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광확산성 시트 및 이것을 사용한 백라이트장치(Light-diffusing sheet and backlight device using same)

좌절하지말자 2018. 3. 21. 08:56

(19) 대한민국특허청(KR)
(12) 등록특허공보(B1)
(45) 공고일자 2015년04월20일
(11) 등록번호 10-1513762
(24) 등록일자 2015년04월14일
(51) 국제특허분류(Int. Cl.)
G02B 5/02 (2006.01) F21V 3/04 (2006.01)
G02F 1/13357 (2006.01)
(21) 출원번호 10-2010-7018387
(22) 출원일자(국제) 2009년01월22일
심사청구일자 2013년10월08일
(85) 번역문제출일자 2010년08월19일
(65) 공개번호 10-2010-0117611
(43) 공개일자 2010년11월03일
(86) 국제출원번호 PCT/JP2009/050919
(87) 국제공개번호 WO 2009/093626
국제공개일자 2009년07월30일
(30) 우선권주장
JP-P-2008-013995 2008년01월24일 일본(JP)
(56) 선행기술조사문헌
JP09304604 A*
JP2001324609 A*
US20080002256 A1
US20070115569 A1
*는 심사관에 의하여 인용된 문헌
(73) 특허권자
키모토 컴파니 리미티드
일본국 사이타마 사이타마시 츄오쿠 스즈야 4쵸메
6반 35고
(72) 발명자
후나바시 요헤이
일본국 사이타마 사이타마시 츄오쿠 스즈야 4쵸메
6-35 키모토 컴파니 리미티드 기술개발 센터 내
이시카와 히로야스
일본국 미에 이나베시 호쿠세이쵸 교가노 신덴 시
모슈이 450 키모토 컴파니 리미티드 미에 제4공장

후쿠이 겐지
일본국 사이타마 사이타마시 츄오쿠 스즈야 4쵸메
6-35 키모토 컴파니 리미티드 기술개발 센터 내
(74) 대리인
서종완
전체 청구항 수 : 총 7 항 심사관 : 조훤
(54) 발명의 명칭 광확산성 시트 및 이것을 사용한 백라이트장치
(57) 요 약
본 발명은 광확산성능을 발휘하면서, 액정 디스플레이의 백라이트의 구성부재로서 사용할 때나 광확산성 시트의
반송시에, 광확산성 시트의 표면이나 이에 대향하는 다른 부재의 표면에 흠집이 발생하는 것을 방지할 수 있는,
광확산성 시트를 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해 본 발명의 광확산성 시트는, 미립자를 함유하는 광확산층을 구비한 것으로서, 상기
광확산층의 표면은, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 이상이고, 상
기 광확산층 중에 포함되는 미립자의 평균입경 ø와 광확산층의 두께 d가 ø/d≤0.7의 관계를 충족시키는 것인
것을 특징으로 한다.
대 표 도 - 도1
등록특허 10-1513762
- 1 -
명 세 서
청구범위
청구항 1
미립자를 함유하는 광확산층을 구비한 광확산성 시트로서,
상기 광확산층의 표면은, JIS-B0601:1994에 규정되는 2차원 표면형상의 측정방법에 준하여, 세로 0.5 ㎜×가로
1 ㎜의 면적을, 세로방향 2 ㎛ 피치, 가로방향 1 ㎛ 피치로 플롯하고, 그것으로부터 구한 세로방향 및 가로방향
의 2차원의 거칠기 곡선을 집적한 것인 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가
8.0 ㎛ 이상이고,
상기 광확산층 중에 포함되는 미립자의 함유량이 상기 광확산층에 포함되는 수지 100 중량부에 대해 90 중량부
이상 161 중량부 이하이고, 상기 미립자의 평균입경이 15 ㎛ 이하이며, 상기 미립자의 평균입경을 ø, 광확산층
의 두께를 d로 할 때,
0.5≤ø/d≤0.6
의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 광확산성 시트.
청구항 2
제1항에 있어서,
상기 광확산층의 표면은, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 9.0 ㎛ 이상인
것을 특징으로 하는 광확산성 시트.
청구항 3
제1항에 있어서,
상기 미립자의 평균입경이 8 ㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 광확산성 시트.
청구항 4
평균입경이 상이한 복수 종의 미립자를 함유하는 광확산층을 구비한 광확산성 시트로서,
상기 광확산층의 표면은, JIS-B0601:1994에 규정되는 2차원 표면형상의 측정방법에 준하여, 세로 0.5 ㎜×가로
1 ㎜의 면적을, 세로방향 2 ㎛ 피치, 가로방향 1 ㎛ 피치로 플롯하고, 그것으로부터 구한 세로방향 및 가로방향
의 2차원의 거칠기 곡선을 집적한 것인 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가
8.0 ㎛ 이상이고,
상기 광확산층은, 상기 광확산층 중에 포함되는 미립자의 함유량이 상기 광확산층에 포함되는 수지 100 중량부
에 대해 90 중량부 이상 161 중량부 이하이고, 상기 미립자의 평균입경이 15 ㎛ 이하이며, 상기 복수 종의 미립
자 중 적어도 90 중량%를 점유하는 종류의 미립자는, 평균입경을 ø, 광확산층의 두께를 d로 할 때,
0.5≤ø/d≤0.6
의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 광확산성 시트.
청구항 5
제4항에 있어서,
상기 복수 종의 미립자의 평균입경이 각각
ø/d≤0.6
의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 광확산성 시트.
등록특허 10-1513762
- 2 -
청구항 6
적어도 일단부에 광원이 배치되고, 상기 일단부에 직교하는 면을 광출사면으로 하는 도광판과, 상기 도광판의
광출사면에 배치되는 광확산성 시트를 구비한 백라이트장치에 있어서, 상기 광확산성 시트로서, 제1항 내지 제5
항 중 어느 한 항의 광확산성 시트를 사용한 것을 특징으로 하는 백라이트장치.
