제3 영역은 외측 영역에 해당할 수 있다. 제2 영역은 제1 영역과
제3 영역에 인접한다. 일부 실시양태에서, 불투명 영역은 사용시에 불투명 영역이 제1 표면의 제2 영역을 통과
한 빛의 상당 부분을 차단하도록 위치된다.
특정 실시양태에서, 안구 내 장치를 제조하는 방법은 마스크 주변에 렌즈 바디를 형성하는 단계를 포함한다.[0012]
상기 마스크는 고리형 영역 및 애퍼처를 포함하고, 렌즈 바디는 제1 표면과 제2 표면을 포함한다. 상기 방법은
제1 표면의 제1 영역에 볼록면, 제1 표면의 제2 영역에 오목면, 및 제1 표면의 제3 영역에 볼록면을 형성하는
단계를 더 포함한다. 제2 영역은 제1 영역과 제3 영역에 인접한다. 마스크 주변에 렌즈 바디를 형성하는 단계
는, 사용시에 마스크가 제1 표면의 제2 영역을 통과한 빛의 상당 부분을 차단하도록, 렌즈 바디 내에 마스크를
위치시키는 단계를 포함한다.
특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 임플란트 바디를 포함한다. 상기 임플란트 바디는 임플란트 바디 내[0013]
핀-구멍 애퍼처, 및 실질적으로 상기 핀-구멍 애퍼처의 주변에 위치하는 마스크를 포함할 수 있다. 상기 임플
란트 바디는 실질적으로 마스크 외주의 바깥쪽에 위치하는 외측 구멍 영역을 더 포함할 수 있다. 상기 외측 구
멍 영역은 적어도 하나의 외측 구멍 및 적어도 하나의 연결 영역을 포함할 수 있다. 임플란트 바디의 외측 영
역은, 적어도 하나의 연결 영역에 의해 마스크에 부착될 수 있다.
일부 실시양태에서, 안구 내 장치는 전이 구역(transition zone)(렌즈 바디의 광학 축을 따라서 렌즈 바디의 두[0014]
께를 감소하도록 배열됨)을 갖는 표면을 포함하는 렌즈 바디, 및 전이 구역을 통과한 빛에 의해서 형성되는 광
학수차의 상당 부분을 차단하도록 배열된 마스크를 포함한다.
추가의 실시양태에서, 안구 내 장치는 제1 표면과 제2 표면을 포함하는 렌즈 바디를 포함한다. 제1 표면은 제1[0015]
영역, 제2 영역 및 제3 영역을 포함한다. 렌즈 바디의 광학적 축은 제1 영역을 통과하고, 제2 영역은 제1 영역
과 제3 영역 사이에 있다. 안구 내 장치는 제2 표면과 제1 표면의 제2 영역과의 사이에 위치하는 마스크를 또
한 포함할 수 있다. 제2 영역에 이웃하는 제1 영역으로부터, 광학축에 수직이고 제2 표면에 접하는 평면까지의
거리는 제1 거리를 포함할 수 있고, 제2 영역에 이웃하는 제3 영역으로부터, 광학축에 수직이고 제2 표면에 접
하는 평면까지의 거리는 제1 거리보다 큰 제2 거리를 포함할 수 있다.
다른 실시양태에서, 환자의 시력을 향상시키는 방법은 전이 구역을 갖는 표면을 포함하는 렌즈 바디를 포함하는[0016]
안구 내 장치를 제공하는 단계를 포함한다. 전이 구역은 렌즈 바디의 광학적 축을 따라서 렌즈 바디의 두께를
감소하도록 배열될 수 있으며, 안구 내 장치는 전이 구역을 통과한 빛에 의해서 형성된 광학 수차의 상당 부분
을 차단하도록 배열된 마스크를 더 포함할 수 있다. 상기 방법은 눈의 안구 내 공간으로 안구 내 장치를 삽입
하는 단계를 더 포함할 수 있다.
특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 후방 표면과 전방 표면을 포함하는 외측 표면을 포함한 임플란트 바디[0017]
를 포함하며, 불투명한 마스크는 임플란트 바디의 전방 표면과 후방 표면 사이에 위치한다. 상기 마스크는 애
퍼처를 포함한다. 안구 내 임플란트는, 마스크에 결합되면서 마스크로부터 임플란트 바디의 외측면까지 연장된
지지 부재를 더 포함할 수 있다. 상기 지지 부재는 마스크로부터 임플란트 바디의 후방 표면까지 연장될 수 있
다. 지지 부재의 마스크에 이웃하는 제1 영역은 마스크에 평행한 제1 단면적을 가질 수 있고, 지지 부재의 후
방 표면에 이웃하는 제2 영역은 제1 단면적보다 작고 마스크에 평행한 제2 단면적을 가질 수 있다. 상기 지지
부재는 안구 내 임플란트로부터 제거가능하게 배치될 수 있다. 지지 부재는 다수의 구멍을 포함할 수 있으며,
다수의 구멍의 구멍 크기, 형태, 배향 및 간격 중 적어도 하나를 변경하여 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을
감소시키는 것을 특징으로 한다.
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특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 마스크에 결합된 적어도 하나의 지지 부재 및 애퍼처[0018]
를 포함하는 불투명한 마스크를 제공하는 단계, 적어도 하나의 지지 부재가 몰드 챔버에 결합하고 이에 의해 상
기 마스크가 이동에 저항하도록 몰드 챔버 내에 마스크를 위치시키는 단계, 및 상기 마스크의 적어도 일부가 렌
즈 재료 내에 매입되도록(encased) 렌즈 재료를 몰드 챔버에 유입시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 렌즈
재료를 주입한 후에, 적어도 하나의 지지 부재의 적어도 일부를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
다른 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 몰드 챔버의 표면에 애퍼처를 포함하는 불투명한 마스[0019]
크를 결합시키는 단계, 및 상기 마스크에 결합몰드 챔버로 렌즈 재료를 유입시켜, 광학 부재를 형성하는 단계를
포함한다.
부가의 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 애퍼처 영역 주변에 고리형 캐비티를 형성하기 위해[0020]
서 광학 부재(optics)의 표면 일부를 제거하는 단계, 불투명한 물질로 캐비티의 적어도 일부를 채우는 단계, 광
학 부재의 애퍼처 영역의 두께를 감소시키기 위해 광학부재의 중심 영역과 애퍼처 영역의 적어도 일부를 제거하
는 단계를 포함한다. 적어도 일부의 불투명한 재료는 불투명한 마스크를 형성하기 위해서 광학 부재의 표면에
잔류할 수 있다.
다른 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 애퍼처 영역 주변에 고리형 캐비티를 광학 부재에 제[0021]
공하는 단계, 불투명한 물질로 캐비티의 적어도 일부를 채우는 단계, 광학 부재의 애퍼처 영역의 두께를 감소시
키기 위해 광학 부재의 중심 영역과 애퍼처 영역의 적어도 일부를 제거하는 단계를 포함한다. 적어도 일부의
불투명한 재료는 불투명한 마스크를 형성하기 위해서 광학 부재의 표면에 잔류할 수 있다.
부가의 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 마스크가 몰드 캐비티와 물리적으로 접촉하지 않도[0022]
록 몰드 캐비티 내에 애퍼처를 구비한 불투명한 마스크를 위치시키는 단계, 및 마스크 주변에 임플란트 바디를
형성하기 위해서 몰드 캐비티에 임플란트 바디 재료를 주입하는 단계를 포함한다. 예를 들면, 상기 마스크는
자기장에 의해, 또는 마스크로부터 몰드 캐비티 밖의 프레임으로 연장하는 와이어에 의해 위치될 수 있다.
특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 임플란트 바디내에 위치하는 애퍼처를 구비한 마스크와, 바디 재료를[0023]
포함하는 임플란트 바디를 포함한다. 상기 마스크는 마스크의 전방 표면과 후방 표면 사이로 연장된 다수의 구
멍을 포함할 수 있다. 상기 바디 재료는 마스크의 다수의 구멍을 통해서 연장될 수 있으며, 다수의 구멍은 그
구멍 크기, 형태, 배향 및 간격의 적어도 하나가, 눈에 보이는 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키도록 가변
되는 것을 특징으로 한다. 다수의 구멍들은 불규칙한 위치에 위치될 수 있다. 제1 다수의 구멍은 제1 구멍 크
기, 형태 또는 간격을 포함할 수 있으며, 적어도 다른 다수의 구멍들은 제1 구멍 크기, 형태 또는 간격과 상이
한 제2 구멍 크기, 형태 또는 간격을 포함할 수 있다. 제1 다수의 구멍은 제1 구멍 크기를 포함할 수 있으며,
제2 다수의 구멍은 제3 구멍 크기와 상이한 제2 구멍 크기를 포함할 수 있으며, 제3 다수의 구멍은 제1 구멍 크
기와 제2 구멍 크기와 상이한 제3 구멍 크기를 포함할 수 있다.
특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 환자의 눈의 열구 영역으로 이식되도록 구성된 임플란트 바디를 포함한[0024]
다. 상기 임플란트 바디는 마스크를 형성하는 불투명한 영역에 의해서 적어도 일부가 둘러싸인 애퍼처, 및 실
질적으로 마스크의 외주의 바깥쪽에 위치하는 외측 구멍 영역을 포함할 수 있다. 외측 구멍 영역은 적어도 하
나의 외측 구멍 및 적어도 하나의 연결 영역을 포함할 수 있으며, 외측 구멍 영역은 적어도 90%의 입사 가시광
투과율을 가질 수 있다. 상기 임플란트 바디는 또한 적어도 하나의 연결 영역에 의해 마스크에 부착된 외측 영
역을 포함할 수 있다.
다른 실시양태에서, 안구 내 임플란트를 제조하는 방법은 환자의 눈의 열구(sulcus) 영역으로 이식되도록 구성[0025]
된 임플란트 바디를 제공하는 단계, 임플란트 바디의 일부를 제거함으로써 임플란트 바디내 애퍼처를 형성하는
단계, 및 상기 구조의 외측 가장자리와 애퍼처에 이웃하는 불투명한 마스크 영역과의 사이에 적어도 하나의 개
구부(opening)를 형성하는 단계를 포함한다.
도면의 간단한 설명
도 1A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 후방 표면에 오목한 중심 영역을 갖는 안구 내 렌즈의 실시양태의 정면[0026]
도를 나타낸다.
도 1B는 도 1A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 2A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전방 표면에 오목한 중심 영역을 갖는 안구 내 렌즈의 실시양태의 정면
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도를 나타낸다.
도 2B는 도 2A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 3A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전방 표면과 후방 표면에 오목한 중심 영역을 갖는 안구 내 렌즈의 실
시양태의 정면도를 나타낸다.
도 3B는 도 3A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 4A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 2개의 전이 구역과 2개의 마스크를 구비한 안구 내 렌즈의 실시양태의
정면도를 나타낸다.
도 4B는 도 4A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 5A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 2개의 전이 구역과 1개의 마스크를 구비한 안구 내 렌즈의 실시양태의
정면도를 나타낸다.
도 5B는 도 5A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 6A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 오목한 후방 표면과 양의 도수를 갖는 안구 내 렌즈의 실시양태의 정면
도를 나타낸다.
도 6B는 도 6A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 7A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 오목한 후방 표면과 음의 도수를 갖는 안구 내 렌즈의 실시양태의 정면
도를 나타낸다.
도 7B는 도 7A의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 8은 도 2B의 안구 내 렌즈를 통과하는 빛의 단면 도식도이다.
도 9는 수정체낭(capsular bag)에 있는 안구 내 렌즈의 실시양태를 갖는 눈을 통해 투과된 원거리 물체로부터의
빛의 도식도이다.
도 10A는 종래의 안구 내 렌즈의 평면도를 나타낸다.
도 10B는 도 10A의 종래의 안구 내 렌즈의 단면도를 나타낸다.
도 11A는 마스크의 하나의 실시양태의 투시도이다.
도 11B는 실질적으로 평평한 마스크의 실시양태의 투시도이다.
도 12는 다양한 두께를 갖는 마스크의 실시양태의 측면도이다.
도 13은 다양한 두께를 갖는 마스크의 다른 실시양태의 측면도이다.
도 14는 마스크에 불투명(opacity)을 제공하는 재료를 포함하는 마스크의 실시양태의 측면도이다.
도 15는 낮은 조명 환경에서, 마스크를 통해 빛의 투과를 선택적으로 조절하도록 한 미립자 구조를 포함하는 마
스크의 실시양태의 확대도이다.
도 16은 밝은 조명 환경에서 도 15의 마스크의 도면이다.
도 17은 눈 안에 마스크를 고정하는 커넥터를 포함하는 마스크의 다른 실시예이다.
도 18A는 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크의 다른 실시양태의 평면도이다.
도 18B는 도 18A의 도면의 일부의 확대도이다.
도 19는 도 18B의 섹션 평면 19-19를 따라 얻어진 마스크의 단면도이다.
도 2OA는 도 18A의 마스크에서 형성될 수 있는 다수의 구멍의 배열을 그래픽으로 나타낸다.
도 20B는 도 18A의 마스크에 형성될 수 있는 다수의 구멍의 상이한 배열을 그래픽으로 나타낸다.
도 20C는 도 18A의 마스크에 형성될 수 있는 다수의 구멍의 상이한 배열을 그래픽으로 나타낸다.
도 21A는 불균일한 크기를 갖는 마스크의 변형예를 보여주는, 도 18B와 유사한 확대도이다.
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도 21B는 불균일한 파세트(facet) 배향을 갖는 마스크의 변형예를 보여주는, 도 18B와 유사한 확대도이다.
도 22는 구멍 영역과 주변 영역을 갖는 마스크의 다른 실시양태의 평면도이다.
도 23은 혼탁화제(opacification agent)와 고불화 폴리머를 포함하는 마스크로부터 마스크형 안구 내 임플란트
를 제조하는 하나의 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 24A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크의 실시양태의 정면도이다.
도 24B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크의 실시양태의 정면도이다.
도 24C는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크의 실시양태의 정면도이다.
도 24D는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크의 실시양태의 정면도이다.
도 25A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전이 구역의 전방 표면에 결합된 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의
실시양태의 단면도이다.
도 25B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 후방 표면에 결합된 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
단면도이다.
도 25C는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 후방 표면과 전방 표면의 거의 중간 지점의 임플란트 바디 내에 매립
된 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.
도 25D는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 후방 표면 보다 전방 표면에 가까운 임플란트 바디 내에 매립된
(embedded) 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.
도 25E는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전방 표면 보다 후방 표면에 가까운 임플란트 바디 내에 매립된 마스
크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.
도 25F는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전이 구역의 전방 표면의 부근 및 임플란트 바디 내에 매립된 마스크
를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.
도 25G는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전방 표면과 후방 표면 사이에 연장된 마스크를 구비한 안구 내 임플
란트의 실시양태의 단면도이다.
도 26A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크로부터 임플란트 바디의 주변 표면으로 연장하는 지지 부재를
구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 평면도이다.
도 26B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크로부터 임플란트 바디의 후방 표면으로 연장하는 지지 부재를
구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.
도 26C는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 지지 부재와 일체화된(integrated) 마스크를 구비한 안구 내 임플란트
의 실시양태의 단면도이다.
도 27A 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크로부터 임플란트 바디의 후방 표면으로 연장하는 탭(tabs)을 구비
한 안구 내 임플란트의 실시양태의 단면도이다.평면도이다.
도 27B는 탭의 일부가 제거되어 있는, 도 27A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 28A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 지지 부재를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 28B는 도 28A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 29A는 도 27A의 안구 내 임플란트와는 다른 도수를 갖는 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 29B는 도 29A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 3OA는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전이 구역의 외주를 넘어서 방사형(radially)으로 연장되는 마스크를
구비한 안구 내 렌즈의 실시양태의 정면도이다.
도 30B는 도 30A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 31A은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 지지 부재를 구비한 안구 내 임플란트의 다른 실시양태의 정면도이다.
등록특허 10-1796801
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도 31B는 도 31A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 32A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전이 구역의 외주를 넘어서 방사형으로 연장되는 마스크를 구비한 임
플란트의 다른 실시예의 정면도이다.
도 32B는 도 32A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 33A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 지지 부재를 구비한 안구 내 임플란트의 부가의 실시양태의 정면도이
다.
도 33B는 도 33A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 34A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 전이 구역의 외주를 넘어서 방사형으로 연장되는 마스크를 구비한 안
구 내 임플란트의 부가의 실시양태의 정면도이다.
도 34B는 도 34A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 35A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 햅틱(heptic)과 결합된 지지 부재를 구비한 안구 내 임플란트의 실시
양태의 정면도이다.
도 35B는 도 35A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 36A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 햅틱과 결합된 지지 부재를 구비한 안구 내 임플란트의 다른 실시양태
의 정면도이다.
도 36B는 도 36A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 37A는 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 37B는 임플란트 바디에 캐비티가 형성된, 도 37A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 37C는 불투명한 재료로 적어도 일부 채워진 캐비티를 구비한, 도 37B의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 37D는 중심 영역 및 불투명한 재료의 일부가 제거된, 도 37C의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 38A는 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 38B는 임플란트 바디에 캐비티가 형성된, 도 38A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 38C는 캐비티 내에 위치한 마스크를 구비한, 도 38B의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 38D는 임플란트 바디 재료로 적어도 일부 충전된 캐비티를 구비한, 도 38C의 안구 내 임플란트의
단면도이다.
도 38E는 임플란트 바디의 일부가 제거된, 도 38D의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 39A는 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 39B는 임플란트 바디에 캐비티가 형성된, 도 39A의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 39C는 불투명한 재료에 적어도 일부 충전된 캐비티를 구비한, 도 39B의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 39D는 중심 영역과 불투명한 재료의 일부가 제거된, 도 39C의 안구 내 임플란트의 단면도이다.
도 40은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 몰드 캐비티 내에 마스크를 위치시키기 위한 마스크 위치 결정 시스템
의 실시양태의 도식도이다.
도 41은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 프레임과 마스크에 결합된 와이어를 포함하는 마스크 위치 결정 장치의
실시양태의 도식도이다.
도 42는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 자기장으로 공중 부상된(levitated) 마스크의 실시양태의 측면도이다.
도 43A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 자기장의 위쪽으로(above of magnetic field) 공중 부상된 마스크의
실시양태의 평면도이다.
도 43B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 자기장의 위쪽으로 공중 부상된 마스크의 다른 실시양태의
평면도이다.
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도 44는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크를 위치시키기 위해 정전기적 공중 부상을 사용하는 실시양태의
도식도이다.
도 45는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크를 형성할 수 있는 쌍안정성 디스플레이(bistable display)의 실
시양태의 평면도이다.
도 46은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 초점 심도를 증가시키도록 구성된 마스크형 안구 내 임플란트의 실시양
태의 사시도이다.
도 47은 도 46의 안구 내 임플란트의 정면도이다.
도 48A는 도 46의 안구 내 임플란트를 관통하여 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 측입면도이다.
도 48B는 안구 내 임플란트의 후방 표면에 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 측입면도이다.
도 48C는 안구 내 임플란트의 전방 표면에 마스크를 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 측입면도이다.
도 48D는 안구 내 임플란트의 후방 표면과 전방 표면 사이의 중간에 위치한 마스크를 구비한 안구 내 임플란트
의 실시양태의 측입면도이다.
도 48E는 안구 내 임플란트의 후방 표면과 전방 표면 사이의 중간 위치와 후방 표면 사이에 위치하는 마스크를
구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 측입면도이다.
도 48F는 안구 내 임플란트의 후방 표면과 전방 표면 사이의 중간 위치와 전방 표면 사이에 위치하는 마스크를
구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 측입면도이다.
도 49A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 5개의 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
사시도이다.
도 49B는 도 49A의 안구 내 임플란트의 정면도이다.
도 49C는 도 49A의 안구 내 임플란트의 측입면도이다.
도 50A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 도 49A의 안구 내 임플란트와는 상이한 햅틱을 갖는 안구 내 임플란트
의 실시양태의 사시도이다.
도 50B는 도 50A의 안구 내 임플란트의 정면도이다.
도 50C는 도 50A의 안구 내 임플란트의 측입면도이다.
도 51A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 단일 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 51B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 2개의 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
정면도이다.
도 51C는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 3개의 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
정면도이다.
도 51D는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 4개의 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
정면도이다.
도 51E는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 6개의 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의
정면도이다.
도 52는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 임플란트 바디의 주변에 연장된 외측 구멍 영역을 구비한 안구 내 임플
란트의 실시양태의 정면도이다.
도 53A는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 다른 방향에서보다도 하나의 방향으로 더욱 애퍼처로부터 멀어지게 연
장된 외측 구멍 영역을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 53B는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 불균일한 외측 구멍을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도
이다.
도 54는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 애퍼처를 일부 둘러싸는 외측 구멍 영역을 구비한 안구 내 임플란트의
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실시양태의 정면도이다.
도 55는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 중심에 위치한 애퍼처 및 중심을 벗어난(off-centered) 외측 구멍 영역
을 구비한 안구 내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 56은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 중심에 위치한 외측 구멍 영역 및 중심을 벗어난 애퍼처를 구비한 안구
내 임플란트의 실시양태의 정면도이다.
도 57은 본 명세서에 기술된 바와 같이, 마스크가 광 투과 구멍을 포함하는 안구 내 임플란트의 실시양태의 정
면도이다.
도 58은 애퍼처로부터 방사상 외측으로 크기가 점차로 증가되는 광 투과 구멍을 구비한 안구 내 실시양태의 실
시양태의 정면도이다.