청구항 7
광원과, 상기 광원의 일방측에 배치되는 광확산판과, 상기 광확산판의, 상기 광원과는 반대측에 배치되는 광확
산성 시트를 구비한 백라이트장치에 있어서, 상기 광확산성 시트로서, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 광확
산성 시트를 사용한 것을 특징으로 하는 백라이트장치.
발명의 설명
기 술 분 야
본 발명은 액정 디스플레이 등의 용도에 사용되는 백라이트장치를 구성하는 부재로서 매우 적합하게 사용되는[0001]
광확산성 시트 및 이것을 사용한 백라이트장치에 관한 것이다.
배 경 기 술
종래, 액정 디스플레이 등의 백라이트장치에 사용되는 광확산성 시트로서, 지지체의 한쪽 면에, 수지나 미립자[0002]
를 함유하는 광확산층을 설치한 것이 사용되고 있다.
이러한 광확산성 시트로서는, 도광판의 광확산 패턴이 보이지 않는 것과, 정면방향으로의 휘도가 높은 것 등의[0003]
성능이 요구되고 있다.
이러한 요구 성능을 충족시키기 위해, 광확산층에 사용하는 수지나 미립자의 종류나 함유량을 변경하는 개량이[0004]
행해지고 있다. 그러나, 이러한 개량으로는 정면방향으로의 휘도의 향상에 한계가 있다고 생각되기 때문에, 프
리즘 시트를 사용하여 주변방향으로의 빛을 정면방향으로 향하게 하는 것이 생각되고 있다. 이러한 프리즘 시트
는 광확산성능을 갖지 않기 때문에, 광확산성 시트와 겹쳐서 사용하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 1, 2). 이
것에 의해, 종래의 문제점을 극복하여, 종래의 광확산성 시트만을 사용하는 경우에 비해 정면방향으로의 휘도가
향상되며, 또한 충분한 광확산성이 얻어진다.
특허문헌 1: 일본국 특허공개 평9-127314호 공보(특허청구의 범위)[0005]
특허문헌 2: 일본국 특허공개 평9-197109호 공보(특허청구의 범위)[0006]
발명의 내용
해결하려는 과제
그러나, 전술한 바와 같이 광확산성 시트와 프리즘 시트를 겹쳤을 때, 광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하[0007]
는 프리즘 시트의 표면에 흠집을 발생시켜 버리는 경우가 있었다. 또한, 이러한 광확산성 시트를 복수 매 겹쳐
서 반송하는 경우에 있어서도, 마찬가지로 광확산성 시트의 표면에 흠집을 발생시켜 버리는 경우가 있었다. 이
러한 경우, 최근 몇년의 고정세화된 액정 디스플레이에 있어서는, 그 약간의 흠집이 액정 디스플레이의 불량 원
인으로 되어 버린다. 따라서, 이러한 광확산성 시트를 사용하여 액정 디스플레이의 백라이트를 구성하고자
하면, 매우 신중하게 취급해야만 하기 때문에, 생산성이 떨어지는 것으로 되어 버린다는 문제점을 가지고 있었
다.
이에, 본 발명은, 종래부터 요구되고 있는 광확산성능을 발휘하면서, 액정 디스플레이의 백라이트의 구성부재로[0008]
서 사용할 때나 광확산성 시트의 반송시에, 광확산성 시트의 표면이나 이에 대향하는 다른 부재의 표면에 흠집
이 발생하는 것을 방지할 수 있는 광확산성 시트 및 이것을 사용한 백라이트장치를 제공하는 것을 목적으로 한
다.
과제의 해결 수단
본 발명자는, 전술한 과제에 대해서 예의 검토한 결과, 광확산성 시트의 표면이나 이에 대향하는 부재의 표면에[0009]
등록특허 10-1513762
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흠집을 발생시키는 원인이, 시트간에 존재하는 진애(塵埃) 등의 이물질에 있는 것을 발견하였다. 그리고, 이 이
물질에 대해, 본 발명자는 광확산성 시트의 표면을 특정 3차원 표면형상으로 하고, 미립자의 평균입경과 광확산
층의 두께를 특정 비율로 함으로써, 광확산성능을 발휘하면서, 당해 이물질의 존재를 원인으로 한 흠집 발생을
방지할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명에 도달한 것이다.
즉, 본 발명의 광확산성 시트는, 미립자를 함유하는 광확산층을 구비한 것으로서, 상기 광확산층의 표면은 3차[0010]
원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 이상이고, 상기 광확산층 중에 포함
되는 미립자의 평균입경을 ø, 광확산층의 두께를 d로 할 때,
ø/d≤0.7[0011]
의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 것이다.[0012]
또한, 본 발명의 광확산성 시트는, 상기 광확산층의 표면이, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최[0013]
대 피크 높이(Rp)가 9.0 ㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명의 광확산성 시트는, 상기 미립자의 평균입경이 8 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 것을 특징으로 한다.[0014]
또한, 본 발명의 광확산성 시트는, 상기 광확산층은 평균입경이 상이한 미립자를 복수 종 포함하고, 각 미립자[0015]
의 평균입경이 각각 ø/d≤0.7의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 백라이트장치는, 적어도 일단부(一端部)에 광원이 배치되고, 상기 일단부에 대략 직교하는 면[0016]
을 광출사면으로 하는 도광판과, 상기 도광판의 광출사면에 배치되는 광확산성 시트를 구비한 것에 있어서, 상
기 광확산성 시트로서, 본 발명의 광확산성 시트를 사용한 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명의 백라이트장치는, 광원과, 상기 광원의 일방측에 배치되는 광확산판과, 상기 광확산판의, 상기[0017]
광원과는 반대측에 배치되는 광확산성 시트를 구비한 것에 있어서, 상기 광확산성 시트로서, 본 발명의 광확산
성 시트를 사용한 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 본 발명의 광확산성 시트의 광확산층의 표면의 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크[0018]
높이(Rp)란, JIS-B0601:1994에 규정되는 2차원 표면형상의 측정방법에 준하여, 세로 0.5 ㎜×가로 1 ㎜의 면적
을, 세로방향 2 ㎛ 피치, 가로방향 1 ㎛ 피치로 플롯하고, 그것으로부터 구한 세로방향 및 가로방향의 2차원의
거칠기 곡선을 집적하여 3차원 거칠기 곡선으로 한 것으로부터 산출한 값을 말한다.
발명의 효과
본 발명의 광확산성 시트는, 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 이상인 것으로 인해, 광확산성 시트는[0019]
비교적 높은 볼록부에서 다른 부재와 접촉하게 되기 때문에, 광확산성 시트와 다른 부재 사이에 진애 등의 이물
질이 존재하더라도, 이물질은 비교적 높은 볼록부와 볼록부 사이에 들어가, 양자의 접촉면에 흠집을 발생시키는
경우가 없다. 또한 광확산층 중에 포함되는 미립자의 평균입경 ø와 광확산층의 두께 d의 관계를 ø/d≤0.7로
함으로써, 피크 높이가 8.0 ㎛ 이상인 볼록부 사이에 이물질이 들어갈 수 있는 적절한 오목부를 형성할 수 있으
며 또한 전체적으로 높은 광확산성을 발휘시킬 수 있다.
본 발명의 효과는 크기가 20 ㎛ 이하 정도인 진애 등의 이물질에, 특히 유용하다. [0020]
또한 본 발명의 광확산성 시트를 사용한 백라이트장치는, 이물질에 의한 흠집이 발생하지 않기 때문에, 화상품[0021]
질을 손상시키는 경우가 없다.
도면의 간단한 설명
도 1은 본 발명의 광확산성 시트의 광확산층과 이물질의 관계를 나타내는 도면이다.[0022]
도 2는 다른 광확산성 시트의 광확산층과 이물질의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3은 다른 광확산성 시트의 광확산층과 이물질의 관계를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 백라이트장치의 일실시형태를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 백라이트장치의 일실시형태를 나타내는 도면이다.
부호의 설명
등록특허 10-1513762
- 4 -
1·····광확산층
2·····이물질
140···에지라이트형 백라이트장치
143···광확산성 시트
150···직하형 백라이트장치
153···광확산성 시트
발명을 실시하기 위한 구체적인 내용
이하, 본 발명의 광확산성 시트의 실시형태에 대해서 설명한다.[0023]
본 발명의 광확산성 시트는, 미립자를 함유하는 광확산층을 구비한 것으로, 구조로서는 광확산층 단층으로 되는[0024]
것이나, 당해 광확산층이 지지체 상에 적층된 것이어도 된다.
광확산층은 기본적으로 미립자와 수지로 된다.[0025]
미립자로서는, 실리카, 클레이, 탈크, 탄산칼슘, 황산칼슘, 황산바륨, 규산알루미늄, 산화티탄, 합성 제올라이[0026]
트, 알루미나, 스멕타이트 등의 무기 미립자 외에, 스티렌 수지, 우레탄 수지, 벤조구아나민 수지, 실리콘
수지, 아크릴 수지 등으로 되는 유기 미립자를 사용할 수 있다. 이들 중, 휘도성능을 향상시키는 관점에서, 유
기 미립자를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 아크릴 수지로 되는 유기 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 당
해 미립자는, 1종 뿐 아니라, 복수 종을 조합해서 사용하는 것도 가능하다.
미립자의 형상은 특별히 한정되는 것은 아니나, 광확산성이 우수한 구상 입자인 것이 바람직하다. 또한, 당해[0027]
미립자의 평균입경은, 광확산성과 휘도의 성능 균형을 고려하면서 본 발명의 요철면형상을 얻는 관점에서, 1~40
㎛로 하는 것이 바람직하고, 광확산층의 빛 빠짐에 기인한 번쩍거림을 방지하는 관점이나 저비용의 관점에서,
1~20 ㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 특히, 8.0 ㎛ 이상의 최대 피크 높이(Rp)를 얻기 쉽게 하기 위해, 평균
입경은 8~20 ㎛로 하는 것이 보다 바람직하다.
미립자로서, 동일 재료 또는 다른 재료로, 평균입경이 상이한 2종 이상의 미립자를 사용해도 된다.[0028]
미립자의 입경 분포의 변동계수는, 후술하는 목적하는 최대 피크 높이를 얻기 쉽게 하는 관점에서, 15~55% 정도[0029]
로 하는 것이 바람직하고, 25~50% 정도로 하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 입경 분포에 있어서는, 평균입경
보다도 커다란 입자와 평균입경보다 작은 입자가 적절히 혼재되어 있기 때문에, 광확산층의 표면형상은 비교적
높은 볼록부가 점재하여, 이들 볼록부간에 요철 차가 비교적 작은 공간이 형성되기 쉽다. 이러한 3차원 형상에
의해, 광확산성과 흠집 발생 방지효과가 동시에 달성된다.