도 59는 본 명세서에 기술된 바와 같이, 애퍼처를 구비한 안과 기구 (ophthalmic device)의 실시양태와, 2개의
일반적인 다초점 IOL를 비교하는 디포커스(defocus)의 함수로서의 시력의 플롯을 나타낸다.
발명을 실시하기 위한 구체적인 내용
본 출원은 안구 내 임플란트 및 안구 내 임플란트를 이식하는 방법에 관한 것이다. 눈의 본래의 수정체는 본래[0027]
수정체가 백내장에 의해 흐려질 때 안구 내 렌즈로 종종 대체된다. 안구 내 렌즈는 또한 본래 수정체를 제거하
지 않고 다른 굴절 결함을 교정하기 위해서 눈에 이식될 수 있다. 바람직한 실시양태의 안구 내 임플란트는 초
점 심도를 증가시키기 위해 망막을 통과한 빛을 위한 작은 애퍼처(본 명세서에서, 핀구멍 이미징 또는 핀구멍
시력 교정이라고 함)를 제공하도록 적합화시킨 마스크를 포함한다. 안구 내 임플란트는 눈의 전방 또는 후방에
이식될 수 있다. 후방에서, 임플란트는 형상체 열구, 수정체낭, 또는 안구 내 임플란트가 고정되는 어떠한 장
소에도 고정될 수 있다. 하기에서 토의되는 일부 실시양태에서, 안구 내 렌즈는 종래 안구 내 렌즈와 비교하여
중심 영역에서 두께가 감소하였다. 중심 영역에서 감소된 두께는, 안구 내 렌즈의 이식을 개선시키는데 도움을
준다. 하기에 토의되는 부가의 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 낮은 조명에서의 환자의 시력을 향상시키기
위해서, 외측 구멍 영역(예컨대, 천공 영역)을 가질 수 있다.
I. 두께가 감소된 안구 내 임플란트 [0028]
고정 초점 IOL에 대한 몇 가지 대안이 개발되었으며, 원거리와 근거리를 모두 명확하게 볼 수 있는 조절형 IOL[0029]
및 다초점 IOL을 포함한다. 다초점 IOL는 원거리와 근거리 모두에서 양호한 시력을 제공하지만, 그러나 상기
렌즈는 일반적으로 중간 거리에서 역할을 잘 수행하지 않으며, 초점이 맞지 않는 빛의 존재와 연관된 야간 시력
장애, 섬광, 및 헤일로(halos)를 수반한다. 여러 디자인의 원근 조절 IOL도 또한 개발되었지만, 그러나 어느
것도 본래 수정체의 기능을 복제할 수가 없다. 애퍼처를 구비한 IOL는 Vorosmarthy(미국 특허 제4,976,732호)
에 의해 기술되었다. 그러나 상기 장치는 먼거리에서 가까운 거리로 초점을 변경하려는 시도는 하지 않았고,
초점이 맞지 않는 모호한 이미지를 초점이 맞지 않는 상태에서 단순히 노안 정시안(presbyopic emmetrope)이 읽
을 수 있는 수준으로 경감시키기 위한 시도는 있었다. 특히, Vorosmarthy는 작은 절개 수술의 적용을 위해서
마스크형 IOL의 두께를 감소시키는 문제를 해결하지 않았다.
삭제[0030]
본 출원의 일부 실시양태는 당분야에 알려져 있는 것보다 더 얇은 광학 부재를 구비한 마스크형 IOL을[0031]
제공한다. 더 얇은 광학 부재의 이점은, 작은 절개를 통해 IOL이 눈 안으로 삽입될 수 있다는 것이다. 각막
절개는 각막을 변형시키고 시력을 손상시키는 경향이 있기 때문에, 절개 영역의 크기를 줄임으로써 시력의 질을
향상시킬 것이다. 광학 부재가 Fresnel 렌즈와 유사한 수단에 의해 더 얇아지는데, 교호의 동심원 영역은 초점
을 맞추는 능력 및 높이 계단(height step)을 제공한다. Fresnel 렌즈에 의해 가능한 두께 감소는 중요하지만,
높이 계단은 임상 적용시 광학적으로 부적당하다. 높이 계단은 중심와(fovea)에서 빛을 이미지에 집중시키지
못하게 하고 산란시켜서, 환자의 시각에서 광시증(dysphotopsias)(줄무늬, 그림자, 헤일로(halos) 등)을 일으킨
다. 빛이 높이 계단을 통과하는 것을 차단하고 초점을 맞춘 표면을 통해서만 통과되도록 하는 마스크를
Fresnel-타입 높이 계단과 결합함으로써, 통상의 Fresnel 렌즈와 관련된 광시증을 제거하여, 원치 않는 광학 효
과를 유도하지 않고 감소된 두께의 이점을 얻는다.
일반적으로, 안구 내 임플란트는, 안구 내 임플란트를 둥글게 말고, 상기 둥글게 만 안구 내 임플란트를 튜브로[0032]
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삽입함으로써 눈으로 이식된다. 상기 튜브는 눈의 절개 영역으로 삽입되고, 안구 내 임플란트는 튜브 밖으로
배출되어, 안구 내에 배치된다. 안구 내 임플란트는 본래 수정체의 제거 이후에 수정체낭 내, 또는 전방, 후방
내에 이식될 수 있고, 형상체 열구에 결합되거나 또는 부착될 수 있다(때로는, 본 명세서에서 "열구-고정"이라
함). 눈 안의 안구 내 임플란트의 위치에 따라서, 이에 한정되는 것은 아니지만 마스크의 애퍼처를 포함하는
안구 내 임플란트의 치수는 조절될 수 있다. 안구 내 렌즈의 중심 영역의 두께를 감소시킴으로써, 안구 내 렌
즈는 더욱 타이트하게 말려서 더 작은 튜브로 삽입될 수 있다. 더 작은 튜브가 사용된다면 눈에서 절개 영역을
더 줄일 수 있다. 상기 결과는 침습 과정이 줄어들어 환자의 회복 기간이 빨라진다. 또한, 종래 후방 유수정
체 안구 내 렌즈와 비교하여, 형상체 열구에 고정된 감소된 두께의 렌즈는, 안구 내 렌즈 후방 표면과 본래 수
정체 표면 사이를 더욱 이격시키므로, 상기 표면들 사이의 접촉 가능성을 감소시킬 것이다.
특정 실시양태에서, 안구 내 렌즈(100)는 빛을 굴절시키고 눈의 굴절 오류를 수정하기 위한 도수를 갖는 렌즈[0033]
바디(102)를 포함한다. 특정 실시양태는 도 1 내지 도 10에 나타내었다. 안구 내 렌즈(100)는 눈 안에서 안구
내 렌즈(100)가 이동하거나 회전하는 것을 방지하기 위해서, 1 이상의 햅틱(104)을 포함할 수 있다. 본 명세서
에서 사용되는 용어 "햅틱(haptic)"은, 눈의 내측면에 대해 나란히 배치되고 렌즈 구조에 장착되어(mounted) 눈
의 광학 경로에 렌즈를 확실히 배치시킬 수 있는, 지주(struts)와 다른 기계적 구조를 포함한 일반적인 용어인
것으로 의도하였다. 햅틱(104)은 눈에 안구내 렌즈(100)가 이식되는 위치에 따라서, 다양한 형태와 크기일 수
있다. 도 1 내지 도 10에 나타낸 햅틱은, 다양한 햅틱과 호환될 수 있다. 예를 들면, 도 1 내지 도 10에 나타
낸 햅틱은, 도 1 내지 도 10에 나타낸 안구 내 렌즈와 결합될 수 있다. 햅틱은 C-형상, J-형상, 평면 디자인
또는 다른 디자인일 수 있다. 본 명세서에 기술된 안구 내 임플란트는 2개, 3개, 4개, 또는 그 이상의 햅틱을
가질 수 있다. 상기 햅틱은 개방형 또는 폐쇄형 구성을 가질 수 있으며, 평면, 직각, 또는 계단-아치형일 수
있다. 햅틱의 예로는, 미국 특허 제4,634,442호; 제5,192,319호; 제6,106,553호; 제6,228,115호; Re. 34,251;
제7,455,691호; 및 미국 특허 출원 공보 제2003/0199978호에 기술되어 있으며, 이는 참고로 이의 전문이 본 명
세서에 포함된다.
특정 실시양태에서, 렌즈 바디(102)는 도 1A-도 1B에 나타낸 바와 같이, 후방 표면(110) 및 전방 표면(112)을[0034]
포함한다. 렌즈 바디(102)는 제1 영역(116)(예컨대, 내측 영역 또는 중심 영역), 제2 영역(114)(예컨대, 전이
구역) 및 제3 영역(118)(예컨대, 외측 영역 또는 부위)을 후방 표면(110)에 포함한다. 제2 영역(114)는 제1 영
역(116) 및 제3 영역(118) 사이에 및/또는 인접하여 위치하고 있다. 제2 영역(114)은 제1 영역(116)을 실질적
으로 둘러싸고, 제3 영역(118)은 제2 영역(114)을 실질적으로 둘러싼다. 특정 실시양태에서, 제1 영역(116)는
실질적으로 원형이며, 제2 영역(114) 및 제3 영역(118)은 실질적으로 고리형이다. 제1 영역(116) 및 제3 영역
(118)는 빛을 굴절시키거나, 또는 환자의 시력을 향상시키기 위한 도수를 가질 수 있다. 제2 영역(114)은 1 이
상의 파세트, 홈(grooves), 마루 (crests), 골(troughs), 오목(depressions), 구분선(contours), 표면 만곡
(surface curvatures) 등을 가지며, 후방 표면(110)이 제2 영역(114)를 갖지 않는 경우보다 제1 영역(116)을
전방 표면(112)에 더 가깝게 위치시킬 수 있다. 제2 영역(114)은 제1 영역(116)과 제3 영역(118) 사이의 "전이
구역"으로 기술될 수 있다. 예를 들면, 제2 영역(114) 전이 구역은 제3 영역(118)으로부터 제1 영역(116)으로,
전방 표면(112)을 향한 기울기를 갖는다. 특정 실시양태에서, 제2 영역(114) 전이 구역은 전방 표면(112)에 실
질적으로 수직인 표면을 포함한다. 전이 구역은 Fresnel 렌즈에 포함된 것과 같다. 이들은 종래 렌즈 디자인
에서 요구된 것보다 렌즈 바디를 더 얇게 만들 수 있다. 그러나, Fresnel 렌즈와 같이, 전이 구역은 안구 내
렌즈에서 임상적으로 허용되지 않는 광학 수차를 일으킨다.
안구 내 렌즈(100)는 제2 영역(114)을 통해서 후방 표면(110)의 전이 구역을 통과한 빛의 상당 부분[0035]
(substantial portion)을 차단하는 위치에 있는 마스크(108)를 포함할 수 있다. 본 명세서에서 사용된 "차단된
(blocked)"이라는 용어는, 빛의 적어도 일부분이 마스크를 통과하는 것을 방지하는 경우, 뿐만 아니라 실질적으
로 모든 빛이 마스크를 통과하는 것을 방지하는 경우도 포함한다. 마스크(108)가 제2 영역(114)을 통과하는 광
선을 차단하지 않는다면, 제2 영역(114)에서의 빛의 굴절(예컨대, 도수 등)이 제1 영역(116)과 제3 영역(118)에
서와 일반적으로 다르기 때문에, 수차가 생성된다.
특정 실시양태에서, 제1 영역(116)은 볼록부이고, 제2 영역(114)는 오목부이며, 제3 영역(118)은 볼록부이다.[0036]
특정 실시양태에서, 제1 영역(116) 및 제3 영역(118)은 양수이거나 또는 수렴하는 도수를 가지며, 제2 영역
(114)은 음수 또는 발산하는 도수를 갖는다. 제2 영역(114)은 제1 영역(116)에서 제3 영역(118)으로 방사형으
로 연장되는 방향으로, 곡률이 없거나 곡률이 있을 수 있다. 예를 들어, 제2 영역(114)은 제1 영역(116)에서
제3 영역(118)으로 방사형으로 연장되는 방향으로, 음수 또는 양수의 곡률(예컨대, 볼록 또는 오목)을 가질 수
있다. 또한, 제2 영역(114)은 폐쇄형 루프를 형성하고 원뿔대 형상의 외측 표면과 유사한 표면을 갖는다.
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특정 실시양태에서, 제1 영역(116)은 렌즈 바디(102)의 중심 영역(132) 내에 있다. 중심 영역(132)은 렌즈 바[0037]
디(102) 내에서 오목할 수 있다. 특정 실시양태에서, 제3 영역(118)은 렌즈 바디(102)의 외측 영역(130) 내에
있다. 특정 실시양태에서, 제1 영역(116)의 외측 둘레는 제2 영역(114)의 내측 둘레에 의해서 둘러싸이고/둘러
싸이거나 밀폐된다(enclose). 특정 실시양태에서, 제2 영역(114)의 외측 둘레는 제3 영역(118)의 내측 둘레에
의해서 둘러싸이고/둘러싸이거나 밀폐된다. 특정 실시양태에서, 제1 영역(116)의 영역내 렌즈 바디(102)의 최
대 두께는, 제2 영역(114)의 영역내 렌즈 바디(102)의 최대 두께보다 얇다.
특정 실시양태에서, 렌즈 바디(202)는 도 2A-도 2B에 나타낸 바와 같이, 전방 표면(212)에 제1 영역(222), 제2[0038]
영역(220) 및 제3 영역(224)을 포함한다. 전방 표면(212)의 제1 영역(222), 제2 영역(220) 및 제3 영역(224)
은, 후방 표면(110)의 제1 영역(116), 제2 영역(114) 및 제3 영역(118)에 대해서 상기에 기술된 바와 같은 유사
한 특징을 가질 수 있다. 안구 내 렌즈(200)는 전방 표면(212)의 제2 영역(220)을 통과한 빛의 상당 부분을 차
단하는 위치에 있는 마스크(208)를 포함할 수 있다.
특정 실시양태에서, 전방 표면(312) 및 후방 표면(310)는 도 3A-도 3B에 나타낸 바와 같이, 제1 영역(316,322),[0039]
제2 영역(314,320), 및 제3 영역(318,324)을 갖는다. 마스크(308)는 전방 표면(312)의 제2 영역(320)을 통과
하는 대부분의 빛과 후방 표면(310)의 제2 영역(314)을 통과한 빛이, 마스크(308)에 의해서 차단되도록 위치해
야 한다.
특정 실시양태에서, 마스크는 오목한 제2 영역과 결합된다. 예를 들면, 마스크는 제2 영역에 인접하게 위치할[0040]
수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크는 후방 표면, 전방 표면, 또는 후방과 전방 표면들에 부착된다. 특정 실
시양태에서, 마스크는 후방 표면과 전방 표면 사이, 또는 렌즈 바디 내에 있다. 마스크의 방사상 너비 또는 면
적은, 제2 영역의 방사상 너비 또는 면적과 거의 동일할 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크는 렌즈 바디의
제1 영역 및/또는 제3 영역으로 적어도 일부 연장될 수 있다. 상기 마스크를 제1 영역 및/또는 제3 영역으로
연장함으로써, 마스크는 렌즈 바디의 광학 중심축을 벗어난 큰 각도로 들어가서 제2 영역을 통과할 수 있는 빛
을 차단할 수 있다.
도 4A-도 4B에 나타낸 바와 같이, 안구 내 렌즈(400)은 전방 표면(412) 및/또는 후방 표면(410)에서, 제4 영역[0041]
(420b) 및 제5 영역(424b)을 더 포함할 수 있다. 제4 영역(420b)은 제3 영역(424a)에 인접하고 제3 영역
(424a)을 실질적으로 둘러쌀 수 있다. 제5 영역(424b)은 제4 영역(420b)에 인접하고, 제4 영역(420b)을 실질적
으로 둘러쌀 수 있다. 제4 영역(420b)은 제2 영역(420a)에 대해서 상기에 기술된 바와 유사한 특징을 가질 수
있으며, 제5 영역(424b)은 제3 영역(424a)에 대해서 상기에 기술된 바와 유사한 특징을 가질 수 있다. 안구 내
렌즈(400)는 전방 표면(412)의 제2 영역(420a)을 통과한 빛의 대부분을 차단하는 위치에 있는 제1 마스크
(408a), 및 전방 표면(412)의 제4 영역(420b)을 통과한 빛의 대부분을 차단하는 위치에 있는 제2 마스크(408b)
를 포함할 수 있다. 제4 영역(420b), 제5 영역(424b) 및 제2 마스크(408b)와 같은, 마스크에 구비된 부가의 쌍
이 안구 내 렌즈에 더 포함될 수 있다는 것을 이해해야 한다.
도 5A-도 5B에서는 도 4A-도 4B에서 기술된 안구 내 렌즈(400)와 유사한, 안구 내 렌즈(500)를 나타낸다. 제1[0042]
마스크(408a) 및 제2 마스크(408b)를 갖는 안구 내 렌즈(400) 대신에, 안구 내 렌즈(500)는 마스크(508)를 통해
적어도 일부의 빛이 통과하는 다수의 빛 투과 구멍을 구비한 단일의 마스크(508)를 갖는다. 상기 빛 투과 구멍
은 제4 영역(520b)과 제2 영역(520a)을 통과한 빛 중에서 마스크(508)를 통과하는 빛은 실질적으로 없지만, 제3
영역(524a)을 통과한 적어도 일부의 빛이 마스크(508)을 통과하도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 마스크의 중
간 고리형 영역은 적어도 일부의 빛이 마스크를 통과하도록 다수의 구멍을 가질 수 있으며, 내측 고리형 영역
및 외측 고리형 영역은 실질적으로 구멍을 갖지 않는다. 광 투과 구조 또는 구멍은 하기 섹션에서 더
토의되며, 본 명세서에 토의된 실시양태로 적용될 수 있다.
본 명세서에 기술된 다양한 안구 내 렌즈는, 특정 환자에서 요구되는 시력 교정에 적합하게 디자인되었다. 예[0043]
를 들면, 상대적으로 동공이 작은 환자에 있어서, 약한 빛은 동공이 큰 환자에 있어서 더욱 많은 시력 문제가
발생할 수 있다. 동공이 더 작은 환자에 있어서, 광을 더 많이 투과하고/하거나 외측 직경이 더 작은
마스크는, 망막에 도달하는 빛의 양을 증가시키고 희미한 빛의 환경에서 시력을 향상시킬 수 있다. 반대로, 더
큰 동공을 가진 환자에 있어서, 빛을 덜 투과하고/하거나 더 큰 직경을 갖는 마스크는, 낮은 콘트라스트(low-
contrast)의 근거리 시력을 향상할 수 있고 초점이 맞지 않는 빛을 더 많이 차단할 수 있다. 본 명세서에 기술
된 바와 같은 마스크형 IOL는, 특정 환자에 대한 마스크형 IOL 특징들의 적당한 조합을 처방하기 위한 융통성을
외과의에게 제공한다.
도 6 및 도 7은 안구 내 렌즈(600,700)의 부가의 실시양태를 나타낸다. 안구 내 렌즈의 후방 표면과 전방 표면[0044]
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은 다양한 곡률을 가질 수 있다. 예를 들면 후방 표면 및/또는 전방 표면은 오목하거나 볼록할 수 있다. 도
6A-도 6B는 양의 도수를 갖는 렌즈를 형성하기 위해서 전방 표면(612)과 오목한 후방 표면(610)을 갖는 안구 내
렌즈(600)를 나타낸다. 도 7A-도 7B는 음의 도수를 갖는 렌즈를 형성하기 위해서 전방 표면(712)과 오목한 후
방 표면(710)을 갖는 안구 내 렌즈(700)를 나타낸다. 두 안구 내 렌즈(600,700)은 상기 안구 내 렌즈(600,
700)의 전체 두께를 감소시키기 위해서 제2 영역(620,720)을 갖는다. 두 안구 내 렌즈(600, 700)는 또한 제2
영역(620,720)을 통과한 빛을 차단하는 마스크(608,708)를 포함할 수 있다. 음의 도수를 갖는 안구 내 렌즈, 예
컨대 도 7의 안구 내 렌즈(700)에 있어서, 렌즈 바디(702)의 중심 영역(732)의 두께는 제2 영역(720)에 의해서
감소될 수는 없다. 그러나, 렌즈 바디(702)의 외측 영역(730)의 두께는 제2 영역(720)(예컨대, 전이 구역)에
의해서 감소될 수 있다. 유익하게, 안구 내 렌즈가 양의 도수 또는 음의 도수을 갖는 경우, 렌즈 바디의 적어
도 일부의 두께는 제2 영역을 포함하는 렌즈 바디를 가짐으로써 감소될 수 있다.