또한, 본 발명에서 말하는 미립자의 평균입경, 및 입경 분포의 변동계수는, 콜터 카운터법에 의해 측정한 값으[0030]
로부터 산출한 것이다. 콜터 카운터법이란, 용액 중에 분산되어 있는 입자의 수 및 크기를, 전기적으로 측정하
는 방법으로서, 입자를 전해액 중에 분산시키고, 흡인력을 사용하여 전기가 흐르고 있는 세공(細孔)에 입자를
통과시킬 때, 입자의 체적분량만큼 전해액이 치환되고, 저항이 증가하여, 입자의 체적에 비례한 전압 펄스가 발
생한다. 이 전압 펄스의 높이와 수를 전기적으로 측정함으로써, 입자 수와 개개의 입자 체적을 구하여, 입자경
및 입자경 분포를 산출하는 것이다.
본 발명의 광확산층의 수지로서는, 광학적 투명성이 우수한 수지를 사용할 수 있다. 예를 들면, 폴리에스테르계[0031]
수지, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄아크릴레이트계
수지, 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지,
아세탈계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 멜라민계
수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지 등의 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지 등을 사용할
수 있다. 이들 중에서도 내광성과 광확 특성이 우수한 아크릴계 수지가 매우 적합하게 사용된다.
본 발명의 광확산층 중에 있어서의 수지에 대한 미립자의 함유비율은, 사용하는 미립자의 평균입경이나 광확산[0032]
층의 두께에 따라 일률적으로는 말할 수 없으나, 광확산성과 휘도의 성능 균형을 고려하면서 본 발명의 요철면
형상을 얻는 관점에서, 수지 100 중량부에 대해 250 중량부 이하인 것이 바람직하다. 또한, 수지와 미립자의 굴
절률 차에 기인한 투명성의 저하를 방지하는 관점이나 저비용으로 하는 관점에서 200 중량부 이하로 하는 것이
보다 바람직하다. 또한 본 발명의 최대 피크 높이(Rp)를 얻기 쉽게 한다는 관점에서는, 수지 100 중량부에 대해
등록특허 10-1513762
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90~210 중량부로 하는 것이 바람직하고, 150~200 중량부로 하는 것이 더욱 바람직하다.
광확산층 중에는, 전술한 수지 및 미립자 외에, 광중합개시제, 광중합촉진제, 레벨링제·소포제 등의 계면활성[0033]
제, 산화방지제, 자외선흡수제 등의 첨가제를 첨가해도 된다.
광확산층의 두께는, 광확산층 중에 포함되는 미립자의 평균입경 ø와의 관계 및 취급성이나 투명성 등을 고려하[0034]
여 결정된다.
구체적으로는, 본 발명의 광확산성 시트를 광확산층 단층으로 구성하는 경우에는, 10~500 ㎛로 하는 것이 바람[0035]
직하고, 10~250 ㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 두께를 10 ㎛ 이상으로 함으로써, 도막강도를 충분한 것으로
하고, 또한, 핸들링성을 양호한 것으로 할 수 있다. 한편, 두께를 500 ㎛ 이하로 함으로써, 광확산층의 투명성
을 양호한 것으로 할 수 있다. 또한, 지지체 상에 광확산층을 형성하는 경우에는, 광확산성능을 발휘하면서 본
발명의 광확산층 표면의 요철형상을 얻기 쉽게 하는 관점에서, 7~60 ㎛로 하는 것이 바람직하고, 20~35 ㎛로 하
는 것이 보다 바람직하다. 또한, 광확산층의 두께란, 광확산층의 요철면의 볼록부의 선단으로부터, 요철면과는
반대면의 표면까지의 두께를 말한다.
미립자의 평균입경과 광확산층의 두께의 관계는, ø/d≤0.7을 충족시키는 것으로 하고, 보다 바람직하게는 ø/d[0036]
≤0.6으로 한다.
미립자의 평균입경과 광확산층의 두께가 전술한 관계를 충족시키고, 또한, 후술하는 바와 같이 광확산층[0037]
표면이, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 이상인 것으로 인해, 도
1에 나타내는 바와 같이, 광확산층(1)의 표면이, 평탄한 요철형상 중에 높이가 있는 볼록부가 산재된 관계로 된
다. 그러면, 약 20 ㎛ 이하의 진애 등의 이물질(2)이 광확산층(1)의 표면에 부착되어도, 당해 이물질(2)이 그
요철형상의 볼록부의 높이를 넘지 않고 오목부에 그대로 남아 있게 된다(도 1). 이 상태에서 본 발명의 광확산
성 시트를 복수 매 겹치거나, 다른 부재와 겹치더라도, 당해 이물질이 광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하
는 부재의 표면에 접촉하는 경우가 없다. 따라서, 본 발명에 의하면, 설령 필름 사이에 이물질이 존재하더라도,
본 발명의 광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하는 부재의 표면에 흠집을 발생시키는 경우가 없다는 현저한
효과가 발휘된다.
특히, ø/d≤0.6으로 함으로써, 광확산층 표면이 보다 평탄한 요철형상으로 되기 때문에, 이물질에 대한 흠집[0038]
발생 방지성은 확보한 채, 제조시 등의 시트끼리의 맞닿음에 기인한 전술한 이물질이 관여하지 않는 흠집 발생
에 대해서도, 양호하게 방지할 수 있다. 또한, 저비용으로 광확산성 시트를 제작할 수 있다.
또한, 미립자를 2종 이상 사용하는 경우에는, 90% 이상을 차지하는 미립자가 전술한 관계를 충족시키는 것이 바[0039]
람직하고, 모든 미립자에 대해서 전술한 관계를 충족시키는 것인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 광확산성 시트의 광확산층 표면은, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이[0040]
(Rp)가 8.0 ㎛ 이상이다. 광확산성 시트의 광확산층 표면이, 이러한 특정 3차원 형상을 구비하고, 또한, 미립자
의 평균입경과 광확산층의 두께가 전술한 관계를 충족시킴으로써, 광확산성을 발휘함에도 불구하고, 본 발명의
광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하는 부재의 표면에 흠집을 발생시키는 경우가 없다는 현저한 효과가 발휘
된다.
한편, 미립자의 평균입경과 광확산층의 두께가 전술한 관계를 충족시키나, 광확산층 표면의 3차원 표면형상 측[0041]
정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 미만인 경우에는, 요철형상의 볼록부가 낮아져, 이
물질(2)이 요철형상의 볼록부의 높이를 넘어가 버린다(도 2). 그러면, 당해 광확산성 시트를 복수 매 겹치거나,
다른 부재와 겹쳤을 때에, 당해 이물질이 광확산성 시트의 표면이나 이에 대향하는 부재의 표면에 접촉하여, 당
해 광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하는 부재의 표면에 흠집을 발생시키게 되어 버린다.
또한, 당해 광확산성 시트의 광확산층 표면이, 이러한 특정 3차원 형상을 구비하나, 미립자의 평균입경과 광확[0042]
산층의 두께가 전술한 관계를 충족시키지 않는 경우에는, 미립자의 형상이 광확산층(1)의 표면형상에 영향을 미
치기 쉬워져, 요철형상의 높이의 상하변동이 심해진다. 이것에 의해, 볼록부와 볼록부 사이에 존재하는 오목부
의 면적이 좁아지거나, 또는, 볼록부와 볼록부 사이에 존재하는 오목부의 높이가 올라가, 이물질(2)이 볼록부와
볼록부의 극간에 들어갈 여지가 적어져, 이물질(2)이 요철형상의 볼록부의 높이를 넘어가 버린다(도 3).
그러면, 당해 광확산성 시트를 복수 매 겹치거나, 다른 부재와 겹쳤을 때, 당해 이물질이 광확산성 시트의 표면
이나 이에 대향하는 부재의 표면에 접촉하여, 당해 광확산성 시트의 표면이나, 이에 대향하는 부재의 표면에 흠
집을 발생시키게 되어 버린다.
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전술한 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)는, 이물질에 의한 흠집 발생을 추가[0043]
적으로 방지하는 관점에서, 9.0 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
한편, 입자의 탈락이나 볼록부의 변형을 방지하는 관점에서, 상한으로서는 30.0 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
광확산층 표면의 최대 피크 높이는, 미립자의 평균입경, 입자 분포의 변동계수, 광확산층에 있어서의 수지와 미[0044]
립자의 비율 및 광확산층의 두께를 전술한 적절한 범위로 설정함으로써 실현할 수 있다.
다음으로, 본 발명의 광확산성 시트가 지지체를 갖는 경우에 대해서 설명한다.[0045]
지지체의 재료는, 투명성을 저해하지 않는 것이라면 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 폴리에스테르계 수지,[0046]
아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄아크릴레이트계 수지, 에폭
시아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세탈계
수지, 비닐계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이
미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 환상 올레핀 등의 1종 또는 2종 이상
을 혼합한 투명 플라스틱 필름을 사용할 수 있다.
이 중, 연신가공, 특히 이축 연신가공된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이, 기계적 강도나 치수 안정성이 우수[0047]
한 점에서 바람직하다. 또한, 광확산층과의 접착성을 향상시키기 위해, 표면에 코로나방전처리를 행하거나, 이
(易)접착층을 설치한 것도 매우 적합하게 사용된다.
지지체의 두께는 통상 10~400 ㎛ 정도인 것이 바람직하다.[0048]
또한, 본 발명의 광확산성 시트 표면의 요철면과는 반대측 면에는, 다른 부재와의 밀착을 방지하기 위해 미[0049]
(微)매트처리를 행하거나, 광투과율을 향상시키기 위해 반사방지처리를 행해도 된다. 더 나아가서는, 하기와 같
은 도포건조방법에 의해, 백코트층이나 대전방지층이나 점착층을 설치해도 된다.
본 발명의 광확산성 시트는, 전술한 수지나 미립자 등의 재료를 적당한 용매에 용해시킨 광확산층용 도포액을,[0050]
종래부터 공지의 방법, 예를 들면, 바 코터, 블레이트 코터, 스핀 코터, 롤 코터, 그라비아 코터, 플로우 코터,
다이 코터, 스프레이, 스크린인쇄 등에 의해 지지체 상에 도포하고, 건조함으로써 제작할 수 있다. 또한, 본 발
명의 광확산성 시트가 광확산층 단층으로 되는 경우에는, 수지나 미립자 등의 재료를 혼합한 것을 압출하여 성
형기 등에 제작하거나, 전술한 바와 같이 광확산층을 지지체 상에 형성한 것으로부터, 당해 지지체를 박리 제거
함으로써 제작할 수 있다.
이상 설명한 본 발명의 광확산성 시트에 의하면, 주로, 액정 디스플레이, 전식간판, 조명, 스캐너나 복사기의[0051]
광원을 구성하는 백라이트장치의 일부품으로서 삽입했을 때에, 설령 진애 등의 이물질이 포함되어 있었다고 해
도, 광확산성 시트의 요철면 표면이나, 이에 대향하는 부재에 대해 흠집을 발생시키지도 않아 매우 적합하게 사
용된다. 또한, 본 발명의 광확산성 시트를 복수 매 겹쳐서 반송해도, 광확산성 시트가 이물질에 의해 흠집이 발
생하는 경우가 없기 때문에, 취급시에 쓸데없는 신경을 쓰는 경우도 없다.
다음으로, 본 발명의 광확산성 시트를 구비한 본 발명의 백라이트장치의 실시형태에 대해서 설명한다.[0052]
본 발명의 백라이트장치는, 적어도 본 발명의 광확산성 시트와 광원으로 구성된다. 백라이트장치 중에 있어서의[0053]
광확산성 시트의 방향은 특별히 제한되지는 않으나, 바람직하게는 요철면이 광출사면이 되도록 사용하였다. 백
라이트장치는, 광원의 배치 차이에 의해 에지라이트형과 직하형으로 나뉘나, 본 발명은 어느 것에도 적용할 수
있다.