표 1 및 표 2는 렌즈 바디 두께가 감소된 안구 내 렌즈의 예를 나타낸다. "감소된(reduced)"으로 표시된 컬럼[0045]
은 제2 영역(예컨대, 전이 구역)을 구비한 안구 내 렌즈를 해당하고, "원래(original)"로 표시된 컬럼은 제2
영역을 갖지 않는 안구 내 렌즈에 해당한다. 광학 기기의 직경은 도수를 갖는 렌즈 바디의 최외각 영역의 직경
이다. 표 1 및 표 2에 나타낸 중심 영역 두께의 감소 비율은, 감소된 두께를 갖는 IOL에서 둥글게 말린 가능한
직경(rolled up diameter)의 감소에 거의 비례할 수 있다. 그러므로, 표 1 및 표 2에 나타낸 중심 영역 두께의
감소율은, 환자에게 IOL의 이식 중에 사용될 수 있는 절개 크기의 감소에 거의 비례할 수 있다. IOL이 둥글게
말려 튜브로 삽입되고, 상기 튜브는 절개 영역으로 삽입된다. 그후 IOL은 눈의 안구 내 공간으로 배치될 수 있
다. 임플란트 바디의 광학 축에 대체로 평행하고 임플란트 바디가 가장 큰 단면적을 갖는 위치에서, 튜브의 단
면의 비어있는 공간(예컨대, 보이드)이 최소화되도록, 가능한 타이트하게 IOL이 말린다. 그러므로, 튜브의 단
면적은 임플란트 바디의 광학축과 대체로 평행한 임플란트 바디의 최대 단면적보다 크거나 또는 동일하다. 예
를 들면, 임플란트 바디의 단면적의 36% 감소는, 튜브의 단면적을 36%까지 감소시키거나, 또는 튜브 직경을 약
20%까지 감소시킬 수 있다. 최소 절개 길이는 일반적으로 튜브 둘레의 반이다. 그러므로, 임플란트 바디의 단
면적의 36% 감소는, 절개 길이에서 약 20% 감소를 초래할 수 있다. 예를 들면, 1.8mm의 절개 길이는 약 1.44mm
로 감소될 수 있다. 절개 길이가 작아지면 수술 후에 난시(astigmatism)를 피할 수 있기 때문에 유익하다.
표 1
[0046]
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표 2
[0047]
도 8은 도 2A-도 2B의 안구 내 렌즈(200)의 작업을 나타낸다. 사용시에, 빛은 안구 내 렌즈(200)의 전방 표면[0048]
(212)으로 들어가서, 렌즈 바디(202)를 통과하여, 후방 표면(210)으로 나온다. 마스크(208)는 도 8에 나타낸
바와 같이, 전방 표면(212)의 제2 영역(220)을 통과한 광선(850)의 대부분을 마스크(208)가 차단하도록 위치한
다. 상기 마스크(208)가 제2 영역(220)을 통과한 광선(850)을 차단하지 않는다면, 수차가 발생한다. 예를 들
면, 제2 영역(220)의 곡률이 음수 또는 발산하는 도수를 제공하도록 구성되는 경우, 상기 영역을 통과한 광선
(860)은 도 8에 나타낸 바와 같이 발산하고, 초점에 모이지 않는다. 제1 영역(222) 및/또는 제3 영역(224)를
통과한 광선(850)은, 양수 또는 수렴하는 도수를 갖는다. 제1 영역(222) 및 제3 영역(224)이 유사한 곡률 또는
도수를 갖는다면, 전방 표면(212)으로 들어가서 제1 영역(222) 및/또는 제3 영역(224)을 통과한 광선(850)은,
도 8에 나타낸 바와 같이 후방 표면(210)을 통과한 후에, 공통 영역(870)에 수렴된다. 도 9는 눈(952)의 수정
체낭(954) 내에 이식된 안구 내 렌즈(200)를 나타낸다. 안구 내 렌즈(200)를 통과하는 평행한 광선(950)은, 망
막(956)에 수렴된다.
렌즈 바디(202)는 2 이상의 재료를 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 렌즈 바디(202)는 2 이상의 재료를 포[0049]
함한다. 예를 들면, 제1 영역(222) 및 제3 영역(224)은 상이한 재료를 포함할 수 있다. 제1 영역(222) 및 제3
영역(224)에 대해서 선택된 재료가 상이한 굴절율을 갖는다면, 제1 영역(222) 및 제3 영역(224)의 곡률은 상기
두 영역에 대한 유사한 도수(예컨대, 렌즈 굴절력)를 수득하기 위해서 상이할 수 있다.
일반적으로, 안구 내 렌즈의 도수는 멀리 떨어진 물체에 초점을 맞추기 위해서 선택된다. 천연 수정체는 멀리[0050]
있고 가까이 있는 것을 보기 위해서, 초점 거리를 변경하도록 변형될 수 있다. 종래의 인공 안구 내 렌즈는 일
반적으로 초점 거리를 변경할 수 없다. 예를 들면, 노안의 경우 또는 인공 안구 내 렌즈가 원거리용 도수를 갖
는 경우, 눈으로 들어가고 각막 및 천연 수정체 또는 인공 안구 내 렌즈를 통과하는 광선은, 망막 앞이나 망막
뒤에 수렴되고 망막에서 한 점으로 수렴되지 않는다. 광선은 광선이 망막에서 한 점으로 수렴되는 경우보다,
더 큰 면적에 걸쳐서 망막에 도달한다. 환자는 흐린 시야로 이를 경험하며, 특히 독서할 때와 같이 더 가까운
물체에 대해서 이를 경험한다. 상기 상황에서, 안구 내 렌즈(200)의 마스크(208)는, 광선의 일부, 예를 들면
중심부만이 망막으로 도달되도록 애퍼처를 갖추어 구성될 수 있다. 애퍼처를 갖춘 마스크(208)는 사람 눈의 초
점 심도를 향상시킬 수 있다. 예를 들면, 애퍼처는 핀-구멍 애퍼처일 수 있다. 상기 마스크(208)는 외측 광선
의 일부를 차단하여, 더욱 광선의 초점이 맞도록 한다. 상기 마스크(208)는 애퍼처를 둘러싼 고리형 영역을 포
함할 수 있다. 상기 애퍼처는 마스크에서 실질적으로 중심에 위치할 수 있다. 예를 들면, 애퍼처는 마스크의
중심축(마스크의 광학축이라고도 함) 주위에 위치할 수 있다. 마스크의 애퍼처는 원형 또는 다른 형상일 수 있
다.
마스크(208)는 안구 내 렌즈(200) 내 또는 안구내 렌즈 상에서 다양한 위치에 위치될 수 있다. 상기 마스크[0051]
(208)는 렌즈 바디(202)를 통과할 수 있다. 상기 마스크(208)는 렌즈 바디(202)의 전방 표면 또는 후방 표면에
위치할 수 있다. 특정 실시양태에서, 상기 마스크(208)는 렌즈 바디 내에 매립된다. 예를 들면, 상기 마스크
(208)는 렌즈 바디(202)의 후방 표면과 전방 표면 사이의 실질적으로 중간에 위치될 수 있다. 특정 실시양태
에서, 상기 마스크(208)는 렌즈 바디(202)의 후방 표면과 중간선 사이에 위치한다. 특정 실시양태는 렌즈 바디
(202)의 중간선과 후방 표면 사이의 중간, 1/3 또는 2/3 지점에 위치하는 마스크(208)를 포함한다. 특정의 다
른 실시양태에서, 마스크(208)는 렌즈 바디(202)의 전방 표면과 중간선 사이에 위치된다. 특정 실시양태는 렌
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즈 바디(202)의 전방 표면과 중간선 사이의 중간, 1/3 또는 2/3 지점에 위치하는 마스크(208)를 포함한다. 전
이 구역이 임플란트 바디의 전방 표면 상에 있고 마스크가 전방 표면 상의 전이 구역의 표면에 또는 부근에 위
치한다면, 전이 구역 표면을 치거나 또는 통과하면서 광학축으로부터 큰 각도를 갖는 빛조차도 마스크에 의해서
차단되기 때문에, 마스크는 전이 구역을 넘어서 연장되지 않아도 된다.
특정 실시양태에서, 안구 내 렌즈(200)의 마스크(208)는 근거리 시력을 향상시키기 위해서 상기에 기술된 마스[0052]
크와 유사하게 빛의 일부를 차단하는 애퍼처를 가질 수 있다. 유리하게, 상기에 기술된 바와 같이 마스크(20
8)는 애퍼처를 제공할 수 있고, 망막(956)에 수렴될 수 없는 광의 일부를 차단하고 또한 수차를 형성하는 제2
영역(220)을 통과하는 빛을 또한 차단할 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크(208)의 애퍼처는 약 1-2 mm의 직
경을 갖는다. 특정 실시양태에서, 마스크(208)는 약 3-5 mm의 직경을 갖는 외측 둘레를 갖는다.
특정 실시양태에서, 안구 내 렌즈(200)의 제3 영역(224)은 약광 시력(low light vision)을 향상시킬 수 있다.[0053]
눈의 동공이 확대될 때, 결국 광선이 안구 내 렌즈(200)의 제3 영역(224)에 입사하여 이를 투과한다. 도 9에
나타낸 바와 같이, 광선(950)이 안구 내 렌즈(200)의 제3 영역(224)을 통과할 수 있도록 눈(952)의 동공(958)이
충분히 커진다면, 부가의 광선(950)이 망막에 도달할 것이다. 상기에서 토의된 바와 같이, 안구 내 렌즈(200)
는 원거리 물체로부터의 광선이 망막의 한 지점에 집중하도록, 원거리 물체에 대한 시력을 교정하는 도수를 가
질 수 있다. 약광 조명의 조건 중에, 안구 내 렌즈(200)가 원거리 물체를 보기 위한 도수를 갖는다면, 가까운
물체의 경우 이미지에 초점이 맞지 않을 것이다.
마스크(208)는 상이한 불투명 정도를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 마스크(208)는 실질적으로 모든 가시광선[0054]
을 차단하거나, 또는 가시광선의 일부를 차단할 수 있다. 상기 마스크(208)의 불투명은 또한 마스크(208)의 상
이한 영역에서 가변적일 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크(208)의 내측 가장자리 및/또는 외측 가장자리의
불투명은, 마스크(208)의 중심 영역보다 작다. 상이한 영역에서의 불투명은 갑자기 전이될 수 있거나 또는 점
차적으로 전이될 수 있다. 불투명 전이에 대한 부가적인 예로는, 미국 특허 제5,662,706호, 제5,905,561호 및
제5,965,330호에서 찾을 수 있으며, 이는 참고문헌으로 이의 전문이 본 명세서에 포함된다.
종래의 안구 내 렌즈(1000)는 도 10A-도 10B에 나타내었다. 렌즈 바디(302)의 후방 표면(310)(제2 영역(314)에[0055]
의해서 형성) 및/또는 전방 표면(312)(제2 영역(320)에 의해서 형성)에서 오목한 영역을 가짐으로써, 안구 내
렌즈(300)의 최대 두께는 도 10B에 나타낸 이러한 영역이 없는 종래 렌즈 바디(1002)와 비교하여 감소되었다.
렌즈 바디(1002)의 단면 두께는 일반적으로 렌즈 바디(1002)의 재료 및 안구 내 렌즈(1000)의 도수에 좌우된다.
특히, 렌즈 바디(1002)의 중심 영역은, 중심 영역 단면 두께(1006)를 갖는 안구 내 렌즈(1000)의 가장 두꺼운
영역이다. 본원 명세서에 기술된 특정 실시양태에서, 안구 내 렌즈(200)의 렌즈 바디(202)는 다른 통상의 렌즈
바디의 중심 영역 두께(1006)보다 작은 중심 영역 두께(206)를 갖는다. 도 3B의 실시양태에서, 두께(306)는 종
래 안구 내 렌즈(1000)와 비교하여 더 감소된다.
일반적으로, 상기에서 토의된 바와 같이, 안구 내 렌즈는 안구 내 렌즈를 둥글게 말고, 말린 안구 내 렌즈를 튜[0056]
브에 삽입함으로써 눈에 이식된다. 더 얇아진 렌즈 바디의 하나의 이점은, 안구 내 렌즈를 더욱 꼭 끼게 말아
서 작은 튜브와 작은 절개 영역을 사용할 수 있게 되었다는 점이다. 더 얇아진 렌즈 바디의 다른 이점은, 안구
내 렌즈가 눈 안의 다른 위치에 이식될 때와 관련된 위험을 감소시킬 수 있다. 예를 들면, 안구 내 렌즈(200)
는 전방(anterior chamber) 내에 이식될 수 있다. 안구 내 렌즈(200)는 또한 후방 표면(210)의 제1 영역(21
6)이 천연 수정체 위에 떠 있도록, 후방(posterior chamber) 내에 위치될 수 있다. 안구 내 렌즈(200)의 후방
표면(210)과 천연 수정체 사이의 접촉 가능성은, 안구 내 렌즈(200)의 감소된 두께 때문에 감소될 것이다. 예
를 들면, 안구 내 렌즈(200)는 형상체 열구와 결합하거나 또는 이에 부착될 수 있다(때때로 본 명세서에서는 "
형상체-고정(sulcus-fixated)"이라 함). 안구 내 렌즈(200)는 또한 도 9에 나타낸 바와 같이, 수정체낭에 이식
될 수 있다. 눈안의 안구 내 렌즈의 위치에 따라서, 이에 한정되는 것은 아니지만 마스크(208)의 애퍼처를 포
함하는 안구 내 렌즈(200)의 치수가 조정될 수 있다.
안구 내 렌즈(200) 및/또는 렌즈 바디(202)는, 1 이상의 재료로 제조될 수 있다. 특정 실시양태에서, 안구 내[0057]
렌즈(200) 및/또는 렌즈 바디(202)는 폴리머(예컨대, PMMA, PVDF, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, PEEK, 폴리에
틸렌, 아크릴 코폴리머, 폴리스티렌, PVC, 폴리 설폰), 하이드로겔 및 실리콘을 포함할 수 있다.
II. 초점 심도의 교정을 제공하는 마스크[0058]
임플란트 바디(2014)에 또는 임플란트 바디(2014) 내에 위치될 수 있는 다양한 마스크 변형이 본 명세서에 토의[0059]
되고, 미국특허 제7,628,810호, 미국특허공보 제2006/01 13054호 및 미국특허공보 제2006/0265058호에 기술되었
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으며, 이들 전문이 참고로서 본 명세서에 포함된다. 도 11A는 마스크(2034a)의 하나의 실시양태를 나타낸다.
마스크(2034a)는 마스크(2034a)에 실질적으로 중심에 위치하는 핀구멍 개구 또는 애퍼처(2038a)를 둘러싸는 고
리형 영역(2036a)을 포함할 수 있다. 핀구멍 애퍼처(2038a)는 일반적으로 중심축(2039a)(본 명세서에서, 마스
크(2034a)의 광학 축이라 함) 주위에 위치한다. 핀구멍 애퍼처(2038a)는 원형상일 수 있다. 도 11B는 도 11A
에 나타낸 마스크(2034a)와 유사한 마스크(2034b)의 다른 실시양태를 나타낸다. 도 11A의 마스크(2034a)의 고
리형 영역(2036a)은, 고리형 영역(2036a)의 외측 둘레로부터 내측 둘레로 곡률을 가지며; 도 11B의 마스크
(2034b)의 고리형 영역(2036b)은 실질적으로 평평하다.
마스크는 환자의 시력을 향상시키기 위해 임플란트 바디와 함께 작용하도록 구성된 치수를 가질 수 있다. 예를[0060]
들면, 마스크의 두께는 임플란트 바디에 대한서 마스크의 위치에 따라서 가변될 수 있다. 예를 들면, 마스크가
임플란트 바디내에 매립된다면, 마스크는 0을 초과하며 임플란트 바디의 두께보다 얇은 두께를 가질 수 있다.
대안적으로, 마스크가 임플란트 바디의 표면에 결합된다면, 마스크가 안구 내 렌즈에 부가의 두께를 제공하지
않도록, 마스크가 목적하는 불투명에 필수적인 두께 이하의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 특정 실시양태에서,
마스크는 0 초과 약 0.5 mm 미만의 두께를 갖는다. 하나의 실시양태에서, 마스크는 약 0.25 mm의 두께를 갖는
다. 마스크가 전이 구역의 표면에 또는 부근에 있는 경우에, 마스크는 전이 구역과 유사하거나 또는 동일한 형
상을 가질 수 있다.
마스크는 하기에서 토의되는 바와 같이 일정한 두께를 가질 수 있다. 그러나, 일부 실시양태에서, 마스크의 두[0061]
께는 내주(애퍼처(2038) 부근)과 외주 사이에서 가변될 수 있다. 도 12는 내주에서 외주 쪽으로 두께가 점차로
감소하는 마스크(2034k)를 나타낸다. 도 13은 내주에서 외주 쪽으로 두께를 점차로 증가시키는 마스크(2034l)
를 나타낸다. 다른 단면 프로파일도 또한 가능할 수 있다.
고리형 영역(2036)은 적어도 일부 불투명할 수 있거나, 또는 완전히 불투명할 수 있다. 고리형 영역(2036)의[0062]
불투명 정도(degree of opacity)는, 적어도 일부 또는 실질적으로 모든 빛이 마스크(2032)를 통해 투과되는 것
을 방지한다. 고리형 영역(2036)의 불투명은 여러 상이한 방법들 중 어느 것에 의해서 달성될 수 있다.
예를 들면, 하나의 실시양태에서, 마스크(2034)를 제조하는데 사용된 재료는 본래 불투명할 수 있다. 대안적으[0063]
로, 마스크(2034)를 제조하는데 사용된 재료는 실질적으로 투명하지만, 영역(2036)을 실질적으로 또는 완전히
불투명하게 만들기 위해서 염료 또는 다른 색소화제로 처리될 수 있다. 다른 실시예에서, 마스크(2034)의 표면
을 물리적 또는 화학적으로 처리하여(예컨대, 에칭에 의함), 마스크(2034)의 굴절률 및 투과 특성을 변경하고,
빛이 덜 투과되도록 한다.
다른 대체예에서, 마스크(2034)의 표면은 그 위에 부착되는 입자체로 처리될 수 있다. 예를 들면, 마스크[0064]
(2034)의 표면은 입자상 티탄, 금 또는 탄소가 부착되어, 마스크(2034)의 표면에 불투명성을 제공한다. 다른
대체예에서, 입자체는 도 14에 일반적으로 나타낸 바와 같이 마스크(2034)의 내측 안에서 둘러싸여질 수 있다.
마지막으로, 마스크(2034)는 패터닝되어 가변하는 빛 투과 영역을 제공할 수 있다.
다른 실시양태에서, 마스크는 다른 빛 투과 특성을 갖는 물질로 만들어진 공압출 로드(co-extruded rod)로 형성[0065]
될 수 있다. 공압출된 로드는 슬라이스되어, 본 명세서에 기술된 바와 같이 다수의 마스크를 위한 디스크를 제
공할 수 있다.
다른 실시양태는 마스크를 통한 빛 투과를 조절하는 다른 방법을 사용한다. 예를 들면, 마스크는 도 14에 나타[0066]
낸 바와 같이 겔 충전된 디스크일 수 있다. 겔은 하이드로겔 또는 콜라겐, 또는 마스크 재료와 생체적합성이
있는 다른 적당한 재료일 수 있으며, 마스크의 내측으로 도입될 수 있다. 마스크내 겔은, 겔 내에 현탁된 입자
체(2066)를 포함할 수 있다. 적당한 입자체의 예로는 금, 티탄 및 탄소 입자체이며, 상기에서 토의된 바와 같
이 마스크의 표면에 선택적으로 부착될 수 있다.
마스크(2034)의 재료는 폴리머 재료일 수 있다. 마스크(2034)가 안구 내 임플란트로 도입되고, 마스크(2034)의[0067]
재료는 생체적합성이어야 한다. 겔이 사용되는 경우, 상기 재료는 겔을 유지하는데 적당하다. 마스크(2034)에
대한 적당한 재료의 예로는, 바람직한 폴리메틸메타크릴레이트 또는 다른 적당한 폴리머 또는 코 폴리머, 예컨
대 하이드로겔 등을 포함한다. 물론, 상기에 나타낸 바와 같이, 비(非)겔 충전된 재료에 있어서, 바람직한 재
료는 섬유성 재료, 가령 다크론 메시(Dacron mesh)일 수 있다.
도 15 및 도 16은 마스크(2034w)가 다수의 나노물(nanites, 2068)을 포함하는 실시양태를 나타낸다. "나노물[0068]
(Nanites)"은 환자의 눈으로 들어가는 빛을 차단하거나 또는 선택적으로 투과하도록 적합화되어 있는 작은 입자
체 구조이다. 상기 입자는 나노기술 분야에 사용되는 매우 작은 입자 크기를 가질 수 있다. 나노물(2068)은
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도 15 및 도 16에 일반적으로 나타낸 바와 같이, 겔에 현탁되거나 또는 그렇지 않으면 마스크(2034w)의 내측으
로 삽입된다. 나노물(2068)은 다른 빛 환경에 반응하기 위해서, 미리 프로그램될 수 있다.
그러므로, 도 15에 나타내는 바와 같이, 강한 조명 환경에서 나노물(2068)은 빛의 일부가 눈으로 들어오는 것을[0069]
실질적이고 선택적으로 차단하기 위해서, 스스로 회전하고 위치를 잡는다. 그러나, 눈으로 더 많은 빛이 들어
오는 것이 바람직한 약한 조명 환경에서는, 나노물은 도 16에 나타낸 바와 같이 눈으로 더 많은 빛이 들어오도
록 회전하거나 또는 위치함으로써 반응할 수 있다.
나노-장치 또는 나노물은, 실험실에서 키운 결정 구조이다. 나노물은 빛과 같은 상이한 자극을 수용하도록 처[0070]
리될 수 있다. 특정 실시양태의 하나의 측면에 따르면 나노물에 에너지를 줄 수 있고, 이로 인하여 약한 조명
과 강한 조명 환경에서, 나노물은 상기에 기술되고 도 16에 일반적으로 나타낸 방식으로 회전한다.