에지라이트형 백라이트장치는, 도광판과, 도광판의 적어도 일단부에 배치된 광원과, 도광판의 광출사면측에 배[0054]
치된 광확산성 시트 등으로 구성된다. 여기서, 광확산성 시트는, 요철면이 광출사면이 되도록 사용하는 것이 바
람직하다. 또한, 도광판과 광확산성 시트 사이에 프리즘 시트를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성으로
함으로써, 정면휘도, 시야각의 균형이 우수한 백라이트장치로 할 수 있다.
도광판은 하나 이상의 측면을 광입사면으로 하고, 이것과 대략 직교하는 한쪽 면을 광출사면으로 하도록 형성된[0055]
대략 평판상으로 되는 것으로, 주로 폴리메틸메타크릴레이트 등의 고투명한 수지로부터 선택되는 매트릭스 수지
로 된다. 필요에 따라 매트릭스 수지와 굴절률이 상이한 수지입자가 첨가되어 있어도 된다. 도광판의 각 면은,
한결같은 평면이 아닌 복잡한 표면형상을 하고 있는 것이어도 되고, 도트 패턴 등의 확산인쇄가 되어 있어도 된
다.
광원은 도광판의 적어도 일단부에 배치되는 것으로, 주로 냉음극관, LED 광원 등이 사용된다. 광원의 형상으로[0056]
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서는 점상, 선상, L자상의 것 등을 들 수 있다.
에지라이트형 백라이트장치에는, 전술한 광확산성 시트, 도광판, 광원 외에, 목적에 따라 반사판, 편광 필름,[0057]
전자파 차폐 필름 등이 구비된다.
본 발명의 에지라이트형 백라이트장치의 일실시형태를 도 4에 나타낸다. 이 백라이트장치(140)는 도광판(141)의[0058]
양측에 광원(142)을 구비한 구성을 갖고, 도광판(141) 상측에, 볼록상 패턴을 갖는 면이 도광판과는 반대면이
되도록 광확산성 시트(143)가 재치(載置)되어 있다. 광원(142)은 광원으로부터의 빛이 효율적으로 도광판(141)
에 입사되도록, 도광판(141)과 대향하는 부분을 제외하고 광원 리플렉터(144)로 덮여 있다. 또한 도광판(141)의
하측에는, 새시(145)에 수납된 반사판(146)이 구비되어 있다. 이것에 의해 도광판(141)의 광출사측과 반대측으
로 출사된 빛을 재차 도광판(141)에 되돌려, 도광판(141)의 광출사면으로부터의 출사광을 많게 하도록 하고 있
다.
직하형 백라이트장치는, 광확산성 시트와, 광확산성 시트의 광출사면과는 반대측 면에 순서대로 구비된, 광확산[0059]
재, 광원 등으로 구성된다. 여기서, 광확산성 시트는, 요철면이 광출사면이 되도록 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 광확산재와 광확산성 시트 사이에 프리즘 시트를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써,
정면휘도, 시야각의 균형이 우수한 백라이트장치로 할 수 있다.
광확산재는 광원의 패턴을 지우기 위한 것으로, 유백색의 수지판, 광원에 대응하는 부분에 도트 패턴을 형성한[0060]
투명 필름(라이팅 커튼) 외에, 투명기재 상에 요철의 광확산층을 갖는 소위 광확산 필름 등을 단독 도는 적절히
조합해서 사용할 수 있다.
광원은 전술한 에지라이트형 백라이트장치에 사용되는 것과 동일한 것을 사용할 수 있다. 또한, 직하형 백라이[0061]
트장치에는, 전술한 광확산성 시트, 광확산재, 광원 외에, 목적에 따라, 반사판, 편광 필름, 전자파 차폐 필름
등을 구비하고 있어도 된다.
본 발명의 직하형 백라이트장치의 일실시형태를 도 5에 나타낸다. 이 백라이트장치(150)는, 도시하는 바와[0062]
같이, 새시(155) 내에 수납한 반사판(156) 상에 광원(152)을 복수 배치하고, 그 위에 광확산재(157)를 매개로
하여, 광확산성 시트(153)가 재치된 구조를 가지고 있다.
본 발명의 백라이트장치는, 광원 또는 도광판으로부터 출사되는 빛을 확산하는 광확산성 시트로서, 이물질에 의[0063]
한 흠집이 발생하지 않는 본 발명의 광확산성 시트를 사용하기 때문에, 양호한 화상품질이 얻어진다.
실시예[0064]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가적으로 설명한다. 또한, 「부」,「%」는 특별히 나타내지 않는 한, 중량 기[0065]
준으로 한다.
1. 광확산성 시트의 제작[0066]
[실시예 1][0067]
하기 처방의 광확산층용 도포액을 혼합하여 교반한 후, 두께 100 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(루미러[0068]
T60:도오레사)으로 되는 지지체 상에, 건조 후의 두께가 27 ㎛가 되도록 바 코팅법으로 도포, 건조하여 광확산
층을 형성해, 실시예 1의 광확산성 시트를 얻었다.
<실시예 1의 광확산층용 도포액>[0069]
·아크릴폴리올 110부[0070]
(아크리딕 A-837: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0071]
·이소시아네이트계 경화제 22부[0072]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0073]
·아크릴 수지 입자 110부[0074]
(평균입경 15 ㎛, 변동계수 35%)[0075]
·초산부틸 200부[0076]
·메틸에틸케톤 200부[0077]
등록특허 10-1513762
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[실시예 2][0078]
실시예 1의 광확산층용 도포액을 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경하고, 건조 후의 두께가 29 ㎛가 되도[0079]
록 설계한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 광확산성 시트를 얻었다.
<실시예 2의 광확산층용 도포액>[0080]
·아크릴폴리올 162부[0081]
(아크리딕 52-668: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0082]
·이소시아네이트계 경화제 32부[0083]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0084]
·아크릴 수지 입자(테크폴리머 MBX-20: 세키스이 화성품공업사) 200부[0085]
(평균입경 20 ㎛, 변동계수 35%)[0086]
·초산부틸 220부[0087]
·메틸에틸케톤 220부[0088]
[실시예 3][0089]
실시예 2의 광확산층용 도포액의 아크릴 수지 입자의 첨가량을 210부로 변경하고, 건조 후의 두께가 35 ㎛가 되[0090]
도록 설계한 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 실시예 3의 광확산성 시트를 얻었다.
[실시예 4][0091]
실시예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광학산층용 도포액으로 변경하고, 건조 후의 두께가 20 ㎛가 되[0092]
도록 설계한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 4의 광확산성 시트를 얻었다.
<실시예 4의 광확산층용 도포액>[0093]
·아크릴폴리올 231부[0094]
(아크리딕 A-807: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0095]
·이소시아네이트계 경화제 45부[0096]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0097]
·아크릴 수지 입자 121부[0098]
(평균입경 10 ㎛, 변동계수 35%)[0099]
·실리콘 수지 입자 7.7부[0100]
(토스팔 130: 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬사)[0101]
(평균입경 3 ㎛, 변동계수 10%)[0102]
·초산부틸 230부[0103]
·메틸에틸케톤 230부[0104]
[비교예 1][0105]
실시예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경하고, 건조 후의 두께가 11 ㎛가 되[0106]
도록 설계한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 광확산성 시트를 얻었다.
<비교예 1의 광확산층용 도포액>[0107]
·아크릴폴리올 100부[0108]
(아크리딕 A-807: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0109]
·이소시아네이트계 경화제 20부[0110]
등록특허 10-1513762
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(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0111]
·아크릴 수지 입자 100부[0112]
(평균입경 8 ㎛, 변동계수 20%)[0113]
·초산부틸 180부[0114]
·메틸에틸케톤 180부[0115]
[비교예 2][0116]
비교예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하[0117]
게 하여 비교예 2의 광확산성 시트를 얻었다.
<비교예 2의 광학산층용 도포액>[0118]
·아크릴폴리올 162부[0119]
(아크리딕 A-807: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0120]
·이소시아네이트계 경화제 32부[0121]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0122]
·아크릴 수지 입자(케미스노 MX-1000: 소켄 화학사) 55부[0123]
(평균입경 10 ㎛, 변동계수 10%)[0124]
·실리콘 수지 입자 15부[0125]
(토스팔 130: 모멘티브·퍼포먼트·머티리얼즈·재팬사)[0126]
(평균입경 3 ㎛, 변동계수 10%)[0127]
·초산부틸 215부[0128]
·메틸에틸케톤 215부[0129]
[비교예 3][0130]
비교예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하[0131]
게 하여 비교예 3의 광확산성 시트를 얻었다.
<비교예 3의 광확산층용 도포액>[0132]
·아크릴폴리올 100부[0133]
(아크리딕 A-807: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0134]
·이소시아네이트계 경화제 20부[0135]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0136]
·아크릴 수지 입자(테크폴리머 MBX-8: 세키스이 화성품공업사) 100부[0137]
(평균입경 7 ㎛, 변동계수 40%)[0138]
·초산부틸 180부[0139]
·메틸에틸케톤 180부[0140]
[비교예 4][0141]
실시예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경하고, 건조 후의 두께가 23 ㎛가 되[0142]
도록 설계한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 4의 광확산성 시트를 얻었다.
<비교예 4의 광확산층용 도포액>[0143]
등록특허 10-1513762
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·아크릴폴리올 100부[0144]
(아크리딕 A-807: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0145]
·이소시아네이트계 경화제 20부[0146]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0147]
·아크릴 수지 입자 12.5부[0148]
(평균입경 20 ㎛, 변동계수 10%)[0149]
·아크릴 수지 입자 100부[0150]
(평균입경 8 ㎛, 변동계수 20%)[0151]
·초산부틸 180부[0152]
·메틸에틸케톤 180부[0153]
[비교예 5][0154]
실시예 1의 광확산층용 도포액을, 하기 처방의 광확산층용 도포액으로 변경하고, 건조 후의 두께가 25 ㎛가 되[0155]
도록 설계한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 5의 광확산성 시트를 얻었다.
<비교예 5의 광확산층용 도포액>[0156]
·아크릴폴리올 123부[0157]
(아크리딕 A-817: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0158]
·아크릴폴리올 123부[0159]
(아크리딕 A-811: 다이닛폰 잉크 화학공업사, 고형분 50%)[0160]
·이소시아네이트계 경화제 45부[0161]
(다케네이트 D110N: 미쯔이 화학 폴리우레탄사, 고형분 60%)[0162]
·아크릴 수지 입자 330부[0163]
(폴리메틸메타크릴레이트 진구상 입자)[0164]
(평균입경 20 ㎛, 변동계수 22%)[0165]
·초산부틸 425부[0166]
·메틸에틸케톤 285부[0167]
2. 광확산성 시트의 광확산층의 3차원 표면형상의 측정[0168]
실시예 1~4 및 비교예 1~5에서 제작한 광확산성 시트의 광확산층의 표면형상에 대해서, 촉침식 표면형상 측정기[0169]
(SAS-2010 SAU-II: 메이신공기사, 선단 반경 5 ㎛, 재질 다이아몬드, 측정력 0.8 mN)를 사용하여, 임의로 10개
소 3차원 표면형상 측정을 행하여, 이들 10개소의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)의 평균값을 얻었다. 측정
결과를 표 1에 나타낸다.