나노규모 장치 및 시스템 및 이의 제조 방법이 Smith et al., "Nanofabrication, " Physics Today, February[0071]
1990, pp. 24-30 및 Craighead, "Nanoelectromechanical Systems," Science, November 24, 2000, Vol. 290,
pp. 1502-1505에 기술되어 있으며, 이들은 참고문으로 이들의 전문이 본 명세서에 포함된다. 광학 적용을 위해
작은 크기의 입자의 특성을 맞추는 것은, Chen et al. "Diffractive Phase Elements Based on Two-Dimensional
Artificial Dielectrics," Optics Letters, January 15, 1995, Vol. 20, No. 2, pp. 121-123에 기술되었고,
이의 전문이 본 명세서에 참고문으로 포함된다.
추가의 실시양태에서, 광색 재료(photochromic material)는 상기 마스크로서 또는 마스크에 더하여 사용될 수[0072]
있다. 밝은 빛 조건하에, 광색 재료는 어두워져서 마스크를 생성하고, 근거리 시력(near vision)을 강화시킬
수 있다. 약광 조건하에서는, 상기 광색이 밝아져서, 보다 많은 빛이 망막에 도달하도록 한다. 특정 실시양태
에서는, 약광 조건하에서 광색이 밝아져서 안구 내 임플란트의 광학부를 빛에 노출시킨다.
상기 마스크는 여러가지 불투명 정도를 가질 수 있다. 예를 들면, 마스크는 실질적으로 모든 가시광선을 차단[0073]
할 수 있거나, 또는 가시광선의 일부를 차단할 수 있을 것이다. 마스크의 불투명은 또한 마스크의 여러 영역에
서 다양할 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크의 내측 가장자리 및/또는 외측 가장자리의 불투명은, 마스크의
중심 영역에서보다 작다. 여러 영역에서의 불투명은, 갑자기 전이되거나 또는 점차적으로 전이될 수 있다. 불
투명 전이의 부가적인 예는, 참고문헌으로 이의 전문이 본 명세서에 포함되는 미국 특허 제5,662,706호, 제
5,905,561호 및 제5,965,330호에서 확인할 수 있다,
몇몇 실시양태에서, 마스크(2034)는 도 17에서 나타나 있는 지지 스트랜드(2072 및 2074)에 의해 눈(2010)에 부[0074]
착 또는 고정되며, 일반적으로 이의 전문이 참고문헌으로 본 명세서에 포함되는 미국 특허 제4,976,732호에 기
재되어 있다.
추가 마스크의 상세한 설명은 둘 다 이의 전문이 본 명세서에 참고문헌으로 포함되는 1990년 12월 11일에 발행[0075]
된 미국 특허 제4,976,732호 및 2004년 5월 26일에 출원된 미국 특허 출원 제10/854,033호에 기재되어 있다.
다초점 IOL, 콘택트 렌즈 또는 각막 처치에 있어서 본 명세서에 기재된 애퍼처(예를 들면 핀-구멍 애퍼처)를 구[0076]
비한 마스크를 포함하는 실시양태의 이점은, 상기 방식들의 접근이 애퍼처로부터 나오는 이용가능한 빛을 두 개
이상의 초점으로 나누는 반면, 마스크 접근은 단일 초점(single focus)(단초점(monofocal))이라는 점이다. 이
러한 한계에 의해 다초점 광학 기기의 디자이너는, 어느 정도의 빛을 각각의 초점 지점으로 보낼지를 선택해야
하고, 어떠한 이미지에도 항상 존재하는 초점이 어긋난 빛의 효과에 대처해야 한다. 무한 거리(>6m) 및 40cm
(통상의 판독 거리)의 중요한 거리에서 시력을 최대화하기 위해서는, 중간 거리에서는 빛의 초점이 전혀 또는
거의 맞지 않는 것이 통상적이며, 결과로서 이러한 거리에서의 시력은 좋지 않다.
그러나, 초점 심도를 증가시키는 애퍼처가 있는 경우, 노안 환자의 중간 시력을 크게 향상시킨다. 실제로 핀-[0077]
구멍 애퍼처로 인한 초점 흐림(defocus blur)은, 가까운 거리보다 중간 거리에서 더 적다. 상기는 애퍼처를 갖
는 안과 장치의 실시양태와 두 개의 시판용 다초점 IOL을 비교하는 디포커스의 함수로서, 시력의 플롯인 도 59
에서 나타낼 수 있다. 다초점 IOL의 경우 1m(-1D) 내지 40cm(-2.5D)의 범위에 비해, 매우 근접한 거리(33cm,
-3D)에서 더 좋은 시력이 얻어지는 반면에, 핀-구멍 애퍼처는 중간 범위에서 다초점 광학 기기를 능가할 수 있
다.
시력은 logMAR로 측정하며, 볼 수 있는 가장 작은 각도 간격(angular spacing) 또는 해상도의 최소 각의 로그값[0078]
이며, 가시 거리와는 상관없다. 0의 logMAR 값은, 20/20, 6/6 또는 원거리에서 1의 소수 시력(decimal
acuity) 및 예거(Jaeger) 1(J1)의 근거리 시력과 동등한 값을 의미한다. 디포커스는 미터 단위로, 눈의 초점
길이의 역수인 디옵터로서 측정된다. 따라서, 디포커스 -1D는 눈이 1/1=1 미터에서 초점을 맞춘다는 것을 의미
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한다. 표준(US 및 유럽) 판독 거리는, 디포커스 -2.5D인 40cm이다(1/0.4=2.5).
III. UV-저항성 폴리머 마스크 재료[0079]
마스크는 부피에 대해 매우 큰 표면 비율을 가지며, 이식 이후에 강한 태양 빛에 노출되므로, 마스크는 분해(자[0080]
외선(UV) 또는 다른 파장의 빛에 노출되는 것을 포함)에 대한 양호한 저항성을 가지는 재료를 포함하는 것이 바
람직하다. UV 흡수 모노머(코-모노머를 포함)로 제조되거나 또는 UV 흡수 첨가제를 포함하는 것들을 포함하는
UV 흡수 성분을 포함하는 폴리머를 사용하여, UV 조사에 의한 분해에 대한 저항성이 있는 본 명세서에서 개시하
는 마스크를 형성할 수 있다. 이러한 폴리머의 예로는, 이에 제한되지는 않지만 이의 전문에 참고문헌으로서
본 명세서에 포함되는 미국 특허 제4,985,559호 및 제4,528,311호에 기재된 것들을 포함한다. 바람직한 실시양
태에서, 마스크는 그 자체로 UV 조사에 의한 분해에 대해 저항성을 갖는 재료를 포함한다. 하나의 실시양태에
서, 마스크는 UV 조사에 대해서 투과성이 있거나 또는 실질적으로 굴절되도록 하는 폴리머 재료를 포함한다.
렌즈 바디는 UV 조사에 의한 분해에 저항성이 있는 마스크 외에 UV 흡수 성분을 포함할 수 있거나, 또는 마스크
는 렌즈 바디 내의 UV 흡수 성분이 UV 조사에 의해 마스크가 분해되는 것을 방지할 수 있으므로 UV 조사에 의한
분해에 저항성이 없어도 된다.
대안적으로, 마스크는 분해 저항 효과를 주는 성분을 포함할 수 있거나, 또는 바람직하게는 적어도 전방 표면[0081]
상에 분해 저항성을 주는 코팅재를 제공할 수 있다. 이러한 성분들은 예를 들면 하나 이상의 다른 폴리머와 하
나 이상의 분해 저항성 폴리머를 혼련함으로써 포함될 수 있다. 이러한 혼련물은 또한 UV 흡수 재료와 같은,
목적하는 특성들을 제공하는 첨가제를 포함할 수도 있다. 하나의 실시양태에서, 혼련물은 약 1-10 중량%, 5-15
중량% 및 10-20 중량%를 포함하는 총 약 1-20 중량%의 하나 이상의 분해 저항성 폴리머를 포함하는 것이 바람직
하다. 또 다른 실시양태에서, 혼련물은 하나 이상의 분해 저항성 폴리머를, 약 80-90 중량%, 85-95 중량% 및
90-100 중량%를 포함하여 총 약 80-100 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. 또 다른 실시양태에서, 상기 혼련
물은 하나 이상의 분해 저항성 폴리머를 약 50-60 중량% 및 40-50 중량%(총 약 40-60 중량%) 포함하여, 재료를
보다 균등한 비율로 가진다. 마스크는 UV 흡수 첨가제 또는 모노머를 혼입한 하나 이상의 폴리머와, 하나 이상
의 대체로 UV 투과성 또는 굴절성의 폴리머를 포함하는 혼련물을 포함하는, 여러가지 타입의 분해 저항성 폴리
머의 혼련물을 포함할 수 있다. 이러한 혼련물은 하나 이상의 대체로 UV 투과성 폴리머를 약 1-10 중량%, 5-15
중량% 및 10-20 중량%(총 약 1-20 중량%), 하나 이상의 대체로 UV 투과성 폴리머를 약 80-90 중량%, 85-95 중
량% 및 90-100 중량%(총 약 80-100 중량%), 및 하나 이상의 대체로 UV 투과성 폴리머를 약 50-60 중량% 및 40-
50 중량%(총, 약 40-60 중량%)를 갖는 것들을 포함한다. 상기 폴리머 또는 폴리머 혼련물은, 이에 제한하지는
않지만 혼탁화제, 다중 음이온 화합물 및/또는 상처 치유 조절 화합물을 포함하는, 하기에 기재한 다른 재료와
혼합될 수 있다. 이러한 다른 재료와 혼합되는 경우, 마스크를 제조하는 재료 중의 폴리머 또는 폴리머 혼련물
의 양은, 약 60 중량% - 90 중량%, 약 65 중량% - 85 중량%, 약 70 중량% - 80 중량% 및 약 90 중량% - 99 중
량%를 포함하는 약 50 중량% - 99 중량%가 바람직하다.
바람직한 분해 저항성 폴리머는, 할로겐화 폴리머를 포함한다. 바람직한 할로겐화 폴리머는 고불화 폴리머를[0082]
포함하는 하나 이상의 탄소-불소 결합을 갖는 폴리머인 불화 폴리머(fluorinated polymer)를 포함한다. 여기서
사용하는 "고불화(highly fluorinated)"라는 용어는, 이의 일반적인 의미로 사용되는 넓은 용어이며, C-F 결합
의 수가 탄소-수소 결합(C-H 결합)의 수와 같거나, 또는 이를 초과하는 하나 이상의 탄소-불소 결합(C-F 결합)
을 갖는 폴리머를 포함한다. 고불화 재료는 또한 과불화(per-fluorinated) 또는 완전 불화(fully fluorinated)
재료, 다른 할로겐 치환체, 예컨대 염소를 포함하는 재료, 및 산소- 또는 질소-함유 관능기를 포함하는 재료를
포함한다. 폴리머 재료에 있어서, 결합 수는 모노머(들) 또는 폴리머를 형성하는 반복 유닛에 대하여 카운팅되
며, 코폴리머의 경우에는 (몰 기준으로) 각 모노머의 상대적인 양에 의해 카운팅될 수 있다.
바람직한 고불화 폴리머는, 이에 제한되지는 않지만, 폴리테트라플루오로에틸렌(PFTE 또는 테플론
®
), 폴리비닐[0083]
리딘 플루오라이드(PVDF 또는 Kynar
®
), 폴리-l,l,2-트리플루오로에틸렌 및 퍼플루오로알콕시에틸렌(PFA)을 포함
한다. 다른 고불화 폴리머는 이에 제한되지는 않지만, 하기 모노머 유닛을 하나 이상 포함하는 호모폴리머 및
코폴리머를 포함한다: 테트라플루오로에틸렌-(CF2-CF2)-; 비닐리덴 플루오라이드-(CF2-CH2)-; 1,1,2-트리플루오
로에틸렌-(CF2-CHF)-; 헥사플루오로프로펜-(CF(CF3)-CF2)-; 비닐 플루오라이드-(CH2-CHF)- (호모폴리머는 "고불
화"되지 않음); 산소-함유 모노머, 예컨대 -(O-CF2)-, -(O-CF2-CF2)-, -(O-CF(CF3)-CF2)-; 염소-함유 모노머, 예
컨대 -(CF2-CFCl)-. 충분한 불화 정도를 갖는 다른 불화 폴리머, 예컨대 불화 폴리이미드 및 불화 아크릴레이
트도, 또한 바람직한 실시양태에 따라 마스크에 사용하기 위한 고불화 폴리머로서 고려된다. 여기서 기재하는
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호모폴리머 및 코폴리머는, 시판되는 것을 이용할 수 있으며/있거나 시판되는 재료로부터 이들을 제조하는 방법
이 광범위하게 출판되어 있으며, 폴리머 분야에서 잘 알려져 있다.
고불화 폴리머가 바람직하기는 하지만, 하나 이상의 탄소-불소 결합을 갖는 폴리머는 상기에서 기재하는 "고불[0084]
화" 폴리머의 정의 내에는 들지 않지만 또한 사용될 수 있다. 이러한 폴리머는 C-F 결합보다 C-H 결합수가 더
큰 폴리머 재료를 형성하기 위해, 에틸렌, 비닐 플루오라이드 또는 다른 모노머와, 이전 단락에서 언급된 하나
이상의 모노머로부터 형성된 코-폴리머를 포함한다. 다른 불화 폴리머, 예컨대 불화 폴리이미드도 또한 사용할
수 있다. 불화 또는 고불화 폴리머와 결합해서 또는 단독으로 몇몇 응용에서 사용될 수 있는 다른 재료는, 둘
다 이의 전문이 참고문헌으로 본 명세서에 포함되는 미국 특허 제4,985,559호 및 미국 특허 제4,528,311호에 기
재되어 있다.
고불화의 이전 정의를, 몇 가지 예를 들어 최적으로 설명한다. 하나의 바람직한 UV-저항성 폴리머 재료는,[0085]
-(CF2-CH2)n-와 같은 식으로 나타내는 구조를 갖는 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF)이다. 각 반복 유닛은 두개
의 C-H 결합 및 두개의 C-F 결합을 갖는다. C-F 결합의 수가 C-H 결합 수와 같거나 또는 이를 초과하므로,
PVDF 호모폴리머는 "고불화" 폴리머이다. 또 다른 재료는 2:1 몰 비율로 상기 두개의 모노머로부터 형성되는
테트라플루오로에틸렌/비닐 플루오라이드 코폴리머이다. 형성된 코폴리머가 블록, 랜덤 또는 임의의 다른 배열
인지의 여부에 관계없이, 2:1 테트라플루오로에틸렌:비닐 플루오라이드 조성물로부터 각각 4개의 C-F 결합을 가
지는 두 개의 테트라플루오로에틸렌 유닛, 및 세개의 C-H 결합 및 하나의 C-F 결합을 갖는 하나의 비닐 플루오
라이드를 포함하는 "반복 유닛"을 추정할 수 있다. 두 개의 테트라플루오로에틸렌 및 하나의 비닐 플루오라이
드의 총 결합은, 9개의 C-F 결합 및 세 개의 C-H 결합이다. C-F 결합의 수가 C-H 결합의 수와 같거나 또는 이
를 초과하므로, 이러한 코폴리머는 고불화되었다고 생각된다.
특정 고불화 폴리머, 예컨대 PVDF는 하나 이상의 목적하는 특성, 예컨대 이들의 비-불화되거나 또는 불화의 정[0086]
도가 상대적으로 덜 높은 폴리머와 비교해서, 비교적 화학적으로 불활성이며 비교적 높은 UV 투과성을 갖는다.
본 출원인은 이론으로 설명할 수는 없지만, 비교적 다수의 C-F 결합을 갖는 재료의 목적하는 많은 특성에 대한
원인이 불소(F)의 전기 음성도일 수 있다고 생각한다.
바람직한 실시양태에서, 마스크를 형성하는 고불화 폴리머 재료의 적어도 일부는 목적하는 불투명을 부여하는[0087]
혼탁화제를 포함한다. 하나의 실시양태에서, 상기 혼탁화제는 예를 들면 투과 애퍼처와 결합하여, 본 명세서에
서 기재하는 피사계 심도(depth of field)의 개선을 제공하기에 충분한 불투명을 제공한다. 하나의 실시양태에
서, 혼탁화제는 재료의 불투명에 기여한다. 또 다른 실시양태에서, 혼탁화제는 입사광의 약 90% 이상의 투과를
차단한다. 또 다른 실시양태에서, 혼탁화제는 재료를 불투명하게 만든다. 또 다른 실시양태에서, 혼탁화제는
입사광의 약 80% 이상의 투과를 차단한다. 바람직한 혼탁화제는, 이에 제한하지는 않지만, 유기 염료 및/또는
색소, 바람직하게는 블랙 염료, 예컨대 아조 염료, 헤마톡실린 블랙 및 수단 블랙, 무기 염료 및/또는 색소(금
속 산화물, 예컨대 산화철 블랙 및 일미나이트(ilminite), 실리콘 카바이드 및 탄소(예를 들면 카본 블랙, 서브
미크론 분말화 탄소)를 포함)를 포함한다. 앞서 말한 재료는 단독으로 또는 하나 이상의 다른 재료와 조합해서
사용될 수 있다. 혼탁화제는 모든 또는 몇몇 표면 상에 마스크의 하나 이상의 표면에서 적용될 수 있거나, 또
는 폴리머 재료와 혼합되거나 또는 결합될 수 있다(예를 들면, 폴리머 용융상 중의 혼련). 이전의 재료 중 임
의의 것을 사용할 수 있는데도 불구하고, 탄소는 특히 유용하다고 확인되었으며 많은 유기 염료처럼 시간이 지
나도 바래지 않으며 UV 조사 흡수에 의해 재료의 UV 안정성에 도움을 줄 수도 있다. 하나의 실시양태에서, 탄
소는 수득된 조성물의 약 12 중량%, 약 13 중량% 및 약 14 중량%를 포함하는 약 10 중량% 내지 약 15 중량%을
포함하는, 수득된 조성의 약 2 중량% 내지 약 20 중량%로 포함되도록, 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF) 또는
다른 폴리머 조성물(고불화 폴리머를 포함함)과 혼합될 수 있다.
몇몇 혼탁화제, 예컨대 마스크를 검게하거나, 어둡게 하거나 또는 불투명하게 하도록 하기 위해 첨가되는 색소[0088]
는, 마스크가 이러한 제제를 포함하지 않는 마스크 재료 보다 더 큰 정도로 입사 조사선을 흡수하도록 할 수 있
다. 색소를 운반 또는 포함하는 매트릭스 폴리머는 흡수된 조사선에 의해 분해될 수 있으므로, 환경적 분해에
취약한 넓은 표면적을 가지며 얇은 마스크는, 예컨대 UV 조사선에 의한 분해에 대해 그 자체의 저항성을 갖는
재료로 구성되거나, 또는 일반적으로 UV 조사에 대해 투과성이거나 비흡수성을 갖는 것이 바람직하다. 높은 UV
저항성 및 분해 저항성 재료, 예컨대 UV 조사에 대해 고 투과성인 PVDF를 사용하면, 혼탁화제의 선택에 더 높은
융통성을 제공하며, 이것은 특정 혼탁화제의 선택에 의해 야기되는 폴리머에 대한 가능한 손상을 크게 감소시키
기 때문이다.
분해 저항성 구성의 이전 실시양태의 다수의 변형예가 고려된다. 하나의 변형예에서, 마스크는 UV 분해의 대상[0089]
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이 되지 않는 재료로 거의 배타적으로 구성된다. 예를 들면 마스크는 금속, 고불화 폴리머, 탄소(예를 들면 그
라핀(graphene), 순수한 탄소) 또는 또 다른 유사한 재료로 구성될 수 있다. 금속에 의한 마스크의 구성은,
"Method of Making an Ocular Implant"라는 제목의 2004년 12월 1일 출원된 미국 출원 제11/000,562 및 또한
"Method of Making an Ocular Implant"라는 제목의 2005년 4월 14일 출원된 미국 출원 11/107,359에 보다 상세
하게 기재되어 있다(상기 두 개는 참고문헌으로서 본 명세서에 포함됨). 상기 내용에서 사용된 것과 같이, "배
타적인(exclusively)"은 몇몇 비-관능성 재료(예를 들면, 불순물)의 존재 및 상기에서 기재된 혼탁화제를 허용
하는 넓은 용어이다. 다른 실시양태에서, 마스크는 재료의 결합물을 포함할 수 있다. 예를 들면 하나의 변형
에서, 마스크는 이식가능한 재료로 우선 형성되며, UV 저항성 재료로 코팅된다. 또 다른 변형에서, 마스크는
하나 이상의 UV 분해 저해제 및/또는 하나 이상의 UV 분해 저항성 폴리머를 충분한 농도로 포함하여, 정상 사용
조건 하의 마스크가 적어도 약 5년, 바람직하게는 적어도 약 10년 및 특정 구현에서는 적어도 약 20년 동안 의
학적으로 유효하게 유지되도록, 분해의 관점에서 이의 충분한 기능을 유지할 것이다.
도 23은 고불화 폴리머 및 혼탁화제를 포함하는 마스크로부터 마스크형 안구 내 임플란트를 제조하기 위한 방법[0090]
을 설명하는 흐름도이다. 도 23의 방법은 고불화 폴리머 및 혼탁화제의 마스크를 제조하는 제1 방법(3014), 및
상기 제1 방법(3014)으로 제조된 마스크로 안구 내 임플란트를 제조하는 제2 방법(3026)을 포함한다.
단계(3000)에서, 폴리머의 액상 형태는 열을 가하여 PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드)가 용매, 예컨대 디메틸[0091]
아세타미드(DMAC 또는 DMA)에 완전히 용해될 때까지 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF) 펠렛을 용해시켜 제조한
다. 하나의 실시양태에서, 용액은 PVDF가 완전하게 용해되는 것을 보장하기 위해서, 최소 12 시간 동안 혼합될
수 있다. 단계(3200)에서, PVDF/DMAC 용액은 고속 전단 혼합기를 사용해서 카본 블랙 또는 염료와 같은 혼탁화
제와 혼합된다. 하나의 실시양태에서, 수득된 조성물의 87 중량%를 PVDF가 포함하는 반면에, 카본 블랙은 수득
된 조성물의 13 중량%를 포함한다. 단계(3300)에서, PVDF/카본 블랙 용액은 아이거 고속 밀과 같은 고속 밀로
선택적으로 밀링하여, 용액 중의 임의의 큰 탄소 응집체를 파쇄한다. PVDF/카본 블랙 용액은 임의의 탄소 응집
체를 추가로 파쇄하기 위하여, 두번째 밀링을 진행할 수 있다. 단계(3400)에서, 수득된 용액을 실리콘 웨이퍼
에 적용시켜, 실리콘 디스크 상에 폴리머 필름을 형성한다. 여기서, 실리콘 웨이퍼 상의 적용을 위해 대략 55
g의 PVDF/카본 블랙 용액을 분산 배럴(dispensing barrel)에 붓는다. 상기 실리콘 디스크를 스핀 캐스팅 머신
의 스피너에 놓고, 분산 배럴을 사용하여 실리콘 웨이퍼에 PVDF/카본 블랙 용액의 비드를 원형 패턴으로 적용시
켜, 1" 직경의 디스크 중심 부분을 비어있도록 남긴다. 디스크 상에 PVDF/카본 블랙 용액을 분산시키기 위해
스피너 서클을 작동시켜, 균일한 10 미크론 두께 필름을 형성한다. 폴리머 필름을 또한 증착시키고, 스프레이
코팅 등을 실리콘 웨이퍼에 실행할 수 있다. 다음에, 코팅된 실리콘 디스크를 핫-플레이트에 놓아, DMAC를 증
발시킨다. 단계(3500)에서, 코팅된 실리콘 웨이퍼를 엑시머 레이저 하에 둔다. 레이저 커팅 마스크(laser
cutting mask)를 레이저에 마운팅하고, 레이저를 작동시킨다. 레이저 커팅 마스크를 사용하여, 대략 150 마스
크 패턴을 PVDF/카본 블랙 필름으로 레이저 가공한다. 마스크 패턴은 또한 펀치 기술, 전자 빔, 에칭 등을 사
용하여 형성할 수도 있다. 실리콘 디스크의 가장자리로부터 대략 5mm 정도 연장되는 재료는 사용하지 않도록,
마스크 패턴을 배열한다. 레이저 가공 중에 실리콘 디스크는 표면 냉각을 위해서 질소 가스 중에 세척(bath)할
수 있다. 단계(3600)에서, 레이저 가공 마스크는 면도날을 사용해서 실리콘 디스크로부터 제거한다. 선택 단
계는 레이저-가공 마스크를 성형 몰드에 두는 단계를 포함할 수 있다. 상기 몰드는 평판 몰드, 오목 몰드, 볼
록 몰드 또는 보다 복잡한 형태의 몰드와 같이, 목적하는 임의의 형상일 수 있다. 마스크는 하나의 기술로서
성형 몰드의 하부 절반(bottom-half)에 배치될 수 있다. 성형 몰드의 상부 절반(top-half)은 마스크의 상부에
배치될 수 있으며, 몰드는 약 160℃의 오븐에 둘 수 있다. 다음에, 몰드를 가열 및 베이킹하여, 마스크를 형성
한다. 상기 몰드는 대략 160℃에서 대략 두 시간 동안 베이킹된다. 2 시간 후에 오븐 온도를 약 30℃로 감소
시키고, 마스크를 오븐 온도가 약 40℃ 미만으로 떨어질 때까지 또는 대략 두 시간 동안 베이킹한다.
단계(3016)에서, 제1 방법(3014)에서 제조된 인레이(예를 들면 마스크)를 몰드 형틀에 둔다. 하나의 실시양태[0092]
에서, 실리콘 또는 다른 렌즈 재료를 몰드 형틀 및 인레이 주위에 주입한다. 단계(3018)에서, 실리콘을 경화시
켜 임플란트 바디를 형성한다. 단계(3020)에서 안구 내 임플란트를 폴리싱(polished)하고, 단계(3022)에서 임
플란트 바디를 몰드 형틀에서 추출한다. 단계(3024)에서, 하나 이상의 햅틱을 임플란트 바디에 부착(예를
들면, 결합)하여, 안구 내 임플란트를 형성한다. 단계(3024)는 세개의 조각 IOL 디자인에는 포함될 수 있지만,
다른 디자인을 위해서는 요구되지 않을 수도 있다. 특정 실시양태에서, 하나 또는 그 이상의 햅틱은 주입 공정
중에 임플란트 바디와 함께 형성된다. 예를 들면 임플란트 바디는 선반 가공되며, 단일 조각으로부터 햅틱이
밀링될 수 있다. 안구 내 임플란트는 이후에 조사될 수 있다(예를 들면, 외관(cosmetic), 디옵터, 분해능).
IV. 가시성 회절 패턴을 감소시키기 위해 구성되는 마스크[0093]
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전술한 다수의 마스크는 환자의 초점 심도를 향상시키기 위해 사용될 수 있다. 다양한 부가적인 마스크 실시양[0094]
태를 하기에 설명한다. 하기에서 기재된 몇몇 실시양태는, 마스크 고리형 영역을 통과하는 빛 투과 구멍을 포
함하여, 고리형 영역에 의해 차단되는 빛의 양을 변화시킨다. 마스크를 통과하는 빛 투과 구멍은 환자의 흐릿
하거나 또는 약한 조명 시력을 향상시킬 수 있다. 빛 투과 구멍의 특정 배열에서, 빛 투과 구멍은 본 명세서에
서 기재한 마스크의 시력 향상 효과를 방해하는 회절 패턴을 생성할 수 있다. 따라서, 특정 마스크는 마스크
실시양태의 시력 향상 효과를 방해하지 않거나 또는 회절 패턴을 생성하지 않는 빛 투과 구멍을 포함하는 것으
로 기재된다.
도 18- 도19는 노안 환자의 눈의 초점 심도를 증가시키기 위해 구성되는 마스크(2100)의 하나의 실시양태를 보[0095]
여준다. 마스크(2100)는 하기에 상이하게 기재된 것을 제외하고, 상기에서 기재한 마스크와 유사한다. 마스크
(2100)는 상기에서 기재한 것을 포함하여 본 명세서에서 기재하는 재료로 구성될 수 있다. 또한 마스크(2100)
는 임의의 적당한 공정에 의해 형성될 수 있다. 마스크(2100)는 IOL에 적용되도록 구성된다.
하나의 실시양태에서, 마스크(2100)는 전방 표면(2108) 및 후방 표면(2112)를 갖는 바디(2104)를 포함한다. 바[0096]
디(2104)는 개방형 셀 발포 재료, 팽창된 고체 재료 및 실질적으로 불투명 재료 중 하나 이상을 포함하는, 적당
한 임의의 재료로 구성될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 바디(2104)를 형성하기 위해 사용되는 재료는 비교적
높은 수분 함량을 가진다. 다른 실시양태에서, 바디(2104)를 형성하기 위해 사용될 수 있는 재료는, 폴리머(예
를 들면, PMMA, PVDF, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, PEEK, 폴리에틸렌, 아크릴 코폴리머(예를 들면 친수성 또
는 소수성), 폴리스티렌, PVC, 폴리설폰), 히드로겔, 실리콘, 금속, 금속합금 또는 탄소(예를 들면, 그라핀, 순
수한 탄소)를 포함한다.
하나의 실시양태에서, 마스크(2100)는 빛 투과 구멍 배열(2116)을 포함한다. 빛 투과 구멍 배열(2116)은 복수[0097]
의 구멍(2120)를 포함할 수 있다. 구멍(2120)은 마스크(2100)의 일부분에만 나타나지만, 하나의 실시양태에서
구멍(2120)은 바디(2104) 전체에 걸쳐 배치되는 것이 바람직하다. 하나의 실시양태에서, 구멍(2120)은 도 20A
에서 복수의 위치(2120')에 의해 도시되는 6각형 패턴으로 배열된다. 하기에서 기재한 것과 같이, 복수의 위치
가 규정될 수 있으며, 이후 마스크(2100) 상에 복수의 구멍(2120)의 형성시 이를 이용할 수 있다. 마스크
(2100)는 바디(2104)의 외측 가장자리를 규정하는 외주(2124)를 갖는다. 몇몇 실시양태에서, 마스크(2100)는
외주(2124) 및 애퍼처(2128) 사이에 위치하는 비-투과 영역(2132), 및 외주(2124)에 의해 적어도 일부분이 둘러
싸인 애퍼처(2128)를 포함한다.
바람직하게 마스크(2100)는 대칭적이며, 예를 들면 마스크 축(2136)에 대해 대칭적이다. 하나의 실시양태에서,[0098]
마스크(2100)의 외주(2124)는 원형이다. 일반적으로 마스크는 하나의 실시양태에서, 약 3mm 내지 약 8mm의 범
위, 흔히 약 3.5mm 내지 약 6mm, 및 약 6mm 미만의 범위의 직경을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 마스크는 원
형이며, 4mm 내지 6mm 범위의 직경을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 마스크(2100)는 원형이며, 4mm 미만의 직
경을 갖는다. 외주(2124)는 또 다른 실시양태에서 약 3.8mm의 직경을 갖는다. 몇몇 실시양태에서, 마스크 축
에 대해 비대칭적이거나 대칭적인 마스크는 눈의 해부 구조에 따라 선택적 위치에 마스크가 위치하거나 또는 유
지되도록 할 수 있는 이점을 제공한다.
마스크(2100)의 바디(2104)는 종래의 디자인 또는 감소된 두께의 특정 안구 내 렌즈 디자인과 커플링되도록 구[0099]
성될 수 있다. 예를 들면, 만곡이 있는 특정 IOL과 마스크(2100)가 커플링되는 경우, 바디(2104)에는 상기 만
곡에 상응하는 정도로 마스크 축(2136)을 따라 만곡이 제공될 수 있다. 마찬가지로 바디(2104)는 IOL 전이 구
역이 적용되도록, 상응하는 형상으로 제공될 수 있다.
몇몇 실시양태에서, 마스크(2100)는 목적하는 도수를 갖는다. 도수는 전방 및 후방 표면(2108, 2112)의 적어도[0100]
하나가 만곡이 있도록 구성됨으로써 제공될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 전방 및 후방 표면(2108, 2112)은
상이한 양의 만곡을 갖도록 제공된다. 상기 실시양태에서, 마스크(2100)는 외주(2124)로부터 애퍼처(2128)로의
두께가 다양하다.
하나의 실시양태에서, 바디(2104)의 전방 표면(2108) 및 후방 표면(2112) 중 하나가 실질적으로 평면이다. 하[0101]
나의 평면 실시양태에서, 균일한 만곡이 평면 표면을 가로질러 측정되지 않거나 거의 측정될 수 없다. 또 다른
실시양태에서, 전방 및 후방 표면(2108, 2112) 둘 다는 실질적으로 평면이다. 일반적으로, 마스크(2100)의 바
디(2104)의 두께는 0보다 크고 약 0.5mm 이하의 범위 내에 있을 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 마스크(210
0)의 두께(2138)는 약 0.25mm이다.
실질적으로 평면 마스크는 비-평면 마스크에 비해 몇가지 이점이 있다. 예를 들면, 실질적으로 평면 마스크는[0102]
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특정 만곡으로 형성되는 것 보다 용이하게 제작될 수 있다. 특히, 마스크(2100)에 만곡을 유도하는 것과 관련
된 공정 단계를 제거할 수 있다.
애퍼처(2128)는 마스크 축(2136)을 따라 실질적으로 모든 입사 광을 투과시키기도록 구성된다. 비-투과 영역[0103]
(2123)은 애퍼처(2128)의 적어도 일부분을 둘러 싸며, 실질적으로 이로의 입사 광의 투과를 막는다. 상기 마스
크와 연계해서 설명하는 것과 같이, 애퍼처(2128)는 바디(2104) 내의 관통 구멍(through-hole) 또는 바디의 실
질적으로 광 투과(예를 들면 투명) 영역일 수 있다. 마스크(2100)의 애퍼처(2128)는 일반적으로 마스크(2100)
의 외주(2124) 내에 규정된다. 애퍼처(2128)는 상기에서 기재한 적당한 구성들 중 임의의 것을 취할 수 있다.
하나의 실시양태에서, 애퍼처(2128)는 실질적으로 원형이며, 마스크(2100) 에서 실질적으로 중심에 있다. 애퍼[0104]
처(2128)의 크기는 노안 환자의 눈의 초점 심도를 증가시키기에 효과적인 임의의 크기일 수 있다. 특히, 애퍼
처(2128)의 크기는 눈내의 마스크의 위치(예를 들면 망막으로부터의 거리)에 따라 달라진다. 예를 들면, 눈의
안구 내 공간에서 애퍼처(2128)는 하나의 실시양태에서 약 2mm 미만의 직경을 갖는 원형이다. 또 다른 실시양
태에서, 애퍼처의 직경은 약 1.1mm 내지 약 1.6mm이다. 또 다른 실시양태에서, 애퍼처(2128)는 원형이며, 약
1.6mm 또는 그 미만의 직경을 갖는다. 추가의 실시양태에서, 애퍼처의 직경은 대략 mm 단위이다. 대부분의 애
퍼처는 약 0.85mm 내지 약 2.2mm의 범위, 및 흔히 약 1.1mm 내지 약 1.7mm 범위의 직경을 가질 것이다.
특정 실시양태에서, 애퍼처(2128)는 도수 및/또는 굴절 특성을 포함한다. 예를 들면, 애퍼처(2128)는 광학부를[0105]
포함할 수 있으며, 도수(예를 들면, 양수 또는 음수의 도수)를 가질 수 있다. 특정 실시양태에서, 애퍼처
(2128)는 눈의 굴절 오류를 보정할 수 있다.
비-투과 영역(2132)은 마스크(2100)를 통한 복사 에너지의 투과를 막도록 구성된다. 예를 들면, 하나의 실시양[0106]
태에서, 비-투과 영역(2132)은 입사 복사 에너지 스펙트럼의 적어도 일부분의 실질적으로 모든 투과를 막는다.
하나의 실시양태에서, 비-투과 영역(2132)은 사람 눈으로 볼 수 있는 전자기 스펙트럼에서 복사 에너지와 같은,
실질적으로 모든 가시 광의 투과를 막도록 구성된다. 비-투과 영역(2132)은 실질적으로 몇몇 실시양태에서 사
람에게 시야 범위 밖의 복사 에너지의 투과를 막을 수 있다.
상기에서 기재한 것과 같이, 비-투과 영역(2132)을 통한 빛의 투과를 막으면, 망막 및 중심와(fovea)에 도달하[0107]
나 선명한 이미지를 형성하기 위해 망막 및 중심와에서 수렴하는 것이 아닌 빛의 양을 감소시킨다. 상기에서
기재한 것과 같이, 애퍼처(2128)의 크기는 이를 통해 투과되는 빛이 대체로 중심와 또는 망막에서 모이도록 한
다. 따라서, 마스크(2100)가 없는 경우보다 더 선명한 이미지가 눈에 투영된다.
하나의 실시양태에서, 비-투과 영역(2132)은 입사 광의 적어도 약 90%의 투과를 막는다. 또 다른[0108]
실시양태에서, 비-투과 영역(2132)은 모든 입사 광의 적어도 약 95%의 투과를 막는다. 마스크(2100)의 비-투과
영역(2132)은 빛의 투과를 막도록 실질적으로 불투명인 것으로 구성될 수 있다. 여기서 기재한 것과 같이 "불
투명"이라는 용어는, 입사 가시 광의 약 2% 이하의 투과를 나타내는 것이다. 하나의 실시양태에서, 바디(210
4)의 적어도 일부분은 입사광의 99% 초과에 대해 불투명이 되도록 구성된다.
상기에서 기재한 것과 같이, 비-투과 영역(2132)은 입사 광을 흡수하지 않고 빛의 투과를 막도록 구성될 수 있[0109]
다. 예를 들면 마스크(2100)는 이의 전문이 본 명세서에 참고문헌으로 포함되는 2003년 4월 29일에 발행된 미
국 특허 제6,554,424호에 기재한 것과 같이, 빛을 반사하거나 또는 더욱 복잡한 방식으로 빛과 상호작용하도록
제조될 수 있다.
상기에서 기재한 것과 같이, 마스크(2100)는 또한 몇몇 실시양태에서 복수의 구멍(2120)을 포함하는 빛 투과 구[0110]
멍을 갖는다. 복수의 구멍(2120)(또는 다른 빛 투과 구조)의 존재로 인해, 보다 많은 빛이 잠재적으로 마스크
(2100)를 통과하도록 하여, 비-투과 영역(2132)을 통한 빛의 투과에 영향을 줄 수 있다. 하나의 실시양태에서,
구멍(2120)이 존재하지 않는 경우 비-투과 영역(2132)은 마스크(2100)를 통과하게 되는 입사광의 약 98% 또는
그 이상을 흡수하도록 구성된다. 복수의 구멍(2120)의 존재로 인해 비-투과 영역(2132)에 보다 많은 빛이 통과
되도록 하여, 비-투과 영역(2132) 상의 입사광 중 단지 약 95%만이 비-투과 영역(2132)을 통과하는 것으로부터
방지된다. 상기 구멍(2120)은 보다 많은 빛이 비-투과 영역을 통과해서 망막으로 가도록 하여, 눈의 초점 심도
에 대한 애퍼처(2128)의 이점이 감소될 수 있다.
상기에서 기재한 것과 같이, 도 18A에 나타낸 마스크(2100)의 구멍(2120)은 마스크(2100)의 어느 곳이든 존재할[0111]
수 있다. 하기에 기재하는 마스크의 다른 실시양태에서, 실질적으로 모든 빛 투과 구멍은 마스크의 하나 이상
의 영역에 있다.
도 18A의 구멍(2120)은 마스크(2100)의 전방 표면(2108) 및 후방 표면(2112) 사이에 적어도 일부분 연장된다.[0112]
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하나의 실시양태에서, 각 구멍(2120)은 구멍 입구(2160) 및 구멍 출구(2164)를 포함한다. 구멍 입구(2160)는
마스크(2100)의 전방 표면(2108)에 인접하게 위치한다. 구멍 출구(2164)는 마스크(2100)의 후방 표면(2112)에
인접하게 위치한다. 하나의 실시양태에서, 각 구멍(2120)은 마스크(2100)의 전방 표면(2108) 및 후방 표면
(2112) 사이 전체 거리에서 연장된다.
하나의 실시양태에서, 구멍(2120)은 약 0.002mm 내지 약 0.050mm의 범위의 직경을 갖는다. 특정 실시양태에서,[0113]
구멍(2120)은 약 0.05mm 또는 그 이상의 직경을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 구멍은 약 0.020mm의 직경을
갖는다. 또 다른 실시양태에서, 구멍은 약 0.025mm의 직경을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 구멍은 약
0.027mm의 직경을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 구멍(2120)은 약 0.020mm 내지 약 0.029mm의 직경을 갖는다.
하나의 실시양태에서, 복수의 구멍(2120)의 구멍의 수를 선택해서, 모든 구멍(2100)의 구멍 입구(2140)의 표면
적의 총합이 마스크(2100)의 전방 표면(2108)의 표면적 중 약 5% 또는 그 이상을 포함하도록 한다. 또 다른 실
시양태에서, 구멍(2120)의 수를 선택해서 모든 구멍(2120)의 구멍 출구(2164)의 표면적의 총합이 마스크(2100)
의 후방 표면(2112)의 표면적 중 약 5% 또는 그 이상을 포함하도록 한다. 또 다른 실시양태에서, 구멍(2120)의
수를 선택해서, 모든 구멍(2120)의 구멍 출구(2164)의 표면적의 총합이 마스크(2100)의 후방 표면(2112)의 표면
적 중 약 5% 또는 그 이상을 포함하도록 하며, 모든 구멍(2120)의 구멍 입구(2140)의 표면적의 총합이 마스크
(2100)의 전방 표면(2108)의 표면적 중 약 5% 또는 그 이상을 포함하도록 한다. 또 다른 실시양태에서, 복수의
구멍(2120)은 약 1600개의 미세천공을 포함할 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 복수의 구멍(2120)은 약 8400개
의 미세천공을 포함한다.
구멍(2120) 각각은 비교적 일정한 단면을 가질 수 있다. 하나의 실시양태에서, 각 구멍(2120)의 단면 형태는[0114]
실질적으로 원형이다. 각 구멍(2120)은 전방 표면(2108) 내지 후방 표면(2112) 사이로 연장되는 원기둥을 포함
할 수 있다.
구멍(2120)의 상대적 위치는 몇몇 실시양태에서 흥미로운 영역이다. 상기에서 기재한 것과 같이, 마스크(210[0115]
0)의 구멍(2120)은 6각형-패킹(hex-packed), 예를 들면 6각형 패턴으로 배열된다. 특히, 상기 실시양태에서,
각 구멍(2120)은 실질적으로 일정한 거리를 두고 인접한 구멍(2120)으로부터 분리된다(가끔 "구멍 피치"로서 본
명세서에 언급됨). 하나의 실시양태에서, 구멍 피치는 약 0.045mm이다.
6각형 패턴에서, 대칭 선들 사이의 각은 대략 43도이다. 임의의 두개의 이웃하는 구멍 사이의 간격은, 일반적[0116]
으로 약 30 미크론 내지 약 100 미크론의 범위내에 있으며, 하나의 실시양태에서 대략 43 미크론이다. 구멍 직
경은 일반적으로 약 2 미크론 내지 약 100 미크론 범위이며, 하나의 실시양태에서 대략 20 미크론이다. 광 투
과는 구멍 면적의 총합의 함수로서, 본 명세서의 상세한 설명에서 당업에 통상의 지식을 가진 사람에 의해 이해
될 것이다.
부정적인 시력 효과는 광 투과 구멍 배열(2116)의 존재로 인해 나타날 수 있다. 예를 들면, 몇몇 경우에 구멍[0117]
(2120)의 6각형 패킹 배열은, 환자에게 가시성 회절 패턴을 생성할 수 있다. 예를 들면, 환자는 복수의 점, 예
를 들면 6각형 패턴화를 갖는 구멍(2120)으로 인해 중심 빛을 둘러 싸는 6개의 점을 관찰할 수 있다.
다양한 기술이 광 투과 구멍의 유리한 배열을 제공하기 위해 사용되어, 회절 패턴 및 다른 유해한 시력 효과가[0118]
마스크의 다른 시력 이점을 실질적으로 억제하지 않도록 한다. 하나의 실시양태에서, 회절 효과가 관찰되는 경
우, 광 투과 구멍은 회절된 광이 이미지 전체에 걸쳐 균일하게 분산되도록 배열되어, 관찰가능한 점들을 제거한
다. 또 다른 실시양태에서, 광 투과 구멍은 실질적으로 이미지의 주변부로 회절 패턴을 밀쳐내거나, 또는 회절
패턴을 제거하는 패턴을 이용한다.
도 20B-도 20C는 마스크(2100)와 실질적으로 유사한 마스크에 적용될 수 있는 구멍(2220') 패턴의 두개의 실시[0119]
양태를 보여준다. 도 20B-도 20C의 구멍 패턴의 구멍(2220')들은 랜덤 구멍 간격 또는 구멍 피치에 의해 서로
이격된다. 하기에서 기재하는 다른 실시양태에서, 구멍들은 랜덤 간격이 아닌 비-균일한 간격으로 서로 이격된
다. 하나의 실시양태에서, 구멍(2220')은 실질적으로 균일한 형태(실질적으로 일정한 단면적을 갖는 실린더형
샤프트)를 갖는다. 도 20C는 구멍 밀도가 도 20B의 것보다 크고 랜덤 간격에 의해 분리되는 복수의 구멍
(2220')을 나타낸다. 일반적으로, 마스크 바디의 구멍을 갖는 퍼센트가 높아질수록, 마스크를 통과하여 투과되
는 빛이 더 많아진다. 구멍 면적의 더 높은 퍼센트를 제공하는 또 다른 방법은, 구멍의 밀도를 증가시키는 것
이다. 증가된 구멍 밀도는 또한 밀도가 낮고 더 큰 구멍에 의한 것과 동일한 광 투과가 획득되도록, 더 작은
구멍을 허락할 수 있다.
도 21A는 하기에서 다르게 기재한 것을 제외하고, 실질적으로 마스크(2100)과 유사한 또 다른 마스크(2200a)의[0120]
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일부분을 보여준다. 마스크(2200a)는 상기에서 기재한 것들을 포함하여, 본 명세서에서 기재된 재료로 제조될
수 있다. 마스크(2200a)는 본 명세서에서 기재한 것과 같은 임의의 적당한 공정 및 이러한 공정을 변형하여 형
성될 수 있다. 마스크(2200a)는 복수의 구멍(2220a)을 포함하는 광 투과 구멍 배열(2216a)을 갖는다. 상당수
의 구멍(2220a)은 비-균일한 크기를 갖는다. 구멍(2220a)은 단면 형태가 균일할 수 있다. 구멍(2220a)의 단면
형태는 하나의 실시양태에서 실질적으로 원형이다. 구멍(2220a)은 형상이 원형이며, 구멍 입구에서 구멍 출구
까지 동일한 직경을 갖지만, 적어도 하나의 양상, 예를 들면 크기는 균일하지 않다. 상당수의 구멍의 크기를
무작위로 다양하게 하는 것이 바람직할 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 구멍(2220a)은 크기가 비균일(예를 들
면, 랜덤)하며, 비-균일(예를 들면, 랜덤) 간격으로 이격된다.
도 21B는 하기에서 다르게 기재한 것은 제외하고, 마스크(2100)과 실질적으로 유사한 마스크(2200b)의 또 다른[0121]
실시양태를 보여준다. 마스크(2200b)는 본 명세서에서 기재하는 재료로 제조될 수 있다. 또한 마스크(2200b)
는 본 명세서에서 기재하는 것과 같은 임의의 적당한 공정 및 상기 공정의 변형으로 형성될 수 있다. 마스크
(2200b)는 바디(2204b)를 포함한다. 마스크(2200b)는 비-균일한 측면 배향을 갖는 복수의 구멍(2220b)을 포함
하는 광 투과 구멍 배열(2216b)을 갖는다. 특히 각 구멍(2220b)은 마스크(2200b)의 전방 표면에 위치할 수 있
는 구멍 입구를 갖는다. 구멍 입구의 측면은 구멍 입구를 둘러 싸는 마스크(2200b)의 바디(2204b)의 일부분에
의해 규정된다. 측면은 전방 표면에서 구멍 입구의 형태이다. 하나의 실시양태에서, 대부분 또는 모든 측면은
장축 및 장축에 수직인 단축을 갖는 길쭉한 형태, 예컨대 타원 형태를 갖는다. 측면은 실질적으로 형상이 균일
할 수 있다. 하나의 실시양태에서, 측면의 배향은 균일하지 않다. 예를 들면, 상당수의 측면은 비-균일한 배
향을 가질 수 있다. 하나의 배향에서, 상당수의 측면은 랜덤 배향을 가진다. 몇몇 실시양태에서, 측면은 형상
이 비-균일(예를 들면, 랜덤)하며, 배향이 비-균일(예를 들면, 랜덤)하다.
다른 실시양태는 복수의 구멍의 이전의 양상 중 하나 또는 그 이상을 포함하는 적어도 하나의 양상을 변화시켜[0122]
제공되어 구멍이 가시성 회절 패턴을 생성하는 경향을 감소시키거나 또는 상기에서 기재한 것 중 임의의 것과
같은 애퍼처가 있는 마스크에 의해 제공될 수 있는 시력 향상을 감소시키는 패턴을 형성하는 경향을 감소시킬
수 있다. 예를 들면, 하나의 실시양태에서, 적어도 상당수의 구멍의 크기, 형상 및 배향을 랜덤하게 다양화할
수 있거나 또는 비-균일하게 할 수 있다. 마스크는 또한 복수의 구멍의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 적
어도 하나를 다양화하여 가시성 회절 패턴을 생성하는 구멍의 경향을 감소시키는 것이 특징일 수 있다. 특정
실시양태에서, 가시성 회절 패턴을 생성하는 구멍의 경향은, 제1 구멍 크기, 형상 또는 간격을 갖는 복수의 구
멍, 및 제1 구멍 크기, 형상 또는 간격과는 상이한 제2 구멍 크기, 형상 또는 간격을 갖는 적어도 또 다른 복수
의 구멍을 갖도록 하여 감소시킨다. 다른 실시양태에서, 마스크는 복수의 구멍 중 상당수의 구멍 크기, 형상
또는 간격 중 적어도 하나가, 가시성 회절 패턴을 생성하는 구멍의 경향을 감소시키기 위해 적어도 다른 복수의
구멍 중 상당수의 구멍 크기, 형상, 배향 및 간격 중 적어도 하나와는 상이한 것이 특징이다. 추가의 실시양태
에서, 구멍은 불규칙적인 위치에 위치한다. 예를 들면, 구멍은 불규칙적인 위치에 위치하여 구멍을 통과하는
빛의 투과에 의한 시각적 아티팩트(visible artifact)의 발생을 최소화한다.
도 22는 하기에서 다르게 기재한 것은 제외하고, 상기에서 기재한 마스크 중 임의의 것과 실질적으로 유사하다.[0123]
마스크(2300)는 본 명세서에서 기재하는 재료로 제조될 수 있다. 또한 마스크(2300)는 본 명세서에서 기재한
것과 같은 임의의 적당한 공정 및 상기 공정의 변형으로 형성될 수 있다. 마스크(2300)는 바디(2304)를 포함한
다. 바디(2304)는 외주 영역(2305), 내주 영역(2306) 및 구멍 영역(2307)을 갖는다. 구멍 영역(2307)은 외주
영역(2305)와 내주 영역(2306) 사이에 위치한다. 바디(2304)는 또한 애퍼처(하기에 기재함)가 관통 구멍이 아
닌 애퍼처 영역(2328)을 포함할 수도 있다. 마스크(2300)는 또한 광 투과 구멍 배열(2316)을 포함한다. 하나
의 실시양태에서, 광 투과 구멍 배열은 복수의 구멍을 포함한다. 적어도 상당수의 구멍(예를 들면 모든 구멍)
은 구멍 영역(2307) 내에 위치한다. 상기에서와 같이, 단지 광 투과 구멍 배열의 일부분(2316)만을 간단하게
나타낸다. 그러나 구멍 배열은 구멍 영역(2307) 전체에 위치할 수 있다는 것을 이해해야 한다.
외주 영역(2305)은 마스크(2300)의 외주(2324)로부터 마스크(2300)의 선택된 외측 원둘레(2325)까지 연장될 수[0124]
있다. 마스크(2300)의 선택된 외측 원둘레(2325)는, 마스크(2300)의 외주(2324)로부터 선택된 방사상 거리에
위치한다. 하나의 실시양태에서, 마스크(2300)의 선택된 외측 원둘레(2325)는 마스크(2300)의 외주(2324)로부
터 약 0.05 mm에 위치한다.
내주 영역(2306)은 내측 위치, 즉 마스크(2300)의 애퍼처(2328)에 인접한 내주(2326)로부터 마스크(2300)의 선[0125]
택된 내측 원둘레(2327)로 연장될 수 있다. 마스크(2300)의 선택된 내측 원둘레(2327)는, 마스크(2300)의 내주
(2326)로부터 선택된 방사상 거리에 위치한다. 하나의 실시양태에서, 마스크(2300)의 선택된 내측 원둘레
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(2327)는 내주(2326)로부터 약 0.05 mm에 위치한다.
마스크(2300)는 복수의 위치의 랜덤 선택 및 상기 위치에 상응하는 마스크(2300) 상의 구멍 형성을 포함하는 공[0126]
정의 제품일 수 있다. 하기에서 더 설명한 것과 같이, 상기 방법은 또한 선택된 위치가 하나 이상의 기준을 만
족시키는지의 여부를 결정하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들면, 하나의 기준은 모든, 적어도 대부분의, 또는
적어도 상당한 영역의 구멍이 내주 또는 외주 영역(2305, 2306)에 상응하는 위치에 형성되는 것을 금지하는 것
이다. 또 다른 기준은 모든, 적어도 대부분의, 또는 적어도 상당한 영역의 구멍이 서로 너무 근접하게 형성되
는 것을 금지하는 것이다. 예를 들면, 이러한 기준은 벽 두께, 예를 들면 인접한 구멍 사이의 최단 거리가 소
정의 양 이상이 되도록 하는데 사용될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 벽 두께는 약 20 미크론 미만이 되지 않
도록 한다.
도 22의 실시양태의 변형에서는, 외주 영역(2305)은 제거되며, 구멍 영역(2307)은 내주 영역(2306)에서 외주 영[0127]
역(2324)으로 연장된다. 도 22의 또 다른 실시양태의 변형에서는, 내주 영역(2306)이 제거되며, 구멍 영역
(2307)은 외주 영역(2305)에서 내주(2326)로 연장된다.
임의의 이전의 마스크 실시양태에서, 마스크 바디는 부정적인 광학 효과, 예컨대 상기에서 기재한 것과 같은 회[0128]
절을 실질적으로 막기 위해서 선택된 재료로 구성될 수 있다. 다양한 실시양태에서, 마스크는 개방형 셀 발포
재료, 실리콘, 열경화 및 열탄성 폴리머(예컨대, PVDF, PMMA), 금속, 테플론 또는 탄소로 형성된다. 또 다른
실시양태에서, 마스크는 팽창된 고체 재료로 형성된다.
도 20B 및 20C와 연계해서 상기에서 설명한 것과 같이, 유리하게는 다양한 구멍 랜덤 패턴이 제공될 수 있다.[0129]
몇몇 실시양태에서, 몇몇 측면에서 비-균일한 규칙적인 패턴을 제공하기에 충분할 수 있다. 구멍에 대한 비-균
일한 양상은 임의의적당한 기술에 의해 제공될 수 있다.
하나의 기술의 제1 단계에서, 복수의 위치(2220')가 생성된다. 위치(2220')는 비-균일 패턴 또는 규칙적인 패[0130]
턴을 포함할 수 있는 일련의 좌표이다. 위치(2220')는 랜덤하게 형성될 수 있거나, 또는 수학적 관계(예를 들
면 수학적으로 규정될 수 있는 양에 의해 또는 고정된 간격에 의해 분리됨)로 관련될 수 있다. 하나의 실시양
태에서, 위치는 일정한 피치 또는 간격에 의해서 분리되도록 선택되고, 6각형-패킹형일 수 있다.
제2 단계에서, 복수의 위치(2220') 중 위치의 서브셋은 마스크의 성능 특성을 유지하도록 변형된다. 성능 특성[0131]
은 마스크의 임의의 성능 특성일 수 있다. 예를 들면, 성능 특성은 마스크의 구조적 온전함과 관계될 수 있다.
복수의 위치(2220')가 랜덤하게 선택되는 경우, 위치의 서브셋을 변형하는 공정에 의해 마스크의 구멍 패턴을
"슈도-랜덤" 패턴으로 만들 수 있다.
위치(예컨대 도 20A의 위치(2120'))의 6각형 패킹 패턴이 제1 단계에서 선택된 경우, 위치의 서브셋이 제1 단계[0132]
에서 선택된 이들의 초기 위치에 대해 이동될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 위치의 서브셋에서 위치 각각은
구멍 간격의 분수와 동일한 정도로 이동한다. 예를 들면, 위치의 서브셋에서 각 위치는 구멍 간격의 4분의 1과
동일한 정도로 이동될 수 있다. 위치의 서브셋이 일정한 양으로 이동된 경우, 이동된 위치는 랜덤하게 또는 슈
도-랜덤하게 선택되는 것이 바람직하다. 또 다른 실시양태에서, 위치의 서브셋은 랜덤 또는 슈도-랜덤 양으로
이동된다.
특정 실시양태에서, 외주 영역은 외주로부터 약 0.05mm의 선택된 방사상 거리와 마스크의 외주 사이에서 연장되[0133]
는 것으로 규정된다. 또 다른 실시양태에서, 내주 영역은 애퍼처로부터 약 0.05mm의 선택된 방사상 거리와 마
스크의 애퍼처 사이에서 연장되는 것으로 규정된다. 또 다른 실시양태에서, 외주 영역은 마스크의 외주와, 선
택된 방사상 거리 사이에서 연장되는 것으로 규정되며, 내주 영역은 마스크의 애퍼처와 애퍼처로부터 선택된 방
사상 거리 사이에서 연장되는 것으로 규정된다. 하나의 기술에서, 위치의 서브셋은 내주 영역 또는 외주 영역
에 형성되는 구멍에 상응하는 위치를 제외함으로써 변형된다. 외주 영역 및 내주 영역의 적어도 하나에서 위치
의 제외에 의해서, 이러한 영역에서 마스크의 강도가 증가한다. 몇가지 이점들이 더 강도가 증가한 내측 및 외
주 영역에 의해서 제공된다. 예를 들면, 마스크는 손상되지 않고 롤링되거나 또는 제조 중에 취급이 용이할 수
있다. 다른 실시양태에서, 마스크는 구멍(예를 들면, 구멍은 내주 및/또는 외주로 연장될 수 있음)을 가지고
있지 않는 외주 영역 및/또는 내주 영역을 포함하지 않는다.
또 다른 실시양태에서, 위치의 서브셋은 구멍의 분리를 최소 및/또는 최대 한계와 비교하여 변형된다. 예를 들[0134]
면, 최소값보다 두 개의 위치가 가깝지 않도록 하는 것이 바람직할 수 있다. 몇몇 실시양태에서, 인접한 구멍
사이의 분리에 상응하는 벽 두께가 최소양보다 작지 않도록 하는 것이 중요하다. 상기에서 언급한 것과 같이,
분리 간격의 최소값은 하나의 실시양태에서 약 20 미크론으로, 이에 의해 약 20 미크론 이상의 벽 두께를 제공
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한다.
또 다른 실시양태에서, 마스크의 광학 특성을 유지하기 위해, 일부 위치가 변형되고/되거나 위치의 패턴이 증가[0135]
된다. 예를 들면, 광학 특성은 불투명할 수 있으며, 일부 위치는 마스크의 비-투과 영역의 불투명성을 유지하
기 위해서 변형될 수 있다. 또 다른 실시양태에서, 일부 위치는 바디의 제2 영역에서 구멍의 밀도와 비교해서,
바디의 제1 영역에서의 구멍의 밀도를 균일하게 함으로써 변형될 수 있다. 예를 들면, 마스크의 비-투과 영역
의 제1 영역 및 제2 영역에 상응하는 위치가 확인될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 제1 영역 및 제2 영역은
실질적으로 동일한 면적의 아치형 영역(예를 들면, 웨지)이다. 위치의 제1 면밀도(areal density)(예를 들면
평방인치 당 위치수)는 제1 영역에 상응하는 위치에 대해 계산되며, 위치의 제2 면밀도는 제2 영역에 상응하는
위치에 대해 계산된다. 하나의 실시양태에서, 적어도 하나의 위치는 제1 및 제2 면밀도의 비교를 근거로 제1
또는 제2 영역에 추가된다. 또 다른 실시양태에서, 적어도 하나의 위치는 제1 및 제2 면밀도의 비교를 근거로
제거된다.
제3 단계에서, 구멍은 변형, 증가, 또는 변형 및 증가됨으로써 위치 패턴에 상응하는 위치에서 마스크 바디로[0136]
형성된다. 구멍은 가시성 회절 패턴을 생성하지 않고 마스크를 통해 적어도 일부의 광이 투과되도록 구성된다.
V. 부가적인 마스크 구성 [0137]
마스크는 상기에서 기재한 특성을 포함하는 구성을 포함하는 다른 다양한 구성을 가질 수 있다. 예를 들면, 광[0138]
투과 구멍의 밀도(예를 들면 마스크의 면적 당 구멍의 면적)는 마스크의 여러 영역에서 다를 수 있다. 특정 실
시양태에서, 구멍의 밀도는 마스크의 내주에서 외주로 방사상으로 증가한다. 특정 다른 실시양태에서, 구멍의
밀도는 마스크의 내주에서 외주로 방사상으로 감소한다. 다른 변형도 또한 가능하다. 예를 들면 마스크(400
0)의 중심 고리형 영역은, 도 24A에서 나타낸 것과 같이 외측 고리형 영역과 내측 고리형 영역 보다 더 높은 구
멍 밀도를 가질 수 있다. 또 다른 예에서는, 마스크의 중심 고리형 영역이 내측 고리형 영역과 외측 고리형 영
역보다 더 낮은 구멍 밀도를 갖는다. 구멍의 밀도는 구멍을 갖는 마스크의 표면적의 퍼센트이다. 구멍의 밀도
는 예를 들면 비교적 작은 면적을 갖는 비교적 많은 구멍, 또는 비교적 큰 면적을 갖는 비교적 적은 구멍에 의
해서 생성될 수 있다. 상기에서 설명한 바와 같이, 구멍들은 가시성 회절 패턴이 감소되도록 배열될 수 있다.
도 24A에서 나타내는 마스크(4000)의 실시양태는, 섹션 IV에서 기재한 것과 같이 불규칙적인 구멍 패턴을 갖는[0139]
다. 마스크(4000)는 마스크(4000)의 내주에 이웃하는 내주 영역, 마스크(4000)의 외주에 이웃하는 외주 영역,
및 외주 영역과 내주 영역 사이에 10개의 고리형 밴드를 포함한다. 10개의 고리형 밴드 중 제1 밴드는 내주 영
역에 이웃하고, 제2 밴드는 제1 밴드에 이웃하며, 기타의 밴드들도 그러하다. 10번째 밴드는 외주 영역에 이웃
한다. 각 밴드는 840개 구멍을 가지며, 내주 영역 및 외주 영역은 구멍이 전혀 없으며, 50 미크론 폭을
갖는다. 각 밴드는 표 3에서 나타낸 것과 같이, 밴드 폭, 밴드를 통과하는 광 투과 퍼센트 및 밴드 내 구멍의
구멍 직경을 갖는다. 10개 밴드 내 구멍은 평균 5%의 광 투과율을 제공한다. 밴드의 수와 특성 및 각 밴드 내
구멍의 수와 특성은 다양할 수 있다. 예를 들면, 밴드는 상기에서 기재한 것과 같은 광 투과 프로파일을 생성
하도록 구성될 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크(4000)는 내주 영역 및/또는 외주 영역이 없다.
표 3
[0140]
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중심 고리형 영역에서 내측 및/또는 외측 고리형 영역까지의 구멍의 밀도의 변화는, 점진적인 방사상 변화 또는[0141]
하나 또는 그 이상의 단계에 의해 변화될 수 있다. 하나의 영역에서 또 다른 영역으로의 구멍 밀도의 변화는,
구멍 크기가 가변되는 동안 구멍의 수를 일정하게 유지하거나, 구멍의 수가 가변되는 동안 구멍 크기를 일정하
게 유지하거나, 또는 구멍의 수와 구멍 크기의 변화를 조합함으로써 실행될 수 있다. 중심 고리형 영역에서 내
측 및/또는 외측 고리형 영역까지의 구멍의 밀도의 변화와 관련해서, 부가적인 상세한 설명은 본원과 동일한 날
짜에 출원된 국제 특허 출원으로서 Bruce Christie, Edward W. Peterson 및 Corina van de Pol의 미국 임시 출
원 번호 제61/233,802호를 우선권 주장하고 있는 "CORNEAL INLAY WITH NUTRIENT TRANSPORT STRUCTURES"이라는
제목의 국제 특허 출원 번호 TBD(대리인 고유 번호 ACUFO.123 VPC)에 기술되어 있고, 이는 전문이 참고문헌으로
서 본 명세서에 포함된다.
유리하게, 마스크를 통한 적어도 일부의 광 투과에 의해서, 환자의 약광 시력을 실질적으로 마스크를 통과하는[0142]
광 투과가 없는 경우에 비해 향상시킬 수 있다. 실시양태는 1% 이상, 10% 미만, 1% 내지 10%, 2% 내지 5%의 마
스크 구멍의 총면적 밀도를 포함한다. 실시양태는 1% 이상, 10% 미만, 1% 내지 10%, 2% 내지 5%의 마스크를 통
한 광투과율을 포함한다. 특정 실시양태에서, 마스크의 중심 고리형 영역은 2% 내지 5%의 평균 광 투과율을 가
지며, 내측 고리형 영역과 외측 고리형 영역은 1% 내지 2%의 평균 광 투과율을 갖는다. 특정 실시양태에서, 내
측 고리형 영역은 마스크의 내주로부터 외주까지의 방사상 거리의 약 3분 1 위치와 마스크의 내주 사이의 고리
형 영역이다. 특정 실시양태에서, 외측 고리형 영역은 마스크의 외주로부터 내주까지의 방사상 거리의 약 3분
1위치와 마스크의 외주 사이의 고리형 영역이다. 특정 실시양태에서, 중심 고리형 영역은 내측 고리형 영역과
외측 고리형 영역 사이의 고리형 영역이다.
유리하게, 렌즈바디의 전방 표면 및 후방 표면 사이의 위치에 마스크가 있는 경우, 마스크를 통과하는 구멍은[0143]
렌즈 바디와 마스크 사이의 계면의 박리를 방지하는데 도움을 줄 수 있다. 박리는 안구 내 임플란트를 접거나
또는 둥글게 말 때, 및 환자에게 이식되는 튜브 내에 둘 때와 같이 안구 내 임플락트의 조작 중에 발생할 수 있
다. 렌즈 바디는 구멍을 통해 연장되어, 마스크의 어느 하나의 측면 상의 렌즈바디 사이에 결합(예를 들면 재
료 "브릿지")을 만들 수 있다. 박리는 또한 렌즈 바디에 마스크의 기계적 특성(예를 들면 탄성률)을 매칭하여
감소시킬 수도 있다. 박리를 감소시키는 또 다른 방법은, 렌즈바디와 마스크 사이에 결합을 생성하는 것이다.
예를 들면, 렌즈 바디와 마스크는 가교 결합 또는 이들 사이에 반데르발스 힘을 가질 수 있다.
마스크의 구멍은 적어도 두개의 목적으로 제공된다: 구멍은 일부 광 투과를 제공하며, 구멍은 제자리에 마스크[0144]
를 유지하는 재료 "브릿지"를 생성하기 위해 임플란트 바디의 재료를 관통시켜 연장시킬 수 있는 영역을
만든다. 특정 실시양태에서, 마스크는 약 7 미크론 직경보다 더 큰 구멍(예를 들면 약 35μm
2
의 단면적 보다
큼)을 가지며, 바람직하게는 약 10 미크론 직경 보다 큰 구멍(예를 들면 약 75μm
2
의 단면적 보다 큼)을 갖는
다. 특정 실시양태에서, 마스크는 약 7 미크론 직경 보다 더 큰 구멍(예를 들면, 약 35μm
2
의 단면적 보다
큼)을 가지며, 약 20 미크론 직경 미만의 구멍(예를 들면, 약 320μm
2
의 단면적 미만)을 갖는다. 추가의 실시
양태에서, 마스크는 직경이 약 50 미크론 미만의 구멍(예를 들면, 약 2000μm
2
의 단면적 미만)을 갖는다. 7 미
크론 미만의 직경을 갖는 구멍은, 실리콘 또는 아크릴과 같은 렌즈 재료가 브릿지를 형성하기 위해 이동 및 유
입되기에 충분할 만큼 크지 않을 수 있다. 그러나, 렌즈 재료의 점도는 브릿지를 형성하기 위해 재료가 구멍으
로 이동할 수 있는지 여부에 영향을 주고, 구멍의 최소 단면적은 임플란트 바디의 재료에 따라 달라질 수 있다.
임플란트 바디의 재료가 구멍으로 이동하지 않는다면, 이러한 구멍에는 임플란트의 시력 성능을 방해할 수 있는
버블이 생성될 것이다.
근거리 이미지 콘트라스트(near image contrast)를 최대화하기 위해서는, 마스크를 통과하는 빛의 총량은 최소[0145]
화하는 것이 바람직할 것이다. "브릿지"를 위한 구멍을 갖는 마스크의 총 면적을 비교적 작게 함으로써, 박리
가 방지될 수 있다. 예를 들면, 마스크의 약 3%의 면적은, 구멍의 광학 효과의 최소화 및 기계적 강도의 최대
화에 균형을 줄 수 있는 구멍을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크의 전방 표면은 마스크 표면적을
가지며, 마스크의 광 투과 구조(예를 들면 구멍)는 마스크의 전방 표면 상에서 마스크 표면적의 약 1% 내지 약
5%의 총 면적을 갖는다. 마스크의 구멍을 통과하는 빛의 회절의 영향을 제한하기 위해서, 구멍은 가능한 작게
형성되어야 한다. 구멍 크기가 작으면, 각 구멍으로부터의 에어리 디스크(airy disc)가 커지고, 구멍 패턴에
의해 생성되는 복합 회절 패턴도 역시 커진다. 복합 회절 패턴은 망막의 큰 영역에 걸쳐 광을 확산시켜, 가시
성 회절 아티팩트를 덜 만들고, 회절된 광의 국소 밝기를 감소시킨다. 구멍 패턴에 의해 생성되는 회절 패턴은
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또한 색 성분을 가지도록 해서 회절 후광이 방사상으로 컬러의 구배를 형성하는 경향이 있다. 구멍의 크기를
다양화하면 이러한 효과가 다양한 규모로 발생하여, 후광의 색들이 섞인다(scramble). 이것은 후광에서의 컬러
콘트라스트를 감소시켜, 두드러져 보이지 않게 된다.
특정 실시양태에서, 마스크는 랜덤 또는 슈도-랜덤하게 마스크를 관통하는 구멍을 포함한다. 도 24B에 나타내[0146]
는 마스크(4100)는 약 3.02%의 광 투과율을 가진다. 도 24B의 마스크는 10 미크론, 13 미크론, 16 미크론 및
19 미크론을 포함하는 4개의 구멍 직경 중 하나를 갖는 구멍을 갖는다. 각 구멍 직경을 갖는 동일한 수의 구멍
이 있다. 마스크 고리 전체에 걸친 위치에 다양한 크기의 구멍이 랜덤 또는 슈도-랜덤하게 할당하기 위해 알고
리즘이 사용될 수 있다. 램덤화 프로그램의 규칙은 (1) 구멍의 "충돌"이 없음(예를 들면 구멍이 서로 접촉하지
않음), (2) 구멍이 마스크의 내주 및 외주 가장자리를 간섭하지 않음, 및 (3) 마스크 고리 전체에 걸쳐 실질적
으로 균일한 밀도를 형성하는 방식으로 구멍을 배치하는 것을 포함할 수 있다. 예를 들면, 램덤화 프로그램의
규칙은 이러한 규칙 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 도 24C 및 도 24D는 도 24B의 마스크에 있어서 사용되는
것과 유사한 파라미터를 사용하여 마스크(4200,4300)의 구멍을 위치시키는 추가적인 예를 나타낸다.
마스크의 외주의 외측 직경은 다양화할 수 있다. 특정 실시양태에서, 외측 직경은 광의 양이 선택적으로 눈의[0147]
망막으로 통과하도록 선택된다. 눈의 동공은 여러 빛 조건에서 크기가 변화한다. 약광 상태에서, 눈의 동공은
보다 많은 빛이 눈에 들어가도록 커진다. 외측 직경은 비교적 강한 빛 조건에서 마스크의 외주의 바깥에서 빛
이 통과하지 않고, 비교적 약한 빛 조건하에서는 적어도 일부의 빛이 마스크의 외주 바깥을 통과할 수 있도록
선택된다. 흔히 환자의 동공 크기는 다양할 수 있으며, 이에 따라 마스크의 외측 직경은 특이적인 환자 동공
크기에 따라 선택될 수 있다. 예를 들면, 비교적 작은 동공의 환자에서는, 약한 빛에서 동공이 더 큰 환자보다
시력 문제가 더 많이 발생한다. 동공이 더 작은 환자에 있어서, 보다 높은 광투과율 및/또는 더 작은 외측 직
경을 갖는 마스크는 망막으로의 빛 도달을 증가시키고, 약광 상태에서 시력을 향상시킬 것이다. 정반대로, 동
공이 더 큰 환자에서, 낮은 광 투과율 및/또는 더 큰 외측 직경을 갖는 마스크는 낮은-콘트라스트의 근거리 시
력을 향상시키고 초점이 맞지 않는 빛을 더욱 차단한다. 본 출원의 마스크 IOL는 수술의에게 융통성을 제공하
여, 특정 환자의 마스크 IOL 특성의 적합한 조합을 처방할 수 있게 한다.
특정 실시양태에서, 마스크의 애퍼처 중심은 렌즈 바디 중심에서 벗어난다(off-center)이다. 렌즈바디의 광학[0148]
중심에서 벗어나는 애퍼처를 가짐으로써, 안구 내 렌즈는 이식 절차 중에 회전할 수 있어 환자의 눈의 광학 중
심이 애퍼처의 중심과 나란히 되도록 할 수 있다. 환자의 시력은 애퍼처 중심과 환자 눈의 광학 중심을 나란히
배열하여 향상시킬 수 있다.
[0149]
VI. 안구내 임플란트 제조 방법[0150]
안구내 임플란트(예를 들면 안구 내 렌즈)는 여러 가지 방법으로 제조 또는 생성될 수 있다. 특정 실시양태에[0151]
서, 로드는 로드 길이에 따라 광학적으로 투명한 내측 영역, 로드의 길이를 따라 광학적으로 투명한 외측 영역,
및 내측 영역과 외측 영역 사이에서 로드 길이를 따라 실질적으로 광학적으로 불-투명 중간 영역으로 형성될 수
있다. 로드 길이에 평행한 축에 실질적으로 수직인 평면을 따른 단면은 절단되어, 임플란트 바디를 통한 마스
크를 갖는 임플란트 바디(예를 들면 렌즈 바디)를 형성할 수 있다. 특정 실시양태에서, 로드는 광학적으로 투
명한 로드를 형성하여 형성될 수 있다. 불투명한 실린더는 광학적으로 투명한 로드 주위에 형성될 수 있다.
광학적으로 투명한 실린더는 다음에 불투명한 실린더 주위에 형성될 수 있다. 특정 실시양태에서, 실린더는 몰
딩 또는 캐스팅에 의해 형성된다.
대안적인 실시양태에서, 임플란트 바디가 형성된 후, 마스크가 임플란트 바디의 후방 표면 및/또는 전방 표면에[0152]
부착될 수 있다. 예를 들면, 마스크는 접착제(예를 들면, 아교(glue)), 기계적 부착, 스냅, 용접(예를 들면,
택 용접, 면적 용접), 테이핑, 프레스 핏, 열 또는 수화 스웰 핏(swell fit), 표면 장력으로 인한 유지, 전기
전하, 자기 흡인, 중합, 제자리(in-situ) 가교(예를 들면, 방사(radiation)에 의한 가교), 화학적 수단 등에 의
해 부착될 수 있다. 도 25A는 임플란트 바디(8004)의 전방 표면에 커플링된 마스크(8002)가 있는 안구 내 임플
란트(8000)의 실시양태를 나타내며, 도 25B는 임플란트 바디(8014)의 후방 표면에 커플링된 마스크(8012)가 있
는 안구 내 임플란트(8010)의 또 다른 실시양태를 나타낸다.
특정 실시양태에서, 임플란트 바디는 이에 단단히 마스크가 부착되도록 하는 구조를 포함한다. 예를 들면, 임[0153]
플란트 바디는 마스크를 물리적으로 부착하도록 클립 또는 다른 구조를 포함할 수 있다. 임플란트 바디는 후방
또는 전방 표면 상에 오목한 영역을 포함할 수 있다. 실질적으로 오목한 영역을 채우는 마스크는, 임플란트 바
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디의 오목한 영역에 둘 수 있다. 오목한 영역의 내주 및/또는 외주는 하나 이상의 돌출부를 포함할 수 있다.
내주 및/또는 외주는 하나 이상의 오목부를 포함할 수 있다. 마스크는 오목한 영역에 마스크를 삽입하여 임플
란트 바디에 부착될 수 있으며, 임플란트 바디로부터 마스크가 분리되는 것을 막기 위해서 하나 이상의 돌출부
는 하나 이상의 오목부로 넣을 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크는 안구 내 임플란트를 환자에게 삽입한 이
후에 임플란트 바디에 부착된다. 다른 실시양태에서, 마스크는 임플란트 바디를 환자에게 삽입하기 이전에 임
플란트 바디에 부착된다. 예를 들면, 마스크는 공장 또는 작업 룸에서 임플란트 바디에 부착될 수 있다.
추가의 실시양태에서, 임플란트 바디는 마스크 주위에 형성될 수 있다. 예를 들면, 임플란트 바디는 마스크 주[0154]
위에 주입될 수 있다. 도 25C는 임플란트 바디(8024) 내에 매립된 마스크(8022)를 갖는 안구 내 임플란트
(8020)의 하나의 실시양태를 나타낸다. 마스크(8032,8042)는 또한 각각 도 25D 및 도 25E에 나타낸 것과 같이
안구 내 임플란트(8030, 8040)의 임플란트 바디(8034,8044)의 전방 또는 후방 표면에 가깝게 매립될 수 있다.
도 25F에 나타낸 것과 같이, 마스크(8052)는 임플란트 바디(8054)의 전이 구역(8056)에 가깝게 위치할 수도 있
다. 마스크가 전이 구역 표면 상에 또는 전이 구역 표면에 매우 근접한 거리 내에 위치하는 경우에, 전이 구역
표면을 치거나 또는 통과하는 큰 각도에서의 빛조차도 마스크에 의해서 차단될 수 있으므로, 마스크는 전이 구
역(8056)을 넘어 연장될 필요까지는 없다. 마스크(8062)는 또한 도 25G에서 설명한 것과 같이 임플란트 바디
(8064)의 전방 표면에서 후방 표면으로 연장될 수도 있다. 도 25A-도 25G의 마스크의 위치 또는 자리 중 어떠
한 것도 본 명세서에서 기재하는 안구 내 임플란트 및 임플란트 바디 중 어느 것에 적용될 수 있다.
특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 마스크가 있는 안구 내 임플란트를 제조하는데 도움을 주기 위해서 마[0155]
스크로부터 임플란트의 외측 표면까지 연장하는 하나 이상의 지지 부재를 포함한다. 상기 지지 부재는 마스크
를 몰드 캐비티와 관련해서 목적하는 배열로 몰드 캐비티 내에 현수(suspend)할 수 있다. 지지 부재의 접촉 영
역은 마스크를 지지하기 위해서 몰드 캐비티의 벽에 물리적으로 접촉할 수 있다. 예를 들면, 지지 부재들은 임
플란트 바디가 마스크 주위에 주입되는 동안 마스크가 움직이지 않도록 몰드에 제거가능하게 결합될 수 있고,
임플란트 바디가 형성된 후에는 제거될 수 있다. 지지 부재는 마스크에 기계적으로 커플링될 수 있거나, 또는
지지 부재 및 마스크가 단일 조각일 수 있다(예를 들면, 일체식 구조).
도 26A는 임플란트 바디(8102) 내에 있는 마스크(8104)를 구비한 안구 내 임플란트(8100)의 하나의 실시양태를[0156]
나타낸다. 안구 내 임플란트(8100)는 임플란트 바디(8102)의 적어도 외주(8108)까지 연장되며 마스크(8104)에
커플링되는 하나 이상의 지지 부재(8106)를 포함한다. 상기 지지 부재(8106)는 외주(8108)의 표면까지 연장될
수 있거나, 또는 외주(8108)의 표면을 지나 연장될 수 있다.
도 26B는 지지 부재(8116)를 포함하는 안구 내 임플란트(8110)의 제2 실시예를 나타낸다. 상기 지지 부재[0157]
(8116)는 마스크(8114)에 커플링되고, 마스크(8814)로부터 임플란트 바디(8112)의 적어도 후방 표면(8113)으로
연장된다. 마스크(8114)와 후방 표면(8113) 사이에 지지 부재(8116)를 위치시켜, 지지 부재(8116)를 환자의 시
선으로부터 숨길 수 있다.
도 26C는 환자의 시선으로부터 숨겨진 지지 부재(8126)의 또 다른 예를 나타낸다. 마스크(8124) 및 지지 부재[0158]
(8126)는 삼각형 또는 사다리꼴 단면 형상을 갖는 고리형면(toroid)에 통합시킨다. 임플란트 바디(8122)의 전
방 표면에 근접한 고리형면 영역은, 임플란트 바디(8122)의 후방 표면에 근접한 고리형면의 영역 보다 더욱 방
사상으로 안쪽으로 및 바깥쪽으로 연장된다. 마스크(8124) 및 지지 부재(8126)의 단면은, 뒤쪽을 가리키는 삼
각형 또는 역 피라미드로서 나타난다. 유리하게, 상기 실시양태는 의도하지 않는 빛의 차단을 최소화한다.
지지 구조는 또한 마스크 주위에 임플란트 바디를 형성한 이후에 제거될 수 있는 탭을 포함할 수도 있다. 도[0159]
27A는 탭을 포함하는 지지 구조(8202)를 갖는 안구 내 임플란트(8200)의 실시양태를 나타낸다. 지지 구조
(8202)는 마스크(8204)로부터 임플란트 바디(8206) 내의 위치로 연장되고 제1 단면적을 갖는 제1 영역 (8208)을
갖는다. 지지 구조(8202)는 또한 제1 영역으로부터 임플란트 바디(8206)의 표면으로 연장되고 제1 단면적보다
더 큰 제2 단면적을 갖는 제2 영역(8209)을 갖는다. 임플란트 바디(8206)가 마스크(8204) 주위에 형성된 이후
에, 지지 구조(8202)는 도 27B에 나타낸 것과 같이 제1 영역(8208)에서 또는 이에 근접하게 분리시킬 수 있다.
제2 영역(8209)을 제거하여, 임플란트 바디(8206)에서 캐비티(8207)를 남길 수 있다. 캐비티(8207)는 개방된
채로 있거나, 또는 충전될 수 있다. 예를 들면, 임플란트(8200)의 생체적합성의 증가를 목적한다면, 마스크
(8204)가 물리적 또는 생물학적으로 임플란트 바디(8206)에 의해 또는 그 내에서 눈으로부터 분리되도록 캐비티
(8207)를 충전시킬 수 있다.
도 28A는 지지 부재(6702)를 갖는 안구 내 임플란트(6700)의 실시양태의 정면도이고, 도 28B는 그의[0160]
단면도이다. 지지 부재(6702)는 마스크(6704)로부터 임플란트 바디(6708)의 외주(6706)까지 연장된다. 지지
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부재(6702)는 마스크(6704) 주위의 임플란트 바디(6708)의 주입 중에 몰드와 제거가능하게 커플링될 수 있는 하
나 이상의 접촉 영역(6710)을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 임플란트 바디(6708)는 마스크(6704)와 지
지 부재(6702) 둘 다의 주위에 주입된다. 지지 부재(6702)는 또한 접촉 영역(6710)과 마스크(6704)를 커플링하
는 연결 부재(6712)를 포함할 수도 있다. 연결 부재(6712)는 최소화되는 전방 및/또는 후방 표면을 가져, 연결
부재(6712)가 마스크(6704)의 외주 바깥의 임플란트 바디(6708)를 통과하는 빛을 실질적으로 차단하지 않는다.
지지 구조(6702)는 지지 구조(6702)가 환자의 시야를 덜 간섭하는 임플란트 바디(6708)의 외주에 가깝게, 보다[0161]
많은 매스를 포함할 수 있다. 예를 들면, 지지 구조(6702)는 마스크 주위를 재료가 유동할 때, 몰딩 공정 중에
지지 구조(6702)의 영역 및 마스크(6704)의 움직임을 더 제한하고, 추가로 지지를 제공하는 고리형 또는 고리를
임플란트 바디(6708)의 외주에 가깝게 가질 수 있다. 재료의 유동으로 마스크(6704) 및 지지 구조(6702) 상에
힘이 생성될 수 있다. 특정 실시양태에서, 임플란트 바디(6708) 및 햅틱(6716)은 단일 조각(예를 들면 일체식
구조)이다.
도 28A에 나타낸 것과 같이, 마스크(6704), 연결 부재(6712), 및/또는 지지 구조(6702)는 본 명세서에서 기재하[0162]
는 것이, 구멍과 같은 광 투과 구조(6720)를 포함할 수 있다. 마스크(6704)는 또한 상기에서 기재한 것과
같이, 광 투과 구조(6720)를 실질적으로 가지지 않는, 외측 직경에 이웃하는 외주 영역(6724) 및 내측 직경에
이웃하는 내주 영역(6722)을 포함할 수도 있다. 광 투과 구조(6720)는 본 명세서에서 기재하는 실시양태 중 임
의의 것에 적용될 수 있으며, 본 명세서에서 기재하는 광 투과 구조의 여러 구성, 예컨대 구멍 간격, 크기, 형
상 및/또는 배향의 다양화는 마스크를 포함하는 임의의 실시양태 또는 이 실시양태에 적용될 수 있다.
도 29A는 여러 도수를 갖는, 도 28A 및 도 28B의 안구 내 임플란트(6700)와 유사한 안구 내 임플란트(6800)의[0163]
실시양태의 정면도이고, 도 29B는 그의 단면도이다. 본 명세서에서 기재하는 안구 내 임플란트 특성은 다양한
도수의 임플란트 바디와 결합시킬 수 있다.
도 30A는 정면도이며, 도 30B는 도 28A 및 도 28B의 안구 내 임플란트(6700)와 유사한 안구 내 임플란트(6900)[0164]
의 또 다른 실시양태의 단면도이다. 마스크(6904)의 외주는, 큰 입사각(예를 들면, 표면에 대한 법선과 입사광
사이의 큰 각)으로 전이 구역(6914)을 통하여 임플란트 바디(6908)의 전방 표면으로 투과하는 빛을 차단할 수
있는 전이 구역(예를 들면, 제2 영역)(6914)의 외주를 넘어 연장된다.
도 31A-도 34B는 지지 부재의 다양한 구성(7002, 7102, 7202, 7302)을 구비한 안구 내 임플란트(7000, 7100,[0165]
7200, 7300)의 추가의 실시양태이다. 예를 들면, 도 31A-도 32B의 안구 내 임플란트(7000, 7100)는 마스크
(7004, 7104)의 제1 영역으로부터 접촉 영역(7010, 7110)으로 고리를 이루고, 다시 마스크(7004, 7104)의 제2
영역으로 돌아가는 연결 부재(7012, 7112)를 갖는 지지 부재(7002, 7102)를 갖는다. 도 33A-도 34B의 안구 내
임플란트(7200,7300)는 도 28A-도 28B의 안구 내 임플란트(6700)와 유사하다; 그러나, 연결 부재(7212, 7312)
는 직선 경로를 통해 접촉 영역(7210, 7310) 및 마스크(7204,7304)를 연결하지 않는다. 연결 부재(7212,731
2)는 곡선 또는 웨이브의 경로를 통해서 마스크(7204, 7304) 및 접촉 영역(7210,7310)을 연결한다. 곡선 또는
웨이브 경로는 환자가 관찰할 수 있는 연결 부재(7212,7312)의 가시 효과를 감소시킬 수 있다.
지지 부재는 안구 내 임플란트의 햅틱과 일체화될 수 있다. 햅틱 및 지지 부재는 단일 조각(예를 들면, 일체식[0166]
구조)이거나, 또는 함께 커플링될 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크, 지지 부재 및 햅틱은 모두 함께 연결
될 수 있다. 예를 들면, 마스크, 지지 부재 및 햅틱은 단일 조각(예를 들면, 일체식 구조)일 수 있다.
마스크, 지지 부재 및/또는 햅틱은 동일한 재료를 포함할 수 있다. 또한, 마스크, 지지 부재, 및/또는 햅틱은
임플란트 바디와 동일한 재료를 포함할 수 있다; 그러나, 마스크, 지지 부재 및/또는 햅틱은 염료 또는 다른 안
료를 포함하거나 또는 혼입하여, 불투명성을 만들 수 있다. 대안적으로, 마스크, 지지 부재 및/또는 햅틱은 임
플란트 바디와는 상이한 재료를 포함할 수 있지만, 임플란트 바디의 재료와 상용가능한 재료일 수 있다. 도
35A는 마스크(7404) 및 햅틱(7416)에 커플링되는 지지 부재(7402)를 갖는 안구 내 임플란트(7400)의 실시양태의
정면도이고, 도 35B는 그 단면도이다. 지지 부재는 마스크(7404)로부터 임플란트 바디(7408)의 외측 표면으로
멀리 연장된다. 햅틱(7416)은 지지 부재(7402) 및 임플란트 바디(7408)로부터 멀어지는 방향으로 연장된다.
햅틱(7416)은 임플란트 바디(7408)가 마스크(7404) 주위에 주입되는 동안 마스크(7404)를 유지하기 위해, 몰드
와 접촉 영역을 제공할 수 있다. 마스크(7404), 지지 구조(7402) 및 햅틱(7416)은 단일 조각이거나 또는 함께
커플링되어, 임플란트 바디(7408)의 형성 중에 마스크에 적용되는 힘에 저항하도록 구성될 수 있다. 특정 실시
양태에서, 햅틱, 지지 부재 및 마스크는 실질적으로 평면일 수 있다.
도 36A는 정면도이며, 도 36B는 도 35A-도 35B의 안구 내 임플란트(7400)와 유사한 안구 내 임플란트(7500)의[0167]
실시양태의 단면도이다. 그러나, 상기 마스크(7504)는 임플란트 바디(7508)의 전방 표면(7518)에 가깝게 되도
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록 구성되며, 임플란트 바디(7508)의 전방 표면(7518)의 외곽을 따른다. 마스크(7504)가 전방 표면(7518)에 가
까울수록, 큰 입사각으로 전방 표면 상의 전이 구역(7914)을 통과하는 빛은 환자의 시각적 아티팩트로서 관찰될
수 있는 후방 표면(7520)을 통과할 수 있는 양이 적어진다. 전이 구역이 후방 표면 상에 있는 실시양태에서,
마스크는 후방 표면에 가깝게 되도록 위치할 수 있다. 지지 부재(7502)는 또한 임플란트 바디(7508)의 전방 표
면(7518)에 가깝게 되도록 구성될 수 있다.
특정 실시양태에서, 마스크는 임플란트 바디 상에 프린트될 수 있다. 마스크는 임플란트 바디의 후방 및/또는[0168]
전방 표면 상에 프린트될 수 있다. 프린트된 마스크는 임플란트 바디의 표면에 인접하거나, 또는 임플란트 바
디로 통과될 수 있다(착색, 문신 등). 프린트 선택 사항은 오프셋(offset) 프린트, 블록 프린트, 제트 프린트
등을 포함할 수 있다. 마스크는 또한 열 전달 또는 핫 스탬핑에 의해 임플란트 바디에 적용될 수 있다. 마스
크는 또한 서브-표면 레이저 가공으로 임플란트 바디 내 또는 표면 상에 레이저 에칭될 수 있다. 프린트된 마
스크는 임플란트 바디에 결합 또는 부착될 수 있다. 특정 실시양태에서, 마스크는 임플란트 바디를 환자에 삽
입한 이후에, 임플란트 바디 상에 프린트된다. 다른 실시양태에서, 마스크는 임플란트 바디를 환자에 삽입하기
이전에, 임플란트 바디 상에 프린트된다. 예를 들면, 마스크는 공장 또는 작업실에서 임플란트 바디 상에 프린
트될 수 있다.
도 37A-도 37D는 전이 구역(8304)을 갖는 임플란트 바디(8300)의 전방(또는 후방) 표면 상에 마스크(8308)를 형[0169]
성하는 또 다른 방법을 설명한다. 도 37A는 전이 구역(8304) 또는 마스크(8308)가 없는 임플란트 바디(8300)를
나타낸다. 캐비티(8302), 예컨대 고리형은 도 37B에서 나타낸 것과 같이 임플란트 바디(8300)의 전방 표면으로
(기계적으로, 화학적으로, 등) 형성될 수 있다. 캐비티(8302)는 전이 구역(8304)을 형성할 수 있다. 도 37C에
나타낸 것과 같이, 캐비티(8302)는 불투명 재료(8306)로 적어도 일부분을 채울 수 있어, 전이 구역(8304)이 실
질적으로 커버된다. 중심 영역(8310)은 도 37D에서 나타낸 것과 같이 (기계적으로, 화학적으로, 등) 형성될 수
있다. 몇몇 불투명 재료(8306)는 중심 영역(8310)을 형성하는 경우 제거될 수도 있으나, 마스크(8308)를 형성
하기 위해서 전이 구역(8304)을 실질적으로 커버하는 불투명 재료(8306) 층을 남겨둘 수도 있다.
도 38A-도 38E는 임플란트 바디(8400) 내에 마스크(8408)를 형성하는 방법을 나타낸다. 도 38A는 임플란트 바[0170]
디(8400)를 나타내며, 도 38B는 전방 표면 상에 형성되는 캐비티(8402)를 갖는 임플란트 바디(8400)를
나타낸다. 마스크(8408)는 도 38C에 나타낸 것과 같이 캐비티(8402) 내에 위치할 수 있으며, 캐비티(8402)는
도 38D에 나타낸 것과 같이 임플란트 바디 재료(8406)로 적어도 일부분을 충전하여 임플란트 바디(8400) 내로
마스크(8408)를 매립(embed)할 수 있다. 도 38E는 중심 영역(8410) 및 전이 구역(8404)을 형성하기 위해서,
임플란트 바디 재료 일부가 제거된 임플란트 바디(8400)를 나타낸다.
도 39A-도 39D는 전이 구역(8504)이 있는 임플란트 바디(8500)의 전방 표면 상에 마스크(8508)를 형성하기 위한[0171]
또 다른 방법을 나타낸다. 도 39A는 전이 구역(8504) 또는 마스크(8508)가 없는 임플란트 바디(8500)를 나타낸
다. 캐비티(8502), 예컨대 고리형은 도 39B에 나타낸 것과 같이 임플란트 바디(8500)의 전방 표면에 형성될 수
있다. 도 39C에 나타낸 것과 같이, 캐비티(8502)는 불투명 재료(8506)로 적어도 일부분이 채워질 수 있다. 중
심 영역(8510)은 도 39D에 나타낸 것과 같이 형성될 수 있다. 몇몇 불투명 재료(8506)는 또한 중심 영역(851
0)이 형성되는 경우에 제거될 수도 있으며, 불투명 재료(8506)는 전이 구역(8504) 및 마스크(8508)를 형성할 수
있다.
특정 실시양태에서, 마스크는 선택적으로 임플란트 바디의 재료를 불투명 혹은 굴절성으로 함으로써, 임플란트[0172]
바디 상에 또는 임플란트 바디에 형성된다. 예를 들면, 재료, 예컨대 블랙 실리콘, 카본-분말형 테플론, 탄소
가 있는 PVDF 등을 사용할 수 있다. 마스크에 포함되는 재료의 추가적인 예는 미국 특허 공개 제2006/0265058
호에 기재되어 있다. 임플란트 바디는 특정 조건에 노출될 때, 투명한 것에서 불투명(예를 들면, 광색 재료)
또는 굴절성으로 변경되는 재료일 수 있다. 임플란트 바디 재료의 분자 구조는 광학적으로, 화학적으로, 전기
적으로, 및 기타의 방식으로 변경될 수 있다. 예를 들면, 임플란트 바디 구조는 변경되어, 보이드, 지수 변경
영역, 표면 측면 등을 형성할 수 있다. 특정 실시양태에서, 임플란트 바디 상에 또는 임플란트 바디 내에서의
염료는, 투명한 것에서 불투명 또는 굴절성으로 변경되도록 빛 또는 전기로 활성화시킬 수 있다. 특정 실시양
태에서, 마스크는 임플란트 바디를 환자에 삽입시킨 후에 형성된다. 다른 실시양태에서, 마스크는 임플란트 바
디를 환자에게 삽입하기 이전에 형성된다. 예를 들면, 마스크는 공장 또는 작업실에서 형성될 수 있다.
특정 실시양태에서, 임플란트 바디는 도수를 생성하기 위해 윤곽이 있는 후방 및/또는 전방 표면을 갖는다. 임[0173]
플란트 바디의 표면의 윤곽은 다수의 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 임플란트 바디는 성형되어 형태를
갖는다. 다른 예에서, 임플란트 바디의 표면은 밀링되어 윤곽을 형성한다.
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헵틱은 임플란트 바디와 함께 형성되거나, 추후 임플란트 바디에 부착된다. 예를 들면, 햅틱은 단일-조각 구성
으로 임플란트 바디 상에 캐스팅 또는 몰딩될 수 있다. 또한, 햅틱은 기계적으로 임플란트 바디에 부착될 수
있다. 예를 들면, 임플란트 바디에 구멍을 뚫을 수 있으며(drilled), 햅틱이 삽입될 수 있다. 햅틱은 접착제
또는 아교를 사용해서 부착될 수 있다. 특정 실시양태에서, 안구 내 임플란트는 임플란트 바디를 가지지 않는
다. 안구 내 임플란트가 임플란트 바디를 갖지 않는 경우, 햅틱은 마스크에 부착될 수 있다.
몰드의 몰드 캐비티 내에 마스크를 배치 및 조정하는 다수의 방법이 있다. 예를 들면, 단일 몰드는, 몰드 캐비[0174]
티 내의 마스크를 조정하여 몰드 캐비티에 대해서 정확하게 마스크, 결국에는 임플란트 바디를 위치시키면서 사
용할 수 있다. 도 40은 포지셔닝 센서(9010), 마스크 포지셔닝 장치(9020) 및 제어 시스템(9030)을 포함하는
마스크 포지셔닝 시스템(9000)의 실시양태를 나타낸다. 제어 시스템(9030)은 센서 인터페이스(9032)(피드백 컨
트롤과 전기적으로 통신), 피드백 컨트롤(9034)(마스크 포니셔닝 인터페이스와 전기적으로 통신), 및 마스크 포
니셔닝 인터페이스(9036)를 포함할 수 있다. 마스크 포지셔닝 장치(9020)는 임플란트 바디(9050) 내에 마스크
(9040)를 위치시킬 수 있다.
포지셔닝 센서(9010)를 사용해서 몰드 캐비티 내에 마스크의 위치를 측정할 수 있다. 예를 들면, 구멍 효과 센[0175]
서(Hal Effect sensor)는 자기장을 검출할 수 있으며, 센서의 출력 전압은 자기장의 변화에 반응하여 가변될 수
있다. 고정된 자기장으로, 자기장의 원천까지의 거리를 정확하게 계산할 수 있다. 반자성 부상(levitation)
및 유도 부상은 자기 마스크와 함께 사용할 수 있는 선택이다. 카메라, 초음파 검출기, 정전용량형 근접 센서
및 레이저 간섭계도 또한 사용하여 마스크의 위치를 측정할 수 있다.
다수의 타입의 마스크 포지셔닝 장치(9020) 및 방법을 사용하여, 몰드 캐비티 내에 마스크를 움직이고 위치시킬[0176]
수 있다. 예를 들면, 나노와이어와 같은 와이어는 마스크 및 마스크를 둘러싸는 프레임과 같은 프레임에 커플
링될 수 있다. 도 41은 서라운딩 프레임(9106)에 대해 마스크(9104) 상의 0, 90, 180 및 270도 위치에서 마스
크(9104) 상의 4개의 영역에 커플링되는 4개의 나노와이어(9102)를 포함하는 마스크 포지셔닝 장치(9100)의 실
시양태를 나타낸다. 다음에, 프레임(9106)은 예를 들면 기계적 작동기 및/또는 서보(servo)(9108)에 의해 마스
크(9104)를 위치시키도록 움직일 수 있다. 나노와이어는 전착(electrodeposition)에 의해 형성될 수 있다. 특
정 실시양태에서, 마스크 및 나노 와이어는 일체식 구조를 형성하기 위해 전착된다. 마스크는 작은 질량을 가
지므로, 액체 폴리머 내에서 마스크를 주위로 움직이는 것은 작은 와이어, 예컨대 나노 와이어로도 충분할 수
있으며, 폴리머는 고형 또는 경화된 후에 임플란트 바디로부터 용이하게 전단 또는 분리될 수 있다. 나노와이
어의 하나의 이점은 작고 안구 내 임플란트의 광학 성능을 최소화할 수 있다는 것이다. 특정 실시양태에서, 와
이어는 그 자체로 마스크의 움직임을 제공하여 외측 작동기의 사용을 배제시킬 수 있다. 와이어는 마스크의 움
직임을 야기하기 위해 가열시에 변형될 수 있는 니티놀과 같은 형상 기억 합금을 포함할 수 있다. 니티놀 와어
어는 예를 들면 약 0.003 인치의 직경을 가질 수 있다.
반자성 부상은 마스크를 배치시키기 위해서 사용될 수도 있다. 반자성 물질은 그의 원자들이 영구적인 자기 쌍[0177]
극자 모멘트를 갖지 않는 것이다. 외부 자기장을 반자성 물질에 인가시키는 경우, 약한 자기 쌍극자 모멘트가,
인가되는 자기장의 반대 방향으로 유도된다. 열분해 그래파이트는 강한 반자성이며, 열분해 그래파이트는 비중
이 약 2.1이어서, 부상이 용이하다. 반자성 부상은 자기장을 생성하는 재료에 매우 근접하게 반자성 물질을 가
져옴으로써 발생한다. 반자성 재료는 자기장을 생성하는 재료를 밀어낼 것이다. 자성을 띄지 않은 대부분의
물질은 약하게 반자성이다. 반발력은 중력을 극복할 만큼 충분히 강하지 않을 수 있다. 반자성 부상을 야기하
기 위해서, 반자성 재료 및 자기성 재료 둘 다가 반발력을 합쳐서 중력을 극복한다. 자기장은 영구적인 자석으
로부터 생기거나, 또는 전자석으로부터 발생할 수 있다. 마스크(9202)는 도 42에서 나타낸 것과 같이, 자기장
(9204)에 의해 부상될 수 있는 반자성 재료일 수 있다. 자기장을 조작하여 몰드 캐비티 내에 마스크를 위치시
킬 수 있다. 예를 들면, 자기장은 마스크를 부상시키는 중에 마스크를 제한하도록 구성될 수 있다. 다중 자기
장(예를 들면, 자석)은 자기장의 형태 및 특성을 제어하기 위해 사용될 수 있다. 도 43A 및 도 43B는 마스크
(9306, 9312)를 제한할 수 있는 제2 자기장(9304, 9310) 및 제1 자기장(9302, 9308)의 실시 태양의 정면도를
나타낸다. 제1 자기장(9302, 9308)은 제2 자기장(9304, 9310)으로서 반대의 자기장을 갖는다. 특정 실시양태
에서, 마스크는 영구적인 자기장을 포함한다. 마스크가 영구적인 자기장을 가지면, 마스크와 자기장 사이의 힘
이 보다 많이 생성될 수 있다.
마스크는 또한 음파 부상(sonic levitation)에 의해 부상될 수도 있다. 음향방사압(acoustic radiation[0178]
pressure)은 액체 폴리머에서 강한 음파를 생성해서 마스크를 이동시킨다. 정전기 부상도 또한 마스크에 장전
기장을 적용시켜 중력을 상쇄하도록 사용될 수 있다. 고전압 전극(9402)은 도 44에 나타낸 것과 같이 마스크
(9404) 주위에 배향될 수 있다. 예를 들면, 총 6개의 전극의 경우, 서로에 대해 수직인 세 개의 축 상에서 두
등록특허 10-1796801
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개의 전극(9402)이 마스크(9404)의 맞은 편에 배향될 수 있다. 전극은 고전압 발전기 및 제어기(9406)와 전기
통신될 수 있다.
마스크는 전기력이 없이도 상태(예를 들면, 불투명 또는 투명)를 유지할 수 있는 이색도 디스플레이(bistable[0179]
display)(예를 들면, 콜레스테릭 액정 디스플레이(ChLCD))에 의해서 형성될 수 있다. 도 45는 이색도 디스플레
이(9502)를 나타낸다. 전기력은 불투명 또는 투명에 대한 픽셀(9504)의 상태를 변경시키기 위해 사용될 수 있
다. 불투명인 픽셀은 마스크를 형성할 수 있다. 따라서 마스크의 내측 직경, 외측 직경 및 애퍼처를 조정할
수 있다.
VII. 햅틱이 있는 안구 내 임플란트[0180]
전방 안구 내 렌즈는 일반적으로 비교적 경질의 열가소성인 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA)로 제조될 수 있다.[0181]
특정 정도의 강도는 전방에서의 임플란트의 안정성을 유지시키기 위해서 필수적이라고 믿었다. 예를 들면, 안
구 내 렌즈의 목적하는 안정성을 획득하기 위해서, 햅틱에 보강 요소(stiffening element)를 추가할 수 있다(예
를 들면 미국 특허 제6,228,115호(Hoffmann 등) 참조). 그러나, PMMA 안구 내 렌즈의 압축력은 안정성에 요구
되는 것을 훨씬 초과한다. 또한 실리콘, 하이드로겔 및 소프트 아크릴과 같은 연질 재료로 안구 내 렌즈를 구
성할 수도 있다. 이러한 연질 재료에 의한 전방 내의 임플란트의 안정성에 대한 몇몇 의문들이 있지만, 연질
재료로 제조된 안구 내 임플란트는 특정 압축력 및 접촉면적을 사용하는 경우 안정하다.
예를 들면, 시판되는 Bausch