3. 광확산성 시트의 평가[0170]
(1) 광확산성[0171]
13.3인치의 에지라이트형 액정 백라이트 유닛(선상 램프 1개, 5 ㎜ 두께의 도광판)에, 실시예 1~4 및 비교예[0172]
1~5의 광확산성 시트를, 그 지지체가 도광판과 대향하도록 삽입하였다. 여기서, 광확산성의 평가로서, 도광판의
광확산 패턴의 소거성에 대해서 육안으로 평가하여, 도광판의 광확산 패턴을 시인(視認)할 수 없었던 것을 「○
」, 시인할 수 있었던 것을 「×」로 하였다. 측정결과를 표 1에 나타낸다.
(2) 흠집 발생 방지성[0173]
실시예 1~4 및 비교예 1~5의 광확산성 시트를 각각 100매 준비하고, 100매 겹친 것을 실시예 1~4 및 비교예 1~5[0174]
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마다 각각 폴리에틸렌봉지에 포장하고, 2매의 후지(厚紙) 사이에 끼운 후, 추가적으로 라미네이트지로
포장하여, 골판지에 곤포(梱包)하였다. 다음으로, 골판지상자를, 미에-도쿄간(거리: 약 600 ㎞, 주행시속: 평균
80 ㎞/시)을 트럭으로 반송하고, 도쿄-타이완간(비행시간: 약 3시간)을 비행기로 왕복 반송한 후, 추가적으로
도쿄-미에간(상기와 동일한 거리, 주행속도)을 트럭으로 반송하였다. 그 후, 실시예 1~4 및 비교예 1~5의 광확
산성 시트의 요철면과, 이에 대향하는 광확산성 시트의 평활면을 육안으로 관찰했을 때, 표면의 흠집이 눈에 띄
지 않는 것을 「◎」, 약간 흠집이 발생하였으나 거의 눈에 띄지 않는 것을 「○」, 흠집이 눈에 띈 것을「×」
로 하였다. 측정결과를 표 1에 나타낸다.
표 1
[0175]
표 1에 있어서의 「ø/d」는 미립자의 평균입경 ø와, 광확산층의 두께 d의 관계를 나타낸다. 또한, 실시예 4,[0176]
비교예 2 및 4와 같이, 미립자를 2종류 사용한 것에 관해서는, 각각의 관계에 대해서 나타낸다.
표 1에 나타내는 바와 같이, 실시예 1~4의 광확산성 시트는, 광확산층의 요철면이, 3차원 표면형상 측정에 있어[0177]
서의 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 이상이고, 광확산층 중에 포함되는 미립자의 평균입경 ø와
광확산층의 두께 d가,
ø/d≤0.7[0178]
의 관계를 충족시키고 있었다(실시예 4에 관해서는 모든 미립자에 대해서 관계를 충족시킨다). 이 때문에, 광확[0179]
산성능을 발휘하면서, 광확산성 시트의 요철면, 및 이에 대향하는 광확산성 시트의 평활면에 이물질에 의한 흠
집이 육안으로 거의 눈에 띄지 않았다.
특히, 실시예 1~3의 광확산성 시트는, 광확산층의 요철면이 거칠기 곡선의 최대 피크 높이(Rp)가 9.0 ㎛ 이상인[0180]
것으로부터, 이물질에 의한 흠집이 육안으로 특별히 눈에 띄지 않았다.
한편, 비교예 1~3의 광확산성 시트는, 광학산층의 요철면이, 3차원 표면형상 측정에 있어서의 거칠기 곡선의 최[0181]
대 피크 높이(Rp)가 8.0 ㎛ 미만이고, 비교예 1, 2, 4 및 5의 광확산성 시트는, 광학산층 중에 포함되는 미립자
의 평균입경 ø와, 광확산층의 두께 d가,
ø/d≤0.7[0182]
의 관계를 충족시키지 않았다. 이 때문에, 비교예 1~5의 광확산성 시트는, 광확산성능은 발휘하나, 광확산성 시[0183]
트의 요철면, 및 이에 대향하는 광확산성 시트의 평활면에, 이물질에 의한 흠집이 육안으로 눈에 띄는
것이었다.
4. 백라이트장치의 제작 및 평가[0184]
다음으로, 실시예 1~4 및 비교예 1~5의 광확산성 시트를 15인치의 에지라이트형 백라이트장치(냉음극관 상하 각[0185]
1등)에 삽입하여, 실시예 1~4 및 비교예 1~5의 백라이트장치를 제작하였다.
등록특허 10-1513762
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이러한 실시예 1~4의 광확산성 시트를 삽입한 실시예 1~4의 백라이트장치는, 광확산성을 발휘하면서, 광확산성[0186]
시트의 요철면, 및 이에 대향하는 광확산성 시트의 평활면에 이물질에 의한 흠집이 발생하지 않는 광확산성 시
트를 사용하였기 때문에, 장시간 사용해도 화상품질이 양호한 것이 되었다.
또한, 이러한 비교예 1~5의 광확산성 시트를 삽입한 비교예 1~5의 백라이트장치는, 광확산성은 발휘하나, 광확[0187]
산성 시트의 요철면, 및 이에 대향하는 광확산성 시트의 평활면에 이물질에 의한 흠집이 발생하는 광확산성 시
트를 사용하였기 때문에, 경시적으로 화상품질이 저하되는 것이 되었다.
도면
도면1
도면2
도면3
도면4
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도면5
